Hielscher Ultrasonics
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超音波分散によるナノ補強セメントモルタル

超音波処理は、セメントペーストやモルタル中のグラフェン、CNT、ナノ材料の分散、剥離、解凝集を改善します。Hielscherの超音波処理装置は、研究開発から工業生産まで、高性能セメントの配合を可能にします。

ナノ補強セメントモルタル – 超音波処理による分散と解凝集の改善

ナノ補強セメントモルタルやセメントペーストは、高性能な建設材料を実現するための有力な手段です。グラフェン、酸化グラフェン、カーボンナノチューブ(CNT)、ナノシリカ、ナノクレイ、その他の機能性フィラーなどのナノ材料を組み込むことで、セメント系材料の機械的強度、耐ひび割れ性、耐久性、電気伝導性の向上、透過性の低減、長期性能の向上を図ることができます。
課題: セメント系におけるナノ材料の潜在能力を最大限に引き出せるのは、粒子が均一に分散している場合に限られます。グラフェンシート、CNTの束、その他のナノ添加剤は、強いファンデルワールス力、高い表面エネルギー、絡み合いによって凝集体を形成しやすい傾向があります。従来の撹拌、ローター・ステーター式混合、単純な粉体混合では、これらの凝集体を十分にほぐせないことがよくあります。その結果、分布の不均一、モルタルマトリックス内の弱い箇所、高価なナノ材料の非効率な利用、材料特性のばらつきが生じます。
解決策: Hielscherのプローブ型超音波処理装置は、セメントペースト、モルタル配合物、前駆体懸濁液に含まれるナノ材料の分散、剥離、解凝集、機能的な絡み合いの形成に対し、効率的でスケールアップが可能な、工業用途で実証済みの解決策を提供します。Hielscherは、実験室での実現可能性検討から工業規模の連続生産まで、液体処理用の超音波プロセッサーを開発・製造しており、小型の実験室用システムから高出力の工業用装置へのスケールアップを想定した製品群を展開しています。

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高性能超音波処理装置UIP16000hdTは、セメントペーストやモルタル中のナノ材料(例:グラフェン、CNT)を大量に分散させ、強度と延性を改善するための工業用超音波処理装置です

工業用超音波処理装置UIP16000hdT によるセメントペースト中のナノ材料の高処理能力分散

セメントモルタルでナノ材料の分散が重要な理由

ナノ材料は、非常に小さな長さスケールでセメントマトリックスと相互作用するため、セメント系複合材料を大幅に改善できます。適切に分散したグラフェン、CNT、その他のナノフィラーは、核生成サイトとして作用し、微細ひび割れを架橋し、細孔構造を微細化し、硬化したマトリックス内の荷重伝達を改善できます。
実際には、性能はナノ材料の公称添加量よりも、分散の質に大きく左右されます。十分に分散した少量のグラフェンやCNTが、分散不良の材料をより多量に使用した場合を上回る性能を示すことがあります。凝集体は補強材ではなく欠陥として作用します。施工性を低下させ、応力集中を生み、添加剤の有効表面積を制限します。
超音波分散は、この配合上の中心的な課題に対処します。高強度超音波は、音響キャビテーションを通じて、局所的な強いせん断力、微小混合、衝撃波、液体マイクロジェットを発生させます。これらの作用により、束状のナノ材料が分離し、粒子表面が濡れ、セメント粉末、ペースト、モルタルに組み込まれる前に、液相全体に均一に分布します。

グラフェン、CNT、ナノ添加剤の超音波解凝集

グラフェンナノプレートレット、酸化グラフェン、還元酸化グラフェン、カーボンナノチューブは、先進的なセメント系材料にとって特に魅力的な材料です。引張強度、曲げ強度、破壊靱性、電気伝導性、熱的挙動、耐久性の向上に寄与できます。一方で、これらは分散が最も難しい添加剤の一部でもあります。
超音波キャビテーションは、ナノスケールの構造間に働く引力を克服するのに役立ちます。超音波処理中の液体では、キャビテーション気泡の崩壊によって、局所的に強いエネルギー投入が生じます。これにより、粒子の集合体をほぐし、CNTの束を分離し、層状材料を剥離し、ナノフィラーの分布を改善できます。

