Սիլիցիումի երկօքսիդի (SiO2) ուլտրաձայնային դիսպերսում
Սիլիցիումի երկօքսիդը, որը հայտնի է նաև որպես SiO2, նանոսիլիկա կամ միկրոսիլիկա, օգտագործվում է ատամի մածուկներում, ցեմենտում, սինթետիկ կաուչուկում, բարձր արդյունավետությամբ պոլիմերներում կամ սննդամթերքում՝ որպես թանձրացուցիչ, ադսորբենտ, գնդիկացումը կանխող նյութ կամ բուրավետիչների և համային հավելումների կրիչ։ Ստորև ավելի մանրամասն կծանոթանաք նանոսիլիկայի և միկրոսիլիկայի կիրառություններին, ինչպես նաև այն բանին, թե ինչպես կարող են ուլտրաձայնի սոնոմեխանիկական ազդեցությունները բարելավել գործընթացի արդյունավետությունն ու վերջնական արտադրանքի գործառնական հատկությունները՝ ստանալով սիլիցիումի երկօքսիդի ավելի որակյալ սուսպենզիաներ և հեշտացնելով սիլիցիումի երկօքսիդի նանոմասնիկների սինթեզը։
Նանոսիլիկայի (SiO2) ուլտրաձայնային դիսպերսման առավելությունները
Սիլիցիումի երկօքսիդը հասանելի է հիդրոֆիլ և հիդրոֆոբ ձևերի լայն տեսականիով և ունի չափազանց մանր մասնիկներ՝ մի քանի միկրոմետրից մինչև մի քանի նանոմետր չափերով։ Սովորաբար թրջելուց հետո սիլիցիումի երկօքսիդը լավ դիսպերսված չէ։ Այն նաև արտադրանքի բաղադրության մեջ բազմաթիվ միկրոպղպջակներ է ներմուծում։ Ուլտրաձայնային մշակումը արդյունավետ տեխնոլոգիա է միկրոսիլիկան և նանոսիլիկան դիսպերսելու, ինչպես նաև բաղադրությունից լուծված գազն ու միկրոպղպջակները հեռացնելու համար։
Ուլտրաձայնային դիսպերսումը մեթոդ է, որն օգտագործում է բարձր ինտենսիվության, ցածր հաճախականության ուլտրաձայնային ալիքներ՝ հեղուկ միջավայրում մասնիկները դիսպերսելու և դրանց ագլոմերատները քայքայելու համար։ Սիլիցիումի երկօքսիդի և նանոսիլիկայի դիսպերսման դեպքում ուլտրաձայնային դիսպերսումն ունի մի շարք առավելություններ․
Սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկների չափի կարևորությունը
Նանոչափ կամ միկրոչափ սիլիցիումի երկօքսիդի կիրառման բազմաթիվ ոլորտներում լավ և համաչափ դիսպերսումը շատ կարևոր է։ Հաճախ պահանջվում է սիլիցիումի երկօքսիդի մոնոդիսպերս կախույթ, օրինակ՝ մասնիկների չափը որոշելու համար։ Մասնավորապես, քերծվածքակայունությունը բարելավելու նպատակով թանաքներում, ծածկույթներում և պոլիմերներում օգտագործելիս սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկները պետք է բավականաչափ փոքր լինեն, որպեսզի չխանգարեն տեսանելի լույսի տարածմանը՝ պղտորությունից խուսափելու և թափանցիկությունը պահպանելու համար։ Ծածկույթների մեծ մասում այս պահանջը բավարարելու համար սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկները պետք է լինեն 40nm-ից փոքր։ Կիրառման այլ ոլորտներում սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկների ագլոմերացումը խոչընդոտում է յուրաքանչյուր առանձին մասնիկի փոխազդեցությանը շրջապատող միջավայրի հետ։
Ուլտրաձայնային հոմոգենիզատորներն ավելի արդյունավետ են սիլիցիումի երկօքսիդի դիսպերսման հարցում, քան մեծ սահքային ուժերով խառնման այլ մեթոդները, օրինակ՝ պտտվող խառնիչները կամ տարողությունների խառնիչները։ Ստորև բերված պատկերը ցույց է տալիս ջրում պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի ուլտրաձայնային դիսպերսման բնորոշ արդյունքը։
Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի ուլտրաձայնային դիսպերսումը ջրում
Մշակման արդյունավետությունը սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկների չափը փոքրացնելիս
Նանոսիլիցիումի երկօքսիդի ուլտրաձայնային դիսպերսումը գերազանցում է մեծ սահքային ուժերով խառնման այլ մեթոդներին, օրինակ՝ IKA Ultra-Turrax-ով խառնմանը։ Ուլտրաձայնի միջոցով ստացվում են սիլիցիումի երկօքսիդի ավելի փոքր մասնիկներով կախույթներ, իսկ ուլտրաձայնային մշակումն ավելի էներգաարդյունավետ տեխնոլոգիա է։ Pohl-ը և Schubert-ը համեմատել են ջրում Aerosil 90-ի (2%wt) մասնիկների չափի փոքրացումը Ultra-Turrax-ի (ռոտոր–ստատոր համակարգ) և Hielscher UIP1000hd-ի (1kW ուլտրաձայնային սարք) միջոցով։ Ստորև բերված գրաֆիկը ցույց է տալիս ուլտրաձայնային գործընթացի գերազանց արդյունքները։ Իր ուսումնասիրության արդյունքում Pohl-ը եզրակացրել է, որ «Հաստատուն տեսակարար էներգիայի՝ EV-ի դեպքում ուլտրաձայնն ավելի արդյունավետ է, քան ռոտոր–ստատոր համակարգը»։ Էներգաարդյունավետությունը և սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկների չափի միատեսակությունը առաջնային կարևորություն ունեն արտադրական գործընթացներում, որտեղ նշանակություն ունեն արտադրության ծախսերը, գործընթացի արտադրողականությունը և արտադրանքի որակը։
Ուլտրաձայնի և Ultra-turrax-ի համեմատությունը սիլիցիումի երկօքսիդի դիսպերսման համար
Ստորև բերված պատկերները ցույց են տալիս այն արդյունքները, որոնք Pohl-ը ստացել է՝ ուլտրաձայնով մշակելով փոշեցմամբ սառեցված և սուբլիմացմամբ չորացված սիլիցիումի երկօքսիդի հատիկները։
Ձախում՝ փոշեցմամբ սառեցված սիլիցիումի երկօքսիդի հատիկների REM պատկերները՝ նախքան ուլտրաձայնային ապաագլոմերացումը
Աջում՝ ուլտրաձայնով դիսպերսված սիլիցիումի երկօքսիդի բեկորների TEM պատկերները
Ուսումնասիրությունը և պատկերները՝ Pohl և Schubert, 2004)
Բարձր արդյունավետությամբ ուլտրաձայնային դիսպերսատորներ՝ սիլիցիումի երկօքսիդ պարունակող բարձրորակ բաղադրակազմերի համար
Hielscher Ultrasonics-ը գերմանական ընտանեկան ձեռնարկություն է, որը մասնագիտացած է հեղուկների, պինդ մասնիկներ պարունակող կախույթների և մածուկների մշակման համար նախատեսված բարձր արդյունավետությամբ ուլտրաձայնային հոմոգենիզատորների մշակման, արտադրության և մատակարարման մեջ։ Hielscher-ի ուլտրաձայնային հոմոգենիզատորները հուսալիորեն մշակում են սիլիցիումի երկօքսիդի խյուսերը և այլ նանոկախույթներ՝ ցանկացած ցանկալի բնութագրերի հասնելու համար։ Ուլտրաձայնային մշակմամբ կարելի է արդյունավետորեն դիսպերգել և ապաագլոմերացնել նույնիսկ խիստ զգայուն, հղկող կամ բարձր մածուցիկությամբ արտադրանքային բաղադրությունները։ Մեր առաջադեմ ուլտրաձայնային սարքերը չափազանց բազմակողմանի են և առաջարկում են խմբաքանակային ու հոսքագծային մշակման կատարելագործված հնարավորություններ։ Կայուն բարձր որակի չափանիշները և վերարտադրելի արդյունքները սիլիցիումի երկօքսիդի ուլտրաձայնային դիսպերգման առանցքային առանձնահատկություններն են։
Hielscher-ի ժամանակակից արդյունաբերական ուլտրաձայնային սարքերն ունեն խելացի և օգտագործողի համար հարմար ընտրացանկ, ծրագրավորվող կարգավորումներ, ներկառուցված SD քարտի վրա տվյալների ավտոմատ գրանցում, դիտարկիչի միջոցով հեռավար կառավարում և բարձր դիմացկունություն։
