बैटरी उत्पादन के लिए इलेक्ट्रोड सामग्री का सोनोकेमिकल संश्लेषण

उच्च प्रदर्शन बैटरी कोशिकाओं के उत्पादन में, नैनोस्ट्रक्चर्ड सामग्री और नैनोकंपोजिट बेहतर विद्युत चालकता, उच्च भंडारण घनत्व, उच्च क्षमता और विश्वसनीयता प्रदान करने में महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं। नैनोमटेरियल्स की पूर्ण कार्यक्षमता प्राप्त करने के लिए, नैनो-कणों को व्यक्तिगत रूप से फैलाया या एक्सफोलिएट किया जाना चाहिए और कार्यात्मककरण जैसे आगे प्रसंस्करण चरणों की आवश्यकता हो सकती है। अल्ट्रासोनिक नैनो-प्रसंस्करण उन्नत बैटरी उत्पादन के लिए उच्च प्रदर्शन नैनोमैटेरियल्स और नैनोकंपोजिट का उत्पादन करने के लिए बेहतर, प्रभावोत्पादक और विश्वसनीय तकनीक है।

इलेक्ट्रोड स्लरी में इलेक्ट्रोकेमिकल रूप से सक्रिय सामग्री का अल्ट्रासोनिक फैलाव

नैनोमैटेरियल्स का उपयोग अभिनव इलेक्ट्रोड सामग्री के रूप में किया जाता है, जिसके परिणामस्वरूप रिचार्जेबल बैटरी के प्रदर्शन में काफी वृद्धि हुई है। इलेक्ट्रोड निर्माण के लिए घोल की तैयारी के लिए समूह, एकत्रीकरण और चरण पृथक्करण पर काबू पाना महत्वपूर्ण है, खासकर जब नैनो आकार की सामग्री शामिल होती है। नैनोमटेरियल्स बैटरी इलेक्ट्रोड के सक्रिय सतह क्षेत्र को बढ़ाते हैं, जो उन्हें चार्जिंग चक्रों के दौरान अधिक ऊर्जा को अवशोषित करने और उनकी समग्र ऊर्जा भंडारण क्षमता को बढ़ाने की अनुमति देता है। नैनोमैटेरियल्स का पूरा लाभ प्राप्त करने के लिए, इन नैनो-संरचित कणों को डी-एंटेंगल किया जाना चाहिए और इलेक्ट्रोड घोल में अलग-अलग कणों के रूप में वितरित किया जाना चाहिए। अल्ट्रासोनिक फैलाव तकनीक केंद्रित उच्च-कतरनी (सोनोमेचनिकल) बलों के साथ-साथ सोनोकेमिकल ऊर्जा प्रदान करती है, जो परमाणु स्तर के मिश्रण और नैनो-आकार की सामग्री की जटिलता की ओर ले जाती है।
नैनो-कणों जैसे ग्राफीन, कार्बन नैनोट्यूब (सीएनटी), धातु, और दुर्लभ पृथ्वी खनिजों को अत्यधिक कार्यात्मक इलेक्ट्रोड सामग्री प्राप्त करने के लिए समान रूप से एक स्थिर घोल में फैलाया जाना चाहिए।
उदाहरण के लिए, ग्राफीन और सीएनटी बैटरी सेल के प्रदर्शन को बढ़ाने के लिए अच्छी तरह से जाने जाते हैं, लेकिन कण ढेर को दूर किया जाना चाहिए। इसका मतलब है, एक उच्च-प्रदर्शन फैलाव तकनीक, जो नैनोमटेरियल्स और संभवतः उच्च चिपचिपाहट को संसाधित करने में सक्षम है, बिल्कुल आवश्यक है। प्रोब-प्रकार अल्ट्रासोनिकेटर उच्च-प्रदर्शन फैलाने वाली विधि है, जो उच्च ठोस भार पर भी नैनोमटेरियल्स को मज़बूती से और प्रभावोत्पादक रूप से संसाधित कर सकती है।