ナノ補強モルタルの製造における主な超音波作用には、次のものがあります。

  • 解凝集: グラフェン、CNT、ナノシリカ、ハイブリッド添加剤の集合体をほぐし、より小さく、より均一な粒子分布にします。
  • 分散: 水、可塑剤溶液、混和剤の混合物、セメント系スラリー中にナノ材料を均一に分布させます。
  • 剥離: グラファイト、グラフェンナノプレートレット、クレイなどの層状材料を、有効表面積のより大きい薄いシートに分離します。
  • 濡れと活性化: ナノ材料表面と液体の接触を改善し、セメント水和物や混和剤との相互作用を高めます。
  • 絡み合いとネットワーク形成: ひび割れ架橋、伝導性、構造的機能性を高めることができる、分散したCNTやグラフェンのネットワーク形成を支援します。
  • 再現性: 実験室での試験から生産規模まで、一貫した配合を実現するための制御されたプロセス条件を作り出します。

 

ポリエチレングリコール(PEG)中へのCNTの分散 – Hielscher Ultrasonics超音波で合成したナノ流体は、効率的な冷却液や熱交換用流体として機能します。熱伝導性ナノ材料は、伝熱能力と放熱能力を大幅に高めます。超音波処理は、熱伝導性ナノ粒子の合成や機能化、冷却用途向けの安定した高性能ナノ流体の製造に広く用いられています。
超音波で合成したナノ流体は、効率的な冷却液や熱交換用流体として機能します。熱伝導性ナノ材料は、伝熱能力と放熱能力を大幅に高めます。超音波処理は、熱伝導性ナノ粒子の合成や機能化、冷却用途向けの安定した高性能ナノ流体の製造に広く用いられています。

 

セメントペーストとモルタルにおける超音波分散の利点

超音波処理の経済的・技術的価値は、高性能セメントの製造において特に大きくなります。ナノ材料は高価な場合が多く、その効果は効率的に使用できるかどうかに左右されます。超音波処理によって分散の質が向上すると、配合開発者は多くの場合、過剰添加を減らし、再現性を高め、添加剤のキログラム当たりの性能を向上させることができます。

先進的なモルタル、補修材、プレキャスト部材、3Dプリント可能なセメント系材料、特殊建設用化学品の製造者にとって、超音波処理は次のことに役立ちます。

  • ナノフィラーの分布改善による圧縮、曲げ、引張性能の向上。
  • より効果的な微細補強による耐ひび割れ性と靱性の向上。
  • 細孔構造の微細化による透過性の低減と耐久性の向上。
  • バッチ間の材料品質のばらつきの低減。
  • 高価なグラフェン、CNT、その他のナノ添加剤の利用効率の向上。
  • 配合スクリーニングとプロセス最適化の迅速化。
  • 実験室での開発から工業規模の連続処理までスケールアップできる生産。
  • 振幅、エネルギー投入量、流量、温度、滞留時間などのプロセスパラメーターの制御改善。

Hielscherの超音波処理装置は、液体、懸濁液、スラリーへのエネルギー伝達を測定可能かつ再現可能にするよう設計されています。出力クラスが異なっても同じ基本的な超音波処理機構を使用できるため、お客様は小規模でプロセスパラメーターを開発し、その後、より大型の卓上型、パイロット規模、工業用システムへ移行できます。

 

セメントペースト(Figure 7)では、CNTで補強した試料は、CNT含有量が0.2%から1.2%へ増えるにつれて、熱減衰曲線が次第に急になり、その減衰がより早く現れました。一方、GNP改質セメントペーストでは、熱応答の変化がより緩やかでした。GNP濃度の増加によっても、無添加試料と比較して温度低下が速くなりましたが、その効果はより弱く、濃度間でより均一でした。