Ամպլիտուդը ուլտրաձայնային մշակման ամենաազդեցիկ պարամետրն է։ Ամպլիտուդը նշանակում է ուլտրաձայնային ալիքի առավելագույն տեղաշարժը կամ գագաթից գագաթ շարժումը։ Ուլտրաձայնային դիսպերգման, ապաագլոմերացման և թաց աղացման համար հաճախ պահանջվում են բարձր ամպլիտուդներ՝ մասնիկների չափը փոքրացնելու համար բավարար էներգիա հաղորդելու նպատակով։ Hielscher-ի արդյունաբերական ուլտրաձայնային պրոցեսորները կարող են ապահովել բացառիկ բարձր ամպլիտուդներ։ Մինչև 200µm ամպլիտուդներով կարելի է հեշտությամբ անընդհատ աշխատել 24/7 ռեժիմով։ Էլ ավելի բարձր ամպլիտուդների համար հասանելի են անհատական պատվերով պատրաստվող ուլտրաձայնային սոնոտրոդներ։
Հետազոտության և մշակման համար նախատեսված փոքր ու միջին չափերի և փորձնական ուլտրաձայնային սարքերից մինչև սիլիցիումի երկօքսիդի առևտրային արտադրության համար նախատեսված անընդհատ ռեժիմով աշխատող արդյունաբերական համակարգեր՝ Hielscher Ultrasonics-ն ունի համապատասխան ուլտրաձայնային պրոցեսոր՝ սիլիցիումի երկօքսիդի բարձրակարգ մշակման ձեր պահանջները բավարարելու համար։
- բարձր արդյունավետություն
- գերժամանակակից տեխնոլոգիա
- հուսալիություն և դիմացկունություն
- գործընթացի կարգավորվող, ճշգրիտ կառավարում
- խմբաքանակային և հոսքագծային մշակում
- ցանկացած ծավալի համար
- խելացի ծրագրային ապահովում
- խելացի գործառույթներ (օրինակ՝ ծրագրավորման հնարավորություն, տվյալների գրանցում, հեռավար կառավարում)
- պարզ և անվտանգ շահագործում
- տեխնիկական սպասարկման փոքր պահանջ
- CIP (մաքրում տեղում)
Նախագծում, արտադրություն և խորհրդատվություն – գերմանական արտադրության որակ
Hielscher-ի ուլտրաձայնային սարքերը հայտնի են իրենց որակի և նախագծման ամենաբարձր չափանիշներով։ Դիմացկունությունը և շահագործման պարզությունը թույլ են տալիս մեր ուլտրաձայնային սարքերն անխափան ինտեգրել արդյունաբերական արտադրամասերում։ Hielscher-ի ուլտրաձայնային սարքերը հեշտությամբ աշխատում են ծանր պայմաններում և պահանջկոտ միջավայրերում։
Hielscher Ultrasonics-ը ISO հավաստագրում ունեցող ընկերություն է և հատուկ ուշադրություն է դարձնում գերժամանակակից տեխնոլոգիաներով ու օգտագործման հարմարավետությամբ առանձնացող բարձր արդյունավետությամբ ուլտրաձայնային սարքերին։ Իհարկե, Hielscher-ի ուլտրաձայնային սարքերը համապատասխանում են CE նորմերին և բավարարում են UL, CSA և RoHs պահանջները։
Ստորև բերված աղյուսակը պատկերացում է տալիս մեր ուլտրաձայնային սարքերի մոտավոր մշակման արտադրողականության մասին․
| Խմբաքանակի ծավալ | Հոսքի ծավալային արագություն | Առաջարկվող սարքեր |
|---|---|---|
| 0,5–1,5mL | n.a. | VialTweeter | 1–500mL | 10–200mL/min | UP100H |
| 10–2000mL | 20–400mL/min | UP200Ht, UP400St |
| 0,1–20L | 0,2–4L/min | UIP2000hdT |
| 10–100L | 2–10L/min | UIP4000hdT |
| 15–150L | 3–15L/min | UIP6000hdT |
| n.a. | 10–100L/min | UIP16000 |
| n.a. | ավելի մեծ | սարքերի խումբ՝ UIP16000 |
Կապվե՛ք մեզ հետ։ / Հարցրե՛ք մեզ։
UP400S ուլտրաձայնային սարք ՝ նանոչափ սիլիցիումի երկօքսիդի ապաագլոմերացման համար։
Հետազոտություն և գրաֆիկական պատկերներ՝ Vikash, 2020.