अल्ट्रासोनिक नैनो-आकार और कणों का कार्यात्मककरण उच्च प्रदर्शन बैटरी उत्पादन में एक महत्वपूर्ण प्रक्रिया है।

नैनोमटेरियल प्रसंस्करण के लिए उच्च शक्ति अल्ट्रासोनिक प्रवाह-थ्रू प्रणाली। उच्च प्रदर्शन नैनोमैटेरियल्स का उपयोग बैटरी कोशिकाओं में सक्रिय इलेक्ट्रोड सामग्री के रूप में किया जाता है।

बैटरी के लिए अल्ट्रासोनिक नैनोमटेरियल प्रसंस्करण:

नैनोस्फीयर, नैनोट्यूब, नैनोवायर, नैनोरोड्स, नैनोव्हिस्कर्स का फैलाव
नैनोशीट्स और 2 डी सामग्री का छूटना
नैनोकंपोजिट का संश्लेषण
कोर-शेल कणों का संश्लेषण
नैनोकणों का कार्यात्मककरण (डोप्ड/सजाए गए कण)
नैनो-संरचना

नैनोमटेरियल प्रोसेसिंग के लिए सोनिकेशन सुपीरियर तकनीक क्यों है?

जब अन्य फैलाव और मिश्रण तकनीक जैसे उच्च-कतरनी मिक्सर, मनका मिलों या उच्च दबाव वाले होमोजेनाइज़र अपनी सीमा पर आते हैं, तो अल्ट्रासोनिकेशन वह विधि है जो माइक्रोन- और नैनो-कणों प्रसंस्करण के लिए खड़ी होती है।
उच्च-शक्ति अल्ट्रासाउंड और अल्ट्रासोनिक रूप से उत्पन्न ध्वनिक कैविटेशन अद्वितीय ऊर्जा की स्थिति और अत्यधिक ऊर्जा-घनत्व प्रदान करते हैं जो नैनोमटेरियल्स को डीग्लोमरेट या एक्सफोलिएट करने की अनुमति देता है, उन्हें कार्यात्मक बनाने के लिए, नीचे-ऊपर की प्रक्रियाओं में नैनोस्ट्रक्चर को संश्लेषित करता है, और उच्च प्रदर्शन नैनोकंपोजिट तैयार करता है।
चूंकि Hielscher अल्ट्रासोनिकेटर तीव्रता (Ws/mL), आयाम (μm), तापमान (ºC/ºF) और दबाव (बार) जैसे सबसे महत्वपूर्ण अल्ट्रासोनिक प्रसंस्करण मापदंडों के सटीक नियंत्रण की अनुमति देते हैं, प्रसंस्करण की स्थिति को व्यक्तिगत रूप से इष्टतम सेटिंग्स के लिए ट्यून किया जा सकता है प्रत्येक सामग्री और प्रक्रिया के लिए। इस प्रकार, अल्ट्रासोनिक फैलाने वाले अत्यधिक बहुमुखी हैं और इसका उपयोग कई अनुप्रयोगों के लिए किया जा सकता है, उदाहरण के लिए, सीएनटी फैलाव, ग्राफीन छूटना, कोर शेल कणों के सोनोकेमिकल संश्लेषण या सिलिकॉन नैनोकणों का कार्यात्मककरण।

सोडियम-आयन बैटरी में सक्रिय इलेक्ट्रोड सामग्री के रूप में उपयोग के लिए सोनोकेमिकल रूप से संश्लेषित Na0.44MnO2।

2 घंटे के लिए 900 डिग्री सेल्सियस पर कैल्सीनेशन द्वारा सोनोकेमिकल रूप से तैयार Na0.44MnO2 के एसईएम माइक्रोग्राफ।
(अध्ययन और चित्र: ©शिंदे एट अल।

बैटरी निर्माण में नैनोमटेरियल प्रसंस्करण के लिए Hielscher औद्योगिक अल्ट्रासोनिकेटर के बारे में अधिक जानें!