(a) CNTおよび(b) GNPで補強したナノ改質セメントペーストの赤外線サーモグラム。CNTとグラフェンは超音波処理装置UP400Sで分散させました。
研究およびグラフ:©Farmaki et al., 2025

 

セメント添加前の超音波処理:推奨されるプロセス経路

多くのナノ補強セメント配合では、まず液相中にナノ材料を分散させる方法が最も効果的です。この液相には、水、高性能減水剤溶液、界面活性剤を含む分散剤、ポリマー混和剤、シリカゾル、モルタル配合のその他の液体成分を使用できます。
一般的な超音波プロセス経路は次のとおりです。

  1. グラフェン、CNT、その他のナノ材料を液相に添加します。
  2. 適度に混合しながら、粉末またはナノフィラーをあらかじめ濡らします。
  3. 高強度の超音波処理を行い、材料を解凝集・分散させます。
  4. 必要に応じて温度を制御します。
  5. 超音波処理したナノ分散液を、セメント、砂、その他のモルタル成分に添加します。
  6. 最終的なペーストまたはモルタルのコンシステンシーになるまで混合します。

この経路では、ナノ粒子をセメント粉末に乾式混合する場合よりも良好な制御が可能です。また、水和と凝結が始まる前に、ナノ材料がすでに分離し、濡れ、均一に分布している可能性も高まります。

プローブ型超音波処理装置UP400Stを使用すると、セメントグラウトをナノスケールまで効率的に分散できます。

プローブ型超音波処理装置UP400St による超微粒子セメントグラウトの分散
(研究および画像:©Draganovic et al., 2020)

高性能セメント製造の経済的利点

ナノ添加剤は高価な場合があり、その使用には測定可能な性能向上による裏付けが必要です。分散不良は材料の無駄につながります。凝集したグラフェンやCNTは、期待される補強効果をもたらさずに配合コストを増加させます。一方、超音波分散はナノ材料の有効利用を改善します。
経済的利点には、次のものがあります。

  • 添加剤の無駄の低減: ナノ材料が凝集体に閉じ込められたままになるのではなく、より多くのナノ材料が性能に寄与します。
  • 配合リスクの低減: 一貫した分散によって、不良バッチや不安定な試験結果が減少します。
  • 研究開発サイクルの迅速化: 制御された超音波処理パラメーターを用いて、配合をスクリーニングできます。
  • スケールアップの改善: 実現可能性試験で得たプロセスパラメーターを工業用装置に移行できます。
  • より高付加価値な製品: より強く、耐久性と機能性に優れたモルタルが、高付加価値用途に対応します。
  • 連続生産の可能性: インライン超音波処理により、商業生産で高処理能力の処理が可能になります。

製造者にとっての重要な価値は、分散の質の改善だけではありません。ナノ補強セメントを、実験室での概念から、制御可能でスケールアップ可能な生産プロセスへと転換できることにあります。

実験室での配合開発から工業規模のセメント製造へ

Hielscherの超音波技術の大きな利点は、実用的なスケールアップ経路があることです。ナノ補強セメントの配合は卓上規模で開発し、基本的な処理原理を変えずに、より大型のシステムへ移行できます。製造者は、生産用に分散プロセスを一から開発し直す代わりに、超音波出力、フローセルの形状、滞留時間、リアクター構成をスケールアップできます。
これにより、技術的リスクが低減します。また、成功したモルタル試料から、商用の高性能セメント製品に至るまでの道のりも短縮されます。