Ի՞նչ է սիլիկան (SiO2, սիլիցիումի երկօքսիդ)
Սիլիկան սիլիցիումից և թթվածնից կազմված քիմիական միացություն է՝ SiO2 քիմիական բանաձևով, այլ կերպ՝ սիլիցիումի երկօքսիդ։ Գոյություն ունեն սիլիցիումի երկօքսիդի բազմաթիվ տարբեր ձևեր, ինչպիսիք են հալեցված քվարցը, ծխային սիլիցիումի երկօքսիդը, սիլիկագելը և աերոգելերը։ Սիլիցիումի երկօքսիդը հանդիպում է մի շարք հանքանյութերի կազմում և որպես սինթետիկ արտադրանք։ Բնության մեջ սիլիցիումի երկօքսիդն առավել հաճախ հանդիպում է քվարցի ձևով և տարբեր կենդանի օրգանիզմներում։ Սիլիցիումի երկօքսիդը ստանում են քվարցի արդյունահանմամբ և մաքրմամբ։ Ամորֆ սիլիցիումի երկօքսիդի երեք հիմնական ձևերն են պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդը, նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդը և սիլիկագելը։
Ծխային սիլիցիումի երկօքսիդ / Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդ
Սիլիցիումի տետրաքլորիդը (SiCl4) թթվածնով հարուստ ջրածնային բոցում այրելիս առաջանում է SiO2-ի ծուխ՝ պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդ։ Որպես այլընտրանք՝ քվարցային ավազը 3000 °C էլեկտրական աղեղում գոլորշիացնելիս նույնպես ստացվում է պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդ։ Երկու գործընթացներում էլ առաջացող ամորֆ սիլիցիումի երկօքսիդի մանրադիտակային կաթիլները միաձուլվում են՝ կազմելով ճյուղավորված, շղթայանման, եռաչափ երկրորդային մասնիկներ։ Այնուհետև այս երկրորդային մասնիկներն ագլոմերացվում են՝ առաջացնելով չափազանց ցածր լցնովի խտությամբ և մակերևույթի շատ մեծ մակերեսով սպիտակ փոշի։ Ոչ ծակոտկեն պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի առաջնային մասնիկների չափը 5-ից 50 nm է։ Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդն ունի շատ ուժեղ խտացնող ազդեցություն։ Ուստի այն օգտագործվում է որպես լցանյութ սիլիկոնային էլաստոմերում և մածուցիկության կարգավորման համար՝ ներկերում, ծածկույթներում, սոսինձներում, տպագրական թանաքներում կամ չհագեցած պոլիեսթերային խեժերում։ Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդը կարելի է մշակել՝ այն հիդրոֆոբ կամ հիդրոֆիլ դարձնելու համար՝ օրգանական հեղուկներում կամ ջրային միջավայրերում կիրառելու նպատակով։ Հիդրոֆոբ սիլիցիումի երկօքսիդն արդյունավետ փրփրամարիչ բաղադրիչ է (հակափրփրացնող նյութ)։
Սեղմեք այստեղ՝ ուլտրաձայնային գազազերծման և փրփրամարման մասին կարդալու համար։
Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի CAS համարը՝ 112945-52-5
Սիլիկափոշի / Միկրոսիլիցիումի երկօքսիդ
Սիլիկափոշին գերմանր, նանոչափ փոշի է, որը հայտնի է նաև որպես միկրոսիլիցիումի երկօքսիդ։ Սիլիկափոշին չպետք է շփոթել պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի հետ։ Սիլիկափոշու արտադրության գործընթացը, մասնիկների ձևաբանությունը և կիրառման ոլորտները տարբերվում են պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի համապատասխան բնութագրերից։ Սիլիկափոշին SiO2-ի ամորֆ, ոչ բյուրեղային, բազմաձև տարատեսակ է։ Սիլիկափոշին բաղկացած է գնդաձև մասնիկներից, որոնց միջին տրամագիծը 