अल्ट्रासोनिक नैनोमटेरियल प्रसंस्करण के लाभ:

उच्च प्रदर्शन, उच्च दक्षता
ठीक से नियंत्रणीय
आवेदन के लिए ट्यून करने योग्य
औद्योगिक ग्रेड
रैखिक रूप से स्केलेबल
आसान, सुरक्षित संचालन
लागत प्रभावी

नीचे आप नैनोमटेरियल प्रसंस्करण के विभिन्न अल्ट्रासोनिक रूप से संचालित अनुप्रयोग पा सकते हैं:

नैनोकंपोजिट का अल्ट्रासोनिक संश्लेषण

ग्राफीन-एसएनओ का अल्ट्रासोनिक संश्लेषण₂ नैनोकम्पोजिट: देवसाकार एट अल (2013) की शोध टीम ने ग्राफीन-एसएनओ 2 नैनोकम्पोजिट तैयार करने के लिए एक अल्ट्रासोनिक रूप से सहायता प्राप्त मार्ग विकसित किया। उन्होंने ग्राफीन-एसएनओ 2 समग्र के संश्लेषण के दौरान उच्च शक्ति अल्ट्रासाउंड द्वारा उत्पन्न कैविटेशनल प्रभावों की जांच की। सोनिकेशन के लिए, उन्होंने एक Hielscher Ultrasonics डिवाइस का इस्तेमाल किया। परिणाम SnO के अल्ट्रासोनिक रूप से बेहतर ठीक और वर्दी लोडिंग को प्रदर्शित करते हैं₂ ग्राफीन ऑक्साइड और एसएनसीएल के बीच ऑक्सीकरण-कमी प्रतिक्रिया द्वारा ग्राफीन नैनोशीट पर₂2एच₂पारंपरिक संश्लेषण विधियों की तुलना में ओ।

सोनोकेमिकल रूप से संश्लेषित एसएनओ 2-नैनोकम्पोजिट का उपयोग बैटरी में एनोड सामग्री के रूप में किया जा सकता है।

ग्राफीन ऑक्साइड और एसएनओ की गठन प्रक्रिया का प्रदर्शन करने वाला चार्ट₂-ग्राफीन नैनोकम्पोजिट।
(अध्ययन और चित्र: ©देवसाकार एट अल।

एसएनओ₂-ग्राफीन नैनोकम्पोजिट को एक उपन्यास और प्रभावी अल्ट्रासाउंड सहायता प्राप्त समाधान-आधारित रासायनिक संश्लेषण मार्ग के माध्यम से सफलतापूर्वक तैयार किया गया है और ग्राफीन ऑक्साइड को एसएनसीएल द्वारा कम किया गया था₂ एचसीएल की उपस्थिति में ग्राफीन शीट के लिए। टीईएम विश्लेषण एसएनओ की वर्दी और ठीक लोडिंग को दर्शाता है₂ ग्राफीन नैनोशीट्स में। अल्ट्रासोनिक विकिरण के उपयोग के कारण उत्पन्न कैविटेशनल प्रभावों को ग्राफीन ऑक्साइड और एसएनसीएल के बीच ऑक्सीकरण-कमी प्रतिक्रिया के दौरान ग्राफीन नैनोशीट्स पर एसएनओ 2 के ठीक और समान लोडिंग को तेज करने के लिए दिखाया गया है₂2एच₂O. कम ग्राफीन नैनोशीट्स पर एसएनओ 2 नैनोकणों (3-5 एनएम) के तेज ठीक और वर्दी लोडिंग को अल्ट्रासोनिक विकिरण द्वारा प्रेरित कैविटेशनल प्रभाव के कारण बढ़े हुए न्यूक्लियेशन और विलेय हस्तांतरण के लिए जिम्मेदार ठहराया जाता है। एसएनओ की ठीक और एक समान लोडिंग₂ ग्राफीन नैनोशीट्स पर नैनोकणों की भी टीईएम विश्लेषण से पुष्टि की गई थी। संश्लेषित SnO का अनुप्रयोग₂-लिथियम आयन बैटरी में एनोड सामग्री के रूप में ग्राफीन नैनोकम्पोजिट का प्रदर्शन किया जाता है। एसएनओ की क्षमता₂-ग्राफीन नैनोकम्पोजिट आधारित ली-बैटरी लगभग 120 चक्रों के लिए स्थिर है, और बैटरी स्थिर चार्ज-डिस्चार्ज प्रतिक्रिया को दोहरा सकती है। (देवसाकार एट अल।