一般的なスケールアップのワークフローには、次の手順があります。

  1. 目標とするモルタル性能とナノ材料系を定義します。
  2. グラフェン、CNT、ナノシリカ、ハイブリッド添加剤をスクリーニングします。
  3. 必要な超音波処理強度とエネルギー投入量を決定します。
  4. 分散媒、混和剤、温度制御を最適化します。
  5. UIP1000hdTまたはUIP2000hdTシステムで試験バッチを製造します。
  6. 強度、施工性、耐久性などのモルタル特性を検証します。
  7. 生産に向けて、プロセスをUIP6000hdTまたはUIP16000hdTのクラスターに移行します。
  8. インライン超音波処理を連続製造に組み込みます。
超音波ナノ分散 – 超音波処理装置UP400StHielscherの超音波処理装置UP400Stが、炭素粉末と水を安定したナノ分散液に変える様子をご覧ください。強力な超音波と音響キャビテーションにより、迅速な粒子微細化、均一な解凝集、再現性の高い結果を実現します。他の実験室用分散装置と比べ、Hielscherの超音波処理装置は線形スケールアップが可能で、ナノ分散液のフロー式工業生産へ円滑かつ再現性を保って移行できます。Hielscherの超音波処理装置は、研究、分析、工業生産において、信頼性の高いマイクロサイズおよびナノサイズの分散液を得るために欠かせない装置です。

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高性能セメントには高品質な分散が必要

セメント技術の将来は、新しい結合材の化学だけに基づくものではありません。微細構造、機能性添加剤、処理のより良い制御にも左右されます。グラフェンやCNTなどのナノ材料は、より強く、靱性が高く、スマートで、耐久性に優れたセメント系材料の製造に役立ちます。ただし、そのためには信頼性の高い分散が必要です。
Hielscherの超音波処理装置は、セメント製造者、建設用化学品メーカー、研究機関に、ナノ添加剤処理のためのスケールアップ可能なツールを提供します。初期段階の配合開発から高処理能力のインライン生産まで、超音波処理は、セメントペーストやモルタル中のナノ材料の分散、剥離、解凝集、機能的な構造形成を改善します。
高性能セメントの製造において、超音波処理は明確な利点をもたらします。材料性能の向上、高価なナノ添加剤のより効率的な利用、実験室での成功から工業生産への直接的な経路です。

以下の表は、当社の超音波処理装置のおおよその処理能力の目安を示しています。

バッチ容量 流量 推奨装置
10–2000mL 20–400mL/min UP400St
0.1–20L 0.2–4L/min UIP2000hdT
10–100L 2–10L/min UIP4000hdT
15–150L 3–15L/min UIP6000hdT
該当なし 10–100L/min UIP16000hdT
該当なし より大きい流量 クラスター構成の UIP16000hdT

詳しい情報をお求めください

セメントモルタル中のナノ材料の分散に使用する超音波処理装置、技術仕様、価格に関する詳しい情報をご希望の場合は、下記のフォームをご利用ください。ナノ材料で補強したセメントの配合についてお客様とご相談し、セメント製造に最適な超音波処理装置をご提案いたします。





研究、実現可能性試験、生産向けのHielscher超音波処理装置

Hielscherは、実験室用、卓上型、パイロット規模、工業用の各出力クラスにわたる超音波プロセッサーを提供しています。ナノ補強配合は多くの場合、初期の材料スクリーニング、分散パラメーターの開発、モルタル試験、パイロットバッチ、工業生産という複数の段階を経る必要があるため、これはセメントやモルタルの開発者にとって不可欠です。
Hielscherの製品群は、スケールアップ可能な超音波処理を中心に構成されており、実験室での開発、パイロット規模および卓上での試験、過酷な条件下での工業運転、フローセルとリアクターを使用した連続インライン生産のためのシステムを備えています。

卓上での研究と実現可能性試験向けのUIP1000hdTおよびUIP2000hdT

UIP1000hdTとUIP2000hdTは、配合開発、実現可能性研究、中規模処理のための強力な卓上型超音波プロセッサーです。研究者がナノ材料の種類、濃度、分散剤の化学的特性、超音波処理強度、処理時間、温度制御を試験する必要がある、ナノ補強セメントの配合開発に適しています。

これらのシステムは、次の用途に最適です。

  • 水または混和剤溶液中でのグラフェンとCNTの分散。
  • ナノ補強セメントペーストの実現可能性試験。
  • 超音波処理のエネルギー投入量の最適化。
  • 再現性のある試験バッチの調製。
  • 高性能モルタルの配合開発。
  • フローセル構成による小規模な連続処理。
  • 工業生産前のスケールアップ検証。