150 nm է։ Սիլիկափոշու առավել նշանակալի կիրառությունը բարձր արդյունավետությամբ բետոնի համար որպես պուցոլանային նյութ օգտագործումն է։ Այն ավելացվում է պորտլանդցեմենտային բետոնին՝ բարելավելու բետոնի այնպիսի հատկություններ, ինչպիսիք են սեղմման ամրությունը, կապակցման ամրությունը և մաշակայունությունը։ Բացի այդ, սիլիկափոշին նվազեցնում է բետոնի թափանցելիությունը քլորիդ իոնների նկատմամբ։ Սա բետոնի ամրանային պողպատը պաշտպանում է կոռոզիայից։
Ցեմենտի և սիլիկափոշու ուլտրաձայնային խառնման մասին ավելին իմանալու համար սեղմեք այստեղ։
Սիլիկափոշու CAS համարը՝ 69012-64-2, սիլիկափոշու EINECS համարը՝ 273-761-1
Նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդ
Նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդը SiO2-ի սպիտակ փոշենման սինթետիկ ամորֆ ձևն է։ Նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդն օգտագործվում է որպես լցանյութ, փափկեցուցիչ կամ շահագործման հատկությունները բարելավող նյութ պլաստմասսաներում կամ ռետինում, օրինակ՝ անվադողերում։ Այլ կիրառություններից է ատամի մածուկներում որպես մաքրող, խտացնող կամ փայլեցնող նյութ օգտագործումը։
Ատամի մածուկի արտադրության մեջ ուլտրաձայնային խառնման մասին ավելին իմանալու համար սեղմեք այստեղ։
Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի առաջնային մասնիկների տրամագիծը 5-ից 100 nm է, մինչդեռ ագլոմերատների չափը հասնում է մինչև 40 µm-ի, իսկ ծակոտիների միջին չափը մեծ է 30 nm-ից։ Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդի նման, նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդն ըստ էության միկրոծակոտկեն չէ։
Պիրոգեն սիլիցիումի երկօքսիդը ստացվում է սիլիկատային աղեր պարունակող լուծույթից նստեցման միջոցով։ Չեզոք սիլիկատային լուծույթի և հանքային թթվի փոխազդեցությունից հետո ծծմբական թթվի և նատրիումի սիլիկատի լուծույթները միաժամանակ ավելացվում են ջրին՝ խառնելով, օրինակ՝ ուլտրաձայնային խառնման միջոցով։ Սիլիցիումի երկօքսիդը նստում է թթվային պայմաններում։ Բացի այնպիսի գործոններից, ինչպիսիք են նստեցման տևողությունը, ռեագենտների ավելացման արագությունը, ջերմաստիճանն ու կոնցենտրացիան և pH-ը, խառնման եղանակն ու ինտենսիվությունը նույնպես կարող են փոխել սիլիցիումի երկօքսիդի հատկությունները։ Ուլտրաձայնային ռեակտորի խցիկում ձայնամեխանիկական խառնումը մասնիկների կայուն և միատեսակ չափ ստանալու արդյունավետ մեթոդ է։ Բարձր ջերմաստիճաններում ուլտրաձայնային խառնումը կանխում է գելային փուլի առաջացումը։
Նանոնյութերի, օրինակ՝ նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդի, ուլտրաձայնի օժանդակությամբ նստեցման մասին լրացուցիչ տեղեկությունների համար սեղմեք այստեղ։
Նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդի CAS համարը՝ 7631-86-9
Կոլոիդային սիլիցիումի երկօքսիդ / Սիլիցիումի երկօքսիդի կոլոիդ
Կոլոիդային սիլիցիումի երկօքսիդը հեղուկ փուլում մանր, ոչ ծակոտկեն, ամորֆ, հիմնականում գնդաձև սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկների կախույթ է։