अल्ट्रासोनिक संश्लेषण बैटरी निर्माण में उपयोग किए जाने वाले उच्च-प्रदर्शन नैनोकंपोजिट के निर्माण की अनुमति देता है।

SnO की TEM छवि₂-सोनोकेमिकल विधि द्वारा तैयार ग्राफीन नैनो-कम्पोजिट। बार (ए) 10 एनएम, (बी) पर 5 एनएम पर इंगित करता है।
(अध्ययन और चित्र: ©देवसाकार एट अल।

उच्च तीव्रता अल्ट्रासोनिकेशन नैनोमटेरियल संश्लेषण और कार्यात्मककरण में एक आवश्यक तकनीक है। औद्योगिक अल्ट्रासोनिक सिस्टम बहुत बड़ी मात्रा में संसाधित करने में सक्षम हैं।

मॉडल के 4x 4000 वाट अल्ट्रासोनिकेटर के साथ औद्योगिक मिश्रण प्रणाली यूआईपी4000एचडीटी इलेक्ट्रोड यौगिकों के नैनोमटेरियल प्रसंस्करण के लिए।

बैटरी स्लरी में नैनोकणों का अल्ट्रासोनिक फैलाव

इलेक्टोड घटकों का फैलाव: Waser et al. (2011) लिथियम आयरन फॉस्फेट (LiFePO) के साथ इलेक्ट्रोड तैयार किया₄). घोल में सक्रिय सामग्री के रूप में LiFePO4 होता है, कार्बन ब्लैक एक विद्युत प्रवाहकीय योजक के रूप में, एन-मिथाइलपायरोलिडिनोन (NMP) में भंग पॉलीविनाइलिडीन फ्लोराइड को बांधने की मशीन के रूप में इस्तेमाल किया जाता था। इलेक्ट्रोड में एएम/सीबी/पीवीडीएफ का द्रव्यमान-अनुपात (सूखने के बाद) 83/8.5/8.5 था। निलंबन तैयार करने के लिए, सभी इलेक्ट्रोड घटकों को एनएमपी में एक अल्ट्रासोनिक स्टिरर (UP200H, Hielscher Ultrasonics) 200 डब्ल्यू और 24 किलोहर्ट्ज़ पर 2 मिनट के लिए।
LiFePO के एक-आयामी चैनलों के साथ कम विद्युत चालकता और धीमी ली-आयन प्रसार₄ LiFePO को एम्बेड करके दूर किया जा सकता है₄ एक प्रवाहकीय मैट्रिक्स में, उदा। चूंकि नैनो आकार के कण और कोर-शेल कण संरचनाएं विद्युत चालकता में सुधार करती हैं, अल्ट्रासोनिक फैलाव तकनीक और कोर-शेल कणों के सोनोकेमिकल संश्लेषण बैटरी अनुप्रयोगों के लिए बेहतर नैनोकंपोजिट का उत्पादन करने की अनुमति देते हैं।

