Ultrasonik Sprey Piroliz

• Ultrasonik Sprey Piroliz (USP) nano materialları sintez etmək və substratları nazik film örtükləri ilə örtmək üçün vacib üsullardan biridir.
• Ultrasəs püskürtmə və atomizasiya, homojen yüksək keyfiyyətli çıxışla nəticələnən tam prosesə nəzarət etməyə imkan verir.
• Ultrasonik sprey piroliz adi üsullardan, məsələn, CVD-dən homojen paylanması və qənaətcilliyi ilə üstündür.

Ultrasonik Sprey Piroliz

Ultrasonik Sprey Piroliz (USP) kimi nano-materialların sintezi üçün geniş istifadə olunan sadə aerozol sintetik texnikasıdır. nazik filmlər və ya nanohissəciklər. Onun sayəsində asan fizibilite, Çeviklik və xərc-səmərəlilik, USP üsulu kimyəvi buxar çökdürülməsinə (CVD) mühüm alternativdir. Ultrasonik sprey piroliz üçün prekursorlar tez-tez vasitəsilə hazırlanır sol-gel marşrutu. Sintez edilmiş nanohissəciklərin və ya filmin tərkibi emal parametrlərinin dəyişdirilməsi ilə asanlıqla dəyişdirilə bilər. Ultrasonik sprey piroliz sizə verir tam nəzarət kimi ən mühüm proses parametrləri üzərində:

• Ultrasəs amplitüdü
• prekursor həlli
• prekursorun tərkibi/özlülük
• Axın
• çökmə temperaturu
• substratın temperaturu

Bu, ultrasəs sprey pirolizini istehsal üçün maraqlı bir texnologiya edir sıx və məsaməli hissəciklər və nazik təbəqə örtükləri.

Nanohissəciklərin sintezi üçün ultrasəs sprey pirolizi

Nanohissəciklər ultrasəs sprey piroliz yolu ilə sintez edildikdə, üzvi və qeyri-üzvi duzlar metal, oksid və kompozit nano tozların hazırlanması üçün prekursor kimi istifadə edilə bilər. İncə ölçülü damcı dumanı materialın termal parçalanmasının baş verdiyi sobaya getməzdən əvvəl prekursor məhlulu ultrasəslə atomlaşdırılır.
USP sintez edilmiş tozları üç qrupa bölmək olar:

1. Metallar, məsələn, Au, Ag, Co, Cu, Zn, Ni, Fe
2. Oksidlər, məsələn, TiO₂, ZnO, Al₂O₃, RuO₂
3. Qismən öz qabığı quruluşlu kompozit materiallar, məsələn CuNi, FeCo, NiCo, RuO₂/TiO₂, La0.6Sr0.4CoO₃, C/LiFePO₄, Au/TiO₂, Ag/TiO₂

İncə Film örtükləri üçün Ultrasonik Sprey Piroliz

Ultrasonik sprey piroliz vasitəsilə çox qatlı örtük istehsal edilə bilər ki, bu da funksional dərəcəli filmlərin hazırlanması üçün xüsusi maraq doğurur. Prekursor məhlulunu dəyişdirməklə, nazik təbəqə örtüyünün tərkibi və funksiyaları asan və dəqiq şəkildə dəyişdirilə bilər.