研究開発チームにとって、UIP1000hdTとUIP2000hdTは、処理の難しいナノ材料に必要な処理強度を提供すると同時に、実験室、技術センター、パイロット環境で実用的な装置構成を維持します。

 

 

高処理能力の生産向けのUIP6000hdTおよびUIP16000hdTクラスター

グラフェンのインライン剥離のための、6kWの強力な超音波プロセッサーである超音波処理装置UIP6000hdTナノ補強セメント添加剤、ナノ分散液、高性能モルタル成分を商業規模で製造する場合、UIP6000hdTやUIP16000hdTなどのHielscher工業用超音波処理装置をクラスター構成にすることで、高処理能力の連続処理に対応できます。
UIP6000hdTまたはUIP16000hdTのユニットを組み合わせたクラスターにより、製造者は超音波エネルギー投入量を制御した状態で、処理能力を高めることができます。このモジュール式のアプローチは、生産量がパイロット規模から本格的な製造規模へと増える場合に特に有用です。

工業用構成は、次の用途に対応します。

  • グラフェン、CNT、ナノ添加剤の連続インライン分散。
  • ナノ材料のマスター分散液の高処理能力処理。
  • セメント混和剤または乾式混合モルタルの生産ラインへの組み込み。
  • 処理能力を高めるための超音波リアクターの並列運転。
  • 24/7の生産に耐える堅牢な運転環境。
  • 一貫した製品品質を実現するためのプロセス制御と監視。

Hielscherの工業用システムは、厳しい条件下での連続運転に対応しており、装置当たり最大16 kWの高出力ユニットが用意されています。

高せん断超音波ホモジナイザーは、実験室、卓上、パイロット、工業規模の処理に使用されます。

Hielscher Ultrasonicsは、実験室、パイロット、工業規模での混合用途、分散、乳化、抽出のための高性能超音波ホモジナイザーを製造しています。



よくある質問

セメントとモルタルをナノ材料で補強するのはなぜですか?

セメントとモルタルをナノ材料で補強するのは、微細構造レベルで機械的性能、耐久性能、機能的性能を改善するためです。超音波処理は、セメントペースト中にナノ材料を均一に分散させ、水和、強度、耐久性において最適な結果を実現します。セメントとモルタルをナノ材料で補強するのは、微細構造レベルで機械的性能、耐久性能、機能的性能を改善するためです。グラフェン、カーボンナノチューブ、ナノシリカ、ナノクレイ、金属酸化物ナノ粒子などのナノ材料は、ナノスケールの細孔を充填し、セメント水和生成物の核生成サイトを提供し、硬化したマトリックスの充填密度を改善できます。
ナノ材料は比表面積とアスペクト比が高いため、荷重伝達を高め、微細ひび割れを架橋し、ひび割れの進展を遅らせることができます。これにより、圧縮強度、曲げ強度、引張抵抗、破壊靱性、耐摩耗性を向上させることができます。
ナノ材料は、セメント系材料の細孔構造も改質します。より緻密で微細化された細孔ネットワークは、透過性、吸水、塩化物の浸入、中性化、化学的侵食を低減します。これにより、耐久性が向上し、供用期間が延びます。
一部のナノ材料は、機械的な補強を超える機能的特性を付与します。グラフェンとカーボンナノチューブは、電気伝導性と熱伝導性を改善でき、自己検知型セメント、構造健全性モニタリング、帯電防止材料、電磁遮蔽、スマートインフラ用途を可能にします。
実用面では、ナノ補強によって、セメントやモルタルの製造者は、結合材使用量に対する強度効率、耐久性、付加的な機能性を改善した、より高性能な材料を配合できます。重要な要件は均一な分散です。凝集したナノ材料は、補強材ではなく欠陥として作用するためです。

セメントペーストの熱応答はセメント品質とどのように関係しますか?

