Ma'alo'obtal u ultrasonido Hielscher

Fresado ultrasónico u nano-powders termoeléctricos

  • Le investigación ts'o'ok demostrado ti' le fresado ultrasónico u páajtal utilizar belal utia'al u fabricación nanopartículas termoeléctricas yéetel u potencial u manipular le meyajo'ob le partículas.
  • Partículas fresadas tumen ultrasonidos (je'ebix, Bi2Teech3(-aleación bey je'el ti' le k'oja'ano'obo') tu ye'esaj jump'éel reducción significativa le Buka'aj yéetel nanopartículas fabricadas yéetel bey u 10 m.
  • Ku ts'o'okole', le sonicación yaantal cambios significativos ti' le morfología superficial ti' le partículas yéetel ku cha'antik bey funcionalizar superficie micro partículas yéetel nanopartículas.

 

Nanopartículas termoeléctricas

Le materiales termoeléctricos suutikuba'ob le energía térmica energía eléctrica bey je'el ti' le efecto Seebeck yéetel Peltier. Ti' le modo, jach páajtal sutk'esiko'ob le energía térmica Leti'e' talam utilizable wa óol perdida ti' aplicaciones productivas. Dado ti' le materiales termoeléctricos ku páajtal incluir ti' aplicaciones jchakajanalo'ob bey baterías biotérmicas, refrigeración termoeléctrica u noj sólido, u dispositivos optoelectrónicos, kúuchil yéetel generación energía automotriz, le investigación yéetel le industria táan u kaxtik Kaambalil yo'osal producir nanopartículas termoeléctricas respetuosas yéetel ka'a jeets', económicas yéetel estables u altas temperaturas. Fresado ultrasónico Bey u síntesis u abajo ti' ka'anal ()Sono-cristalización) ku le rutas prometedoras ti' le producción ti' juuch' rápida u nanomateriales termoeléctricos.

Nu'ukulo'ob u fresado ultrasónicos

Utia'al u reducción le Buka'aj partícula le telúurido bismuto (Bi2Teech3), silicida magnesio (Mg2Wa) yéetel juuch'bil silicio (wa), le yaan ultrasónico ka'anal intensidad UIP1000hdT (1 kW, 20 kHz) ku utilizó ti' jump'éel configuración vaso u precipitados abierto. Utia'al u láaj pruebas le amplitud ku estableció tu 140m. Le un'ukul muestra enfría ti' jump'éel wichkíil ja', le temperatura jach u controlada tumen termo-pareja. Debido a le sonicación ti' jump'éel un'ukul abierto, u utilizó refrigeración utia'al Jech evaporación le soluciones molienda (je'ebix, etanol, butanol wa ja').

Le fresado ultrasónico ku meyajtiko'ob belal utia'al xu'ulsiko'ob termoeléctricos materiales nanopartículas.

(u) diagrama esquemático ti' le configuración experimental. (b) aparato u fresado ultrasónico. fuente: Marquez-Garcia et el. 2015.

UIP2000hdT - jump'éel ultrasonicador ka'anal rendimiento 2000W utia'al fresado industrial nanopartículas.

UIP2000hdT yéetel reactor célula flujo presurizable

Solicitud a'alajil t'aan




Yanak ti' tu yilaje' k Política yojeta'al mixba'al.


Fresado ultrasónico utia'al u chéen 4 h u Bi2Teech3-aleación Sáam ralente ti' jump'éel cantidad sustancial ti' nanopartículas yéetel tamaños ichil 150 yéetel 400 nm. Beyxan ti' kaambalilo'ob le reducción Buka'aj rango nano, le sonicación xan resultó ti' jump'éel k'eexpajal morfología le superficie. Le máak SEM ti' u yoochel yáanal b, c, ka Mulix muestran u le bordes afilados ti' le partículas antes ti' fresado ultrasónico ku séen suut lisos yéetel redondos ka' u fresado ultrasónico.

Ultrasónico fresado u nanopartículas u aleación basadas ti' Bi2Te3.