लिथियम आयरन फॉस्फेट का फैलाव: हैगबर्ग (हैगबर्ग एट अल। अल्ट्रासोनिकेटर UP100H लिथियम आयरन फॉस्फेट (एलएफपी) लेपित कार्बन फाइबर से मिलकर संरचनात्मक सकारात्मक इलेक्ट्रोड की प्रक्रिया के लिए। कार्बन फाइबर निरंतर, स्व-खड़े टो हैं जो वर्तमान कलेक्टरों के रूप में कार्य करते हैं और यांत्रिक कठोरता और शक्ति प्रदान करेंगे। इष्टतम प्रदर्शन के लिए, तंतुओं को व्यक्तिगत रूप से लेपित किया जाता है, उदाहरण के लिए इलेक्ट्रोफोरेटिक जमाव का उपयोग करना।
एलएफपी, सीबी और पीवीडीएफ से युक्त मिश्रण के विभिन्न वजन अनुपात का परीक्षण किया गया। इन मिश्रणों को कार्बन फाइबर पर लेपित किया गया था। चूंकि कोटिंग स्नान रचनाओं में अमानवीय वितरण कोटिंग में संरचना से भिन्न हो सकता है, इसलिए अंतर को कम करने के लिए अल्ट्रासोनिकेशन द्वारा कठोर सरगर्मी का उपयोग किया जाता है।
उन्होंने नोट किया कि कणों को पूरे कोटिंग में अपेक्षाकृत अच्छी तरह से फैलाया जाता है जिसे सर्फेक्टेंट (ट्राइटन एक्स -100) के उपयोग और इलेक्ट्रोफोरेटिक जमाव से पहले अल्ट्रासोनिकेशन कदम के लिए जिम्मेदार ठहराया जाता है।

अल्ट्रासोनिक फैलाव का उपयोग इलेक्ट्रोफोरेटिक जमाव से पहले एलएफपी, सीबी और पीवीडीएफ को समरूप बनाने के लिए किया जाता है।

ईपीडी लेपित कार्बन फाइबर के क्रॉस-सेक्शन और उच्च आवर्धन एसईएम छवियां। एलएफपी, सीबी और पीवीडीएफ के मिश्रण को अल्ट्रासोनिक रूप से समरूप बनाया गया था अल्ट्रासोनिकेटर UP100H. आवर्धन: a) 0.8kx, b) 0.8kx, c) 1.5kx, d) 30kx।
(अध्ययन और चित्र: ©हैगबर्ग एट अल।