セメントが水と反応すると、水和反応によって熱が放出されます。赤外線サーモグラフィーは、ペーストの表面温度の時間変化を記録するため、得られる熱曲線はセメント系の実用的な指紋として機能します。最近の研究では、赤外線サーモグラフィーは、等温熱量測定との強い相関を示しながら水和曲線を追跡し、凝結時間を予測でき、さらに現場への適応性が高く、非侵襲的であることが示されています。
セメント品質にとって最も関連性の高いパラメーターは、次のとおりです。

  • 水和の開始:水を添加した後、結合材がどれほど速く反応を開始するかを示します。
  • 温度上昇速度:水和反応速度と初期反応性を示します。
  • 最高温度:発熱の強さを反映し、セメントの粉末度、クリンカーの相組成、補助的セメント系材料、混和剤の添加量の違いを明らかにできる場合があります。
  • 温度ピークまでの時間:凝結時間と初期強度の発現に関係します。
  • 試料全体の温度の均一性:混合不良、材料分離、凝集体、水の分布のばらつき、添加剤の不均一な分散を明らかにします。
  • バッチ間の比較:セメント品質、混和剤の適合性、水セメント比の変動、配合ミスを検出できます。

品質管理では、赤外線サーモグラフィーは非破壊、非接触で、視覚的に直感的に理解できるため、特に有用です。

ナノ材料の超音波剥離とは何ですか?

単純な分散に加えて、超音波はナノ材料の剥離にも使用できます。これは、グラファイト、グラフェンナノプレートレット、積層した酸化グラフェン、ナノクレイなどの層状ナノ材料に特に適しています。剥離は有効表面積を増加させ、セメント系マトリックス内での材料の補強効果を改善できる場合があります。
セメント用途では、剥離したグラフェンプレートレットは、水和生成物との相互作用を改善し、微細構造の発達により強く影響します。これは、次の用途に関係します。

  • グラフェンで性能を高めたセメントペースト
  • 酸化グラフェン改質モルタル
  • ナノクレイ補強セメント系材料
  • グラフェンとCNTのハイブリッド系
  • 導電性セメント複合材料
  • 高強度および超高性能セメント系複合材料

超音波によるグラフェン剥離について詳しくはこちら!

超音波によるCNTの分布と絡み合いの形成にはどのような利点がありますか?

相変化材料(PCM)のナノ分散とナノカプセル化は、エネルギー貯蔵における有効性を改善します。超音波処理装置は、ナノ分散とナノカプセル化に最も効果的なツールです。カーボンナノチューブは非常に効果的なナノ補強材ですが、CNTは自然に束や絡み合った凝集体を形成するため、分散が困難です。超音波処理は、束を分離し、液相全体にCNTを分布させることができます。適切に制御すると、超音波処理は、孤立した塊ではなく、モルタルマトリックス内に機能的なナノチューブネットワークを形成するのに役立ちます。
これは、セメントの機械的用途と機能的用途の両方にとって重要です。分散したCNTネットワークは、ひび割れ架橋、電気伝導性、ピエゾ抵抗による検知挙動、スマートセメント系材料に寄与できます。例えば、CNT改質モルタルは、構造健全性モニタリング、自己検知型コンクリート、導電性補修材、先進的なプレキャスト部材に使用できる場合があります。
目的は、単にCNTを「混ぜ込む」ことではなく、セメントマトリックス内での位置と相互作用を設計することです。超音波分散は、配合開発者に、この構造を調整するための実用的なツールを提供します。
超音波によるCNT分散について詳しくはこちら!

 

文献 / 参考資料

Hielscher Ultrasonicsが選ばれる理由

  • 高い効率
  • 最先端技術
  • 信頼性と堅牢性
  • 調整可能で精密なプロセス制御
  • バッチ処理とインライン処理
  • あらゆる容量に対応
  • インテリジェントなソフトウェア
  • スマートな機能(例:プログラム設定、データ記録、遠隔制御)
  • 容易で安全な操作
  • メンテナンスの負担が少ない
  • CIP(定置洗浄)

お客様のプロセスについてお気軽にご相談ください。

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