Distribución Buka'aj partícula yéetel máak SEM u aleación bey je'el ti' Bi2Te3 ka'ache' yéetel ka' u fresado ultrasónico. Jump'éel – Distribución le Buka'aj le partículas; B – Wíimbala' SEM bey ma' le fresado ultrasónico; C – Wíimbala' SEM ka' le fresado ultrasónico ti' 4 h; MULIX – Wíimbala' SEM ka' le fresado ultrasónico ti' 8 h.
fuente: Marquez-Garcia et el. 2015.

Utia'al determinar wa u reducción le Buka'aj partícula yéetel le uchik u péeksa'al ti' le superficie ku logran bix chen yo'osal le fresado ultrasónico, j-bisa'abi' ka'ansaj experimentos similares utilizando jump'éel molino wóolol ka'anal energía. Ya'ala'al máaxo'ob máano'ob u muestran le Fig. 3. Jach evidente u le partículas 200-800 nm bino'ob producidas por fresado u wóolol ichil 48 h (12 Óoxten asab u le fresado ultrasónico). SEM u ye'esik u le bordes afilados ti' le2Teech3-le partículas aleación permanecen esencialmente xma' cambios ka' u fresado. Le k'iino'oba' ya'ala'al máaxo'ob máano'ob indican ti' le bordes lisos le yáantajo'ob únicas ti' le fresado ultrasónico. Le t'áal k'u' k'iin por fresado ultrasónico (4 h vs 48 h fresado ti' wóolol) xan le notables.

Ultrasónico fresado u Mg2Si.

Distribución Buka'aj partícula yéetel máak SEM Mg2Si ka'ache' yéetel ka' u fresado ultrasónico. (u) Distribución le Buka'aj le partículas; (b) wíimbala' SEM bey ma' le fresado ultrasónico; (c) wíimbala' SEM ka' le fresado ultrasónico ti' 50 ti chúumuk PVP - 50 ti chúumuk EtOH ichil 2 h.
fuente: Marquez-Garcia et el. 2015.

(2015) concluyen ti' le fresado ultrasónico u degradar2Teech3 ka Mg2Wa juuch'bil ti' partículas asab mejen, cuyos tamaños oscilan ichil 40 yéetel 400 nm, ku sugiere jump'éel láaka potencial utia'al u producción industrial u nanopartículas. Ti' comparación yéetel le fresado ku wóolol ka'anal energía, le fresado ultrasónico yaan ka'ap'éel yáantajo'ob únicas:

  1. 1 le aparición jump'éel brecha Buka'aj partícula u separa le partículas originales ti' le producidas por fresado ultrasónico; Ka
  2. 2 cambios sustanciales ti' le morfología u superficie le evidentes ka' u fresado ultrasónico, ku indica u posibilidad u manipular le meyajo'ob le partículas.

Conclusión

Le fresado ultrasónico ti' partículas asab duras k'a'abet sonicación yáanal presión utia'al u generar jump'éel cavitación intensa. Le sonicación yáanal presión elevada (u t'aan manosonicación) aumenta drásticamente le muuk' ti' cizallamiento yéetel estrés ti' le partículas.
Juntúul configuración sonicación ti' internet ichil continua Cha' asab kuuch partículas (lodos similares ti' pastas), ku mejora ya'ala'al máaxo'ob máano'ob u fresado ts'o'ok u le fresado ultrasónico ku basa ti' le colisión ichil partículas.
Le sonicación ti' jump'éel configuración recirculación discreta Cha' u garantizar jump'éel Ts'a'akal homogéneo u láaj partículas yéetel, tune', jump'éel distribución Buka'aj partícula jach estrecha.

Jump'éel ventaja k'a'abéet ti' le fresado ultrasónico le u le ma'alo'obtal ku páajtal escalar uchik utia'al le producción yaan xan ya'abach: le fresado ultrasónico industrial potente disponible comercialmente je'el manejar yaan xan ya'abach tak 10 m3h.