Սիլիցիումի երկօքսիդի կոլոիդներն առավել հաճախ օգտագործվում են որպես ջրահեռացման օժանդակ նյութ թղթի արտադրության մեջ, հղկանյութ՝ սիլիցիումային թիթեղների փայլեցման համար, կատալիզատոր՝ քիմիական գործընթացներում, խոնավություն կլանող նյութ, հավելանյութ՝ մաշակայուն ծածկույթների համար, կամ մակերևութաակտիվ նյութ՝ ֆլոկուլացման, կոագուլացման, դիսպերսման կամ կայունացման համար։
Քայքայամաշման նկատմամբ կայուն պոլիմերային ծածկույթներում կոլոիդային սիլիցիումի երկօքսիդի կիրառման մասին ավելին իմանալու համար սեղմեք այստեղ։
Կոլոիդային սիլիցիումի երկօքսիդի արտադրությունը բազմափուլ գործընթաց է։ Ալկալիական սիլիկատի լուծույթի մասնակի չեզոքացումը հանգեցնում է սիլիցիումի երկօքսիդի սաղմերի առաջացմանը։ Կոլոիդային սիլիցիումի երկօքսիդի մասնիկների ենթամիավորների չափերը սովորաբար գտնվում են 1 և 5 nm միջակայքում։ Կախված պոլիմերացման պայմաններից՝ այս ենթամիավորները կարող են միանալ միմյանց։ pH-ը 7-ից ցածր իջեցնելու կամ աղ ավելացնելու դեպքում միավորները հակված են միաձուլվելու՝ առաջացնելով շղթաներ, որոնք հաճախ կոչվում են սիլիկագելեր։ Հակառակ դեպքում ենթամիավորները մնում են առանձին և աստիճանաբար աճում են։ Ստացված արտադրանքները հաճախ կոչվում են սիլիցիումի երկօքսիդի զոլեր կամ նստեցված սիլիցիումի երկօքսիդ։ Կոլոիդային սիլիցիումի երկօքսիդի կախույթը կայունացվում է pH-ի կարգավորմամբ, այնուհետև խտացվում է, օրինակ՝ գոլորշիացմամբ։
Զոլ–գել գործընթացներում ձայնամեխանիկական ազդեցությունների մասին ավելին իմանալու համար սեղմեք այստեղ։
Սիլիցիումի երկօքսիդի վտանգը առողջության համար
Չոր կամ օդում առկա բյուրեղային սիլիկոնի երկօքսիդը մարդու թոքերի համար քաղցկեղածին նյութ է, որը կարող է առաջացնել թոքերի ծանր հիվանդություններ, թոքերի քաղցկեղ կամ համակարգային աուտոիմուն հիվանդություններ։ Երբ սիլիցիումի երկօքսիդի փոշին ներշնչվում է և անցնում թոքեր, այն առաջացնում է սպիական հյուսվածքի ձևավորում և նվազեցնում թոքերի՝ թթվածին կլանելու կարողությունը (սիլիկոզ)։ SiO2-ի թրջումն ու դիսպերսումը հեղուկ փուլում, օրինակ՝ ուլտրաձայնային հոմոգենացման միջոցով, վերացնում են ներշնչման վտանգը։ Հետևաբար SiO2 պարունակող հեղուկ արտադրանքի՝ սիլիկոզ առաջացնելու վտանգը շատ ցածր է։ Չոր փոշու տեսքով սիլիցիումի երկօքսիդի հետ աշխատելիս օգտագործեք համապատասխան անհատական պաշտպանության միջոցներ։
Գրականություն
- Vikash, Vimal Kumar (2020): Ultrasonic-assisted de-agglomeration and power draw characterization of silica nanoparticles. Ultrasonics Sonochemistry, Volume 65, 2020.
- Rosa Mondragon, J. Enrique Julia, Antonio Barba, Juan Carlos Jarque (2012): Characterization of silica–water nanofluids dispersed with an ultrasound probe: A study of their physical properties and stability. Powder Technology, Volume 224, 2012. 138-146.
- Pohl, Markus; Schubert, Helmar (2004): Dispersion and deagglomeration of nanoparticles in aqueous solutions. PARTEC 2004.
Hielscher Ultrasonics-ը արտադրում է բարձր արտադրողականությամբ ուլտրաձայնային հոմոգենիզատորներ՝ լաբորատոր չափերից մինչև արդյունաբերական չափեր։