LiNi का फैलाव_0.5एमएन_1.5O₄ समग्र कैथोड सामग्री:
विडाल एट अल (2013) ने लीनी के लिए सोनीकेशन, दबाव और सामग्री संरचना जैसे प्रसंस्करण चरणों के प्रभाव की जांच की_0.5एमएन_1.5O₄समग्र कैथोड।
LiNi वाले धनात्मक मिश्रित इलेक्ट्रोड_0.5 एमएन_1.5सक्रिय सामग्री के रूप में O4 स्पिनल, इलेक्ट्रोड विद्युत चालकता को बढ़ाने के लिए ग्रेफाइट और कार्बन ब्लैक का मिश्रण और इलेक्ट्रोड के निर्माण के लिए या तो पॉलीविनाइलडेनेफ्लोराइड (PVDF) या टेफ्लॉन® (1 wt%) की थोड़ी मात्रा के साथ PVDF का मिश्रण। उन्हें डॉक्टर ब्लेड तकनीक का उपयोग करके वर्तमान कलेक्टर के रूप में एल्यूमीनियम पन्नी पर टेप कास्टिंग द्वारा संसाधित किया गया है। इसके अतिरिक्त, घटक मिश्रणों को या तो सोनिकेटेड किया गया था या नहीं, और संसाधित इलेक्ट्रोड को बाद में ठंड दबाने के तहत संकुचित किया गया था या नहीं। दो योगों का परीक्षण किया गया है:
ए-फॉर्मूलेशन (टेफ्लॉन® के बिना): 78 wt% LiNi_0.5 एमएन_1.5ओ 4; 7.5 wt% कार्बन ब्लैक; 2.5 wt% ग्रेफाइट; 12 wt% पीवीडीएफ
बी-फॉर्मूलेशन (टेफ्लॉन® के साथ): 78wt% LiNi0_0.5एमएन_1.5ओ 4; 7.5wt% कार्बन ब्लैक; 2.5 wt% ग्रेफाइट; 11 डब्ल्यूटी% पीवीडीएफ; 1 wt% टेफ्लॉन®
दोनों ही मामलों में, घटकों को एन-मिथाइलपीरोलिडिनोन (एनएमपी) में मिश्रित और फैलाया गया था। लीनी_0.5 एमएन_1.5O4 स्पिनल (2g) पहले से स्थापित उल्लिखित प्रतिशत में अन्य घटकों के साथ एनएमपी के 11 मिलीलीटर में फैलाया गया था। कुछ विशेष मामलों में, मिश्रण 25 मिनट के लिए sonicated था और फिर 48 घंटे के लिए कमरे के तापमान पर हड़कंप मच गया. कुछ अन्य लोगों में, मिश्रण को कमरे के तापमान पर 48 घंटे के लिए उभारा गया था, यानी बिना किसी सोनिकेशन के। सोनिकेशन उपचार इलेक्ट्रोड घटकों के एक सजातीय फैलाव को बढ़ावा देता है और प्राप्त एलएनएमएस-इलेक्ट्रोड अधिक समान दिखता है।
सेमी 2 तक, उच्च वजन वाले कंपोजिट इलेक्ट्रोड तैयार किए गए और लिथियम-आयन बैटरी के लिए सकारात्मक इलेक्ट्रोड के रूप में अध्ययन किया गया। टेफ्लॉन® के अलावा और सोनीशन उपचार के आवेदन से समान इलेक्ट्रोड होते हैं जो एल्यूमीनियम पन्नी का अच्छी तरह से पालन करते हैं। दोनों पैरामीटर उच्च दरों (5C) पर सूखा क्षमता में सुधार करने में योगदान करते हैं। इलेक्ट्रोड/एल्यूमीनियम असेंबलियों का अतिरिक्त संघनन उल्लेखनीय रूप से इलेक्ट्रोड दर क्षमताओं को बढ़ाता है। 5C दर पर, 80-90mg/cm की सीमा में वजन वाले इलेक्ट्रोड के लिए 80% और 17% के बीच उल्लेखनीय क्षमता प्रतिधारण पाया जाता है²(घ) टेफ्लॉन® को उनके सूत्रीकरण में रखते हुए, उनके घटक मिश्रणों के सोनिकेशन के बाद तैयार किया जाता है और 2 टन/सेमी के तहत संकुचित किया जाता है².
सारांश में, उनके निर्माण में 1 wt% टेफ्लॉन® वाले इलेक्ट्रोड, उनके घटक मिश्रणों को एक सोनीशन उपचार के अधीन किया जाता है, 2 टन/सेमी2 पर संकुचित किया जाता है और 2.7-17 मिलीग्राम/सेमी2 की सीमा में वजन के साथ एक उल्लेखनीय दर क्षमता दिखाई देती है। 5C के उच्च प्रवाह पर भी, इन सभी इलेक्ट्रोड के लिए सामान्यीकृत निर्वहन क्षमता 80% और 90% के बीच थी। (सीएफ विडाल एट अल।

UIP100hdT बैच या प्रवाह के माध्यम से मोड में औद्योगिक nanomaterial प्रसंस्करण के लिए एक 1kW बेंच शीर्ष ultrasonicator है।

अल्ट्रासोनिकेटर UIP1000hdT (1000W, 20kHz) बैच या फ्लो-थ्रू मोड में नैनोमटेरियल प्रोसेसिंग के लिए।