Ventajas ti' le fresado ultrasónico

  • Séeba'an, ahorrando k'iin
  • t'áal k'u' energía
  • ya'ala'al máaxo'ob máano'ob reproducibles
  • Xma' soportedente (xma' perlas mix perlas).
  • Yáanal tojol inversión

Ultrasonidos ka'anal rendimiento

Le fresado ultrasónico k'a'abet nu'ukulilo'ob ultrasónicos ti' ka'anal potencia. Con el Fin de generar intensas muuk' cizallamiento cavitacional, le altas amplitudes yéetel le presión ku cruciales. Hielscher Ultrasonidos’ le procesadores ultrasónicos industriales táan u béeytal u ofrecer amplitudes jach altas. Amplitudes tak 200 m ku páajtal ejecutar uchik u beyo' continua ti' funcionamiento 24 leti' 7. Utia'al amplitudes láayli' asab altas, u disponibles sonotrodos ultrasónicos personalizados. Ti' combinación yéetel le reactores flujo presurizable u Hielscher, ku crea jump'éel cavitación jach intensa utia'al u u páajtal u superar le unión intermoleculares yéetel logren táanil u fresado eficientes.
Robustez le nu'ukulil ultrasónico u Hielscher ku cha'antik jump'éel funcionamiento 24 leti' 7 ti' condiciones pesadas yéetel tu entornos exigentes. U kaambalil yo'osal digital yéetel remoto, bey le grabación yo'osal u datos ti' jump'éel tarjeta SD integrada, garantizan jump'éel procesamiento preciso, calidad reproducible yéetel permiten u estandarización le tuukula'.

Ventajas le ultrasonicadores ka'anal rendimiento Hielscher

  • amplitudes jach altas
  • altas presiones
  • tuukula' continuo ti' internet ichil
  • nu'ukulil robusto
  • escalado lineal
  • ahorrar yéetel ch'a'abil u operar
  • Chéen ch'a'abil u cho'oik

Ti' máax ku yéetel to'on! Leti' k'áatiko'ob k!

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Béet meyaj le uláak' formulario, wa k'áato' solicitar a'alajil t'aan adicional yo'osal homogeneización ultrasónica. Yaan k encantados u ofrecer juntúul t.u.m ultrasónico u satisfacer le requerimientos.









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Hielscher Ultrasonidos fabrica ultrasonicadores ka'anal rendimiento utia'al u aplicaciones sonoquímicas.

Procesadores ultrasónicos u ka'anal potencia tak laboratorio tak le escala piloto yéetel industrial.

Literatura leti' referencias

  • Marquez - Garcia L., Li W., Bomphrey J.J., Jarvis D.J., Min G. (2015): Wa u nanopartículas materiales termoeléctricos por fresado ultrasónico yilik. Pikil u Materiales Electrónicos 2015.


Hechos u tojol le su'utalil K'ajóolt

Efecto termoeléctrico

Le materiales termoeléctricos ku caracterizan tumen we'esik le efecto termoeléctrico ti' jump'éel bix k'a'am wa conveniente, utilizable. Le efecto termoeléctrico refiere fenómenos tumen le ju'unil jump'éel jela'anil in temperatura crea jump'éel potencial eléctrico wa jump'éel potencial eléctrico crea jump'éel jela'anil in temperatura. Le fenómenos u yojelo'ob u chan bey le efecto Seebeck, u describe le tzeltalo'obo' le temperatura ti' le sáasilo'., le efecto Peltier, u describe le tzeltalo'obo' le sáasilo' ti' le temperatura, yéetel le efecto Thomson, u describe le conductor calefacción leti' refrigeración. Tuláakal le materiales yaan ti' jump'éel efecto termoeléctrico distinto ti' cero, ba'ale' ti' óol tuláakal le máasewáalo'obo' ti' le materiales Jach chichan utia'al útil. Xma' embargo ti', le materiales ku t'okik ta manaj u muestran jump'éel efecto termoeléctrico píibo' k'a'am, bey uláak' propiedades requeridas utia'al u beta'al le aplicables, ku páajtal utilizar ti' aplicaciones bey le generación energía yéetel le refrigeración. Bejla'e', bismuth telluride (Bi2Teech3). le ampliamente utilizado tumen u efecto termoeléctrico