ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิก
- ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิก (USP) เป็นหนึ่งในเทคนิคสำคัญสำหรับการสังเคราะห์วัสดุนาโนและการเคลือบวัสดุฐานด้วยสารเคลือบฟิล์มบาง
- การพ่นฝอยและการทำให้เป็นละอองด้วยอัลตราโซนิกช่วยให้ควบคุมกระบวนการได้อย่างเต็มที่ ส่งผลให้ได้ผลิตภัณฑ์คุณภาพสูงที่มีความสม่ำเสมอ
- ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิกเหนือกว่าเทคนิคทั่วไป เช่น CVD ในด้านการกระจายตัวอย่างสม่ำเสมอและความคุ้มค่าด้านต้นทุน
ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิก
ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิก (USP) เป็นเทคนิคการสังเคราะห์โดยใช้ละอองลอยที่เรียบง่ายและใช้กันอย่างแพร่หลายในการสังเคราะห์วัสดุนาโน เช่น ฟิล์มบาง หรือ อนุภาคนาโน. ด้วยคุณสมบัติด้าน ความง่ายในการนำไปปฏิบัติ, ความยืดหยุ่น และ ความคุ้มค่าด้านต้นทุน, วิธี USP จึงเป็นทางเลือกสำคัญแทนการสะสมไอเคมี (CVD) สารตั้งต้นสำหรับไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิกมักเตรียมโดยใช้ กระบวนการโซล–เจล. องค์ประกอบของอนุภาคนาโนหรือฟิล์มที่สังเคราะห์ขึ้นสามารถปรับเปลี่ยนได้ง่ายโดยเปลี่ยนพารามิเตอร์ของกระบวนการ ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิกช่วยให้คุณ ควบคุมได้อย่างเต็มที่ ในส่วนของพารามิเตอร์กระบวนการที่สำคัญที่สุด เช่น:
- แอมพลิจูดของอัลตราโซนิก
- สารละลายสารตั้งต้น
- องค์ประกอบ/ ความหนืดของสารตั้งต้น
- อัตราการไหล
- อุณหภูมิการสะสมสาร
- อุณหภูมิของวัสดุฐาน
ด้วยเหตุนี้ ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิกจึงเป็นเทคโนโลยีที่น่าสนใจสำหรับการผลิต ชนิดเนื้อแน่น และ ชนิดพรุน ทั้งในรูปอนุภาคและสารเคลือบฟิล์มบาง
ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิกสำหรับการสังเคราะห์อนุภาคนาโน
เมื่อสังเคราะห์อนุภาคนาโนด้วยไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิก สามารถใช้เกลืออินทรีย์และเกลืออนินทรีย์เป็นสารตั้งต้นในการเตรียมผงนาโนของโลหะ ออกไซด์ และวัสดุคอมโพสิตได้ สารละลายสารตั้งต้นจะถูกทำให้เป็นละอองด้วยอัลตราโซนิกก่อนที่ละอองหยดขนาดเล็กจะเข้าสู่เตาเผา ซึ่งเป็นบริเวณที่วัสดุเกิดการสลายตัวด้วยความร้อน
ผงที่สังเคราะห์ด้วย USP สามารถแบ่งออกเป็นสามกลุ่ม:
- โลหะ เช่น Au, Ag, Co, Cu, Zn, Ni, Fe
- ออกไซด์ เช่น TiO2, ZnO, Al2O3, RuO2
- วัสดุคอมโพสิตที่มีโครงสร้างแกน–เปลือกบางส่วน เช่น CuNi, FeCo, NiCo, RuO2/TiO2, La0.6Sr0.4CoO3, C/LiFePO4, Au/TiO2, Ag/TiO2
ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิกสำหรับสารเคลือบฟิล์มบาง
ไพโรไลซิสแบบพ่นฝอยด้วยอัลตราโซนิกสามารถผลิตสารเคลือบหลายชั้นได้ ซึ่งน่าสนใจเป็นพิเศษสำหรับการเตรียมฟิล์มที่มีสมบัติเชิงหน้าที่ไล่ระดับ การเปลี่ยนสารละลายสารตั้งต้นช่วยให้ปรับเปลี่ยนองค์ประกอบและสมบัติเชิงหน้าที่ของสารเคลือบฟิล์มบางได้อย่างง่ายดายและแม่นยำ
- อนุภาคเนื้อแน่นหรืออนุภาคพรุน
- ความสม่ำเสมอสูง
- การควบคุมกระบวนการอย่างเต็มที่
- ความสามารถในการทำซ้ำให้ได้ผลเหมือนเดิม
- สารตั้งต้นที่เปลี่ยนได้
- วัสดุฐานที่ซับซ้อน
- ความสามารถในการขยายขนาด
- ใช้งานง่าย
- ไม่อุดตัน
- การทำงานอย่างปลอดภัย
- คุ้มค่าด้านต้นทุนอย่างมาก
ติดต่อเรา! / สอบถามเรา!
เอกสาร / เอกสารอ้างอิง
- Chen, Dong; Sharma, Sanjak K.; Mudhoo, Ackmez (2012): Handbook on Applications of ULTRASOUND. Sonochemistry for Sustainability. CRC Press 2012.
- Zhua, Guang; Lva, Tian; Pana, Likun; Suna, Zhuo; Sun, Changqing (2011): All spray pyrolysis deposited CdS sensitized ZnO films for quantum dot-sensitized solar cells. Journal of Alloys and Compounds 509, 2011. 362-365.
Hielscher Ultrasonics ผลิตเครื่องโฮโมจีไนเซอร์อัลตราโซนิกสมรรถนะสูง ตั้งแต่ขนาดสำหรับ ห้องปฏิบัติการ ไปจนถึง ขนาดอุตสาหกรรม