बैटरी उत्पादन के लिए उच्च प्रदर्शन अल्ट्रासोनिक फैलाव

Hielscher Ultrasonics उच्च शक्ति, उच्च प्रदर्शन अल्ट्रासोनिक उपकरण डिजाइन, निर्माण और वितरित करता है, जिसका उपयोग लिथियम-आयन बैटरी (एलआईबी), सोडियम-आयन बैटरी (एनआईबी), और अन्य बैटरी कोशिकाओं में उपयोग के लिए कैथोड, एनोड और इलेक्ट्रोलाइट सामग्री को संसाधित करने के लिए किया जाता है। Hielscher अल्ट्रासोनिक सिस्टम का उपयोग नैनोकंपोजिट को संश्लेषित करने, नैनोकणों को कार्यात्मक बनाने और नैनोमटेरियल्स को सजातीय, स्थिर निलंबन में फैलाने के लिए किया जाता है।
प्रयोगशाला से पूरी तरह से औद्योगिक पैमाने पर अल्ट्रासोनिक प्रोसेसर के लिए एक पोर्टफोलियो की पेशकश, Hielscher उच्च प्रदर्शन अल्ट्रासाउंड dispersers के लिए बाजार नेता है। नैनोमटेरियल संश्लेषण और आकार में कमी के क्षेत्र में 30 से अधिक वर्षों से काम करते हुए, Hielscher Ultrasonics को अल्ट्रासोनिक नैनोपार्टिकल प्रसंस्करण में व्यापक अनुभव है और बाजार पर सबसे शक्तिशाली और विश्वसनीय अल्ट्रासोनिक प्रोसेसर प्रदान करता है। जर्मन इंजीनियरिंग राज्य के अत्याधुनिक प्रौद्योगिकी और मजबूत गुणवत्ता प्रदान करता है।
उन्नत प्रौद्योगिकी, उच्च प्रदर्शन और परिष्कृत सॉफ्टवेयर अपने इलेक्ट्रोड विनिर्माण प्रक्रिया में विश्वसनीय काम घोड़ों में Hielscher ultrasonicators बारी। सभी अल्ट्रासोनिक सिस्टम जर्मनी के टेल्टो में मुख्यालय में निर्मित होते हैं, गुणवत्ता और मजबूती के लिए परीक्षण किए जाते हैं और फिर दुनिया भर में जर्मनी से वितरित किए जाते हैं।
Hielscher अल्ट्रासोनिकेटर के परिष्कृत हार्डवेयर और स्मार्ट सॉफ्टवेयर विश्वसनीय संचालन, प्रतिलिपि प्रस्तुत करने योग्य परिणामों के साथ-साथ उपयोगकर्ता-मित्रता की गारंटी के लिए डिज़ाइन किए गए हैं। Hielscher अल्ट्रासोनिकेटर प्रदर्शन में मजबूत और सुसंगत हैं, जो उन्हें मांग वाले वातावरण में स्थापित करने और भारी शुल्क की स्थिति में उन्हें संचालित करने की अनुमति देता है। परिचालन सेटिंग्स को सहज मेनू के माध्यम से आसानी से एक्सेस और डायल किया जा सकता है, जिसे डिजिटल कलर टच-डिस्प्ले और ब्राउज़र रिमोट कंट्रोल के माध्यम से एक्सेस किया जा सकता है। इसलिए, शुद्ध ऊर्जा, कुल ऊर्जा, आयाम, समय, दबाव और तापमान जैसी सभी प्रसंस्करण स्थितियां स्वचालित रूप से एक अंतर्निहित एसडी-कार्ड पर दर्ज की जाती हैं। यह आपको पिछले सोनीशन रन को संशोधित करने और तुलना करने और उच्चतम दक्षता के लिए नैनोमटेरियल्स और कंपोजिट के संश्लेषण, कार्यात्मककरण और फैलाव को अनुकूलित करने की अनुमति देता है।
Hielscher Ultrasonics सिस्टम nanomaterials के sonochemical संश्लेषण के लिए दुनिया भर में उपयोग किया जाता है और स्थिर कोलाइडल निलंबन में नैनोकणों के फैलाव के लिए विश्वसनीय साबित कर रहे हैं। Hielscher औद्योगिक अल्ट्रासोनिकेटर लगातार उच्च आयाम चला सकते हैं और 24/7 ऑपरेशन के लिए बनाए गए हैं। 200μm तक के आयाम आसानी से मानक sonotrodes (अल्ट्रासोनिक जांच / सींग) के साथ लगातार उत्पन्न किया जा सकता है। यहां तक कि उच्च आयामों के लिए, अनुकूलित अल्ट्रासोनिक sonotrodes उपलब्ध हैं।
सोनोकेमिकल संश्लेषण, कार्यात्मकता, नैनो-संरचना और डीग्लोमरेशन के लिए Hielscher अल्ट्रासोनिक प्रोसेसर पहले से ही वाणिज्यिक पैमाने पर दुनिया भर में स्थापित हैं। बैटरी निर्माण के लिए नैनोमैटेरियल्स से जुड़े अपने प्रक्रिया चरण पर चर्चा करने के लिए अब हमसे संपर्क करें! हमारे अच्छी तरह से अनुभवी कर्मचारी बेहतर फैलाव परिणामों, उच्च प्रदर्शन अल्ट्रासोनिक सिस्टम और मूल्य निर्धारण के बारे में अधिक जानकारी साझा करने में प्रसन्न होंगे!
अल्ट्रासोनिकेशन के लाभ के साथ, आपका उन्नत इलेक्ट्रोड और इलेक्ट्रोलाइट उत्पादन अन्य इलेक्ट्रोड निर्माताओं की तुलना में दक्षता, सादगी और कम लागत में उत्कृष्टता प्राप्त करेगा!

नीचे दी गई तालिका आपको हमारे अल्ट्रासोनिकेटर की अनुमानित प्रसंस्करण क्षमता का संकेत देती है:

बैच वॉल्यूम	प्रवाह दर	अनुशंसित उपकरण
1 से 500mL	10 से 200mL/मिनट	यूपी100एच
10 से 2000mL	20 से 400mL/मिनट	यूपी200एचटी, UP400St
0.1 से 20L	0.2 से 4L/मिनट	यूआईपी2000एचडीटी
10 से 100L	2 से 10 लीटर/मिनट	यूआईपी4000एचडीटी
एन.ए.	10 से 100 लीटर/मिनट	UIP16000
एन.ए.	बड़ा	का क्लस्टर UIP16000

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अल्ट्रासोनिक हाई-शीयर होमोजेनाइज़र का उपयोग लैब, बेंच-टॉप, पायलट और औद्योगिक प्रसंस्करण में किया जाता है।

Hielscher Ultrasonics प्रयोगशाला, पायलट और औद्योगिक पैमाने पर अनुप्रयोगों, फैलाव, पायसीकरण और निष्कर्षण के मिश्रण के लिए उच्च प्रदर्शन अल्ट्रासोनिक homogenizers बनाती है।

साहित्य/सन्दर्भ

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उच्च प्रदर्शन अल्ट्रासोनिक्स! Hielscher की उत्पाद श्रृंखला पूर्ण औद्योगिक अल्ट्रासोनिक सिस्टम के लिए बेंच-टॉप इकाइयों पर कॉम्पैक्ट लैब अल्ट्रासोनिकेटर से पूर्ण स्पेक्ट्रम को कवर करती है।

Hielscher Ultrasonics से उच्च प्रदर्शन अल्ट्रासोनिक homogenizers बनाती है प्रयोगशाला तक औद्योगिक आकार।