Ma'alo'obtal u ultrasonido Hielscher

Dispersión u ultrasónica le grafeno

  • Utia'al u incorporar u grafeno u materiales compuestos, le grafeno k'a'ana'an u disperso leti' exfoliación bey nano-le' sueltas uniformemente ti' le formulación. Buka'aj mayor je'el u grado desaglomeración, u aprovechan ma'alob le propiedades le xooko'obo' extraordinario.
  • Dispersión ultrasónica ku cha'antik jump'éel estabilidad ti' le distribución yéetel dispersión partícula superior – páajtal ti' le formulación ti' altas concentraciones yéetel viscosidades.
  • Procesamiento ultrasónico u grafeno u ts'aik excepcional dispersión cualidades yéetel métodos u mezcla convencionales destaca tu gran medida.

 

Dispersión u ultrasónica le grafeno

Utia'al u páay materiales compuestos le excepcionales yáantajo'ob ti' le xooko'obo' grafeno bey fuerza, grafeno k'a'ana'an dispersos ti' jump'éel matriz wa ku aplicado bey juntúul capa cha'ano' bek'ech yóok'ol jump'éel sustrato. Aglomeración, le sedimentación yéetel le dispersión ti' jump'éel matriz (wa u distribución partículas yóok'ol le sustrato, respectivamente). le ba'ax importantes ka influyen ti' le propiedades le xooko'obo' resultante.
Debido a u ku hidrofóbica, le ti' jump'éel dispersión grafeno estable yéetel ma'alob concentrado xma' surfactantes wa dispersantes meyajile' jump'éel ts'íib talamil. Utia'al u superar le muuk' u van der Waals ti', muuk' u esquileo k'a'am generadas tumen Cavitación ultrasónica le le método asab sofisticado utia'al u mentik dispersiones estables.
Grafeno yéetel jump'éel ka'anal conductividad eléctrica (712 S·m-1), ma'alo'ob dispersity yéetel ka'anal concentración páajtal u uchik preparados usando jump'éel dispersor ti' ultrasonidos, tales bey UIP2000hdT o UIP4000. Sonicación Cha' utia'al u mentik jump'éel dispersión grafeno estable u temperatura u tuukula' baja aprox. 65° kuxtal

Nanosheets óxido grafeno yo'osal ultrasonidos exfoliada (Jay et el. 2010).

Wíimbala' SEM u grafeno yo'osal ultrasonidos dispersos nanosheets

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Puesto ti' le parámetros sonicación táan u béeytal u precisamente controlados, ma'alo'obtal dispersión ultrasónica evita tu p'ataji' le ka'ansaj químicas yéetel cristal grafeno – Táan u bey resultado hojuelas grafeno vírgenes, libres u defectos.
Poderosos sistemas ultrasonidos Hielscher ku capaces u procesar grafito te' nukuch volúmenes, je'ebix utia'al u exfoliación le fase líquida yéetel dispersión grafeno yéetel grafeno. U kaambalil yo'osal exacto ti' le parámetros tuukula' Cha' utia'al u escala transparente u procesos soldadura ultrasónica u sobremesa le ku producción.
Grafeno capa u yaan ultrasonidos exfoliada yéetel aprox. 3-4 capas yéetel jump'éel Buka'aj aprox. u 1μm páajtal (re-) dispersas ti' concentraciones bey 63 mg leti' mL.

Ventajas:

    • grafeno ka'anal calidad

Exfoliación grafeno yéetel dispersor ultrasónico UP400St

  • ka'anal rendimiento
  • dispersión xan
  • ka'anal concentración
  • altas viscosidades
  • séeba'an tuukula'
  • yáanal ta manaj
  • ka'anal rendimiento
  • ma'alob eficiente
  • respetuoso u ka'a jeets'
Yaan u dispersión ultrasónico alta potencia (7 x UIP1000hdT) utia'al procesar grafeno ti' escala industrial. (Click utia'al agrandar!).

reactor ultrasónico 7KW u dispersiones grafeno

Kaambalilo'ob ti' dispersión ultrasónicos

Hielscher Ultrasonics k'u'ubul ka'anal potencia sistemas ultrasónicos yo'osal le exfoliación yéetel le dispersión grafito ti' ba'ats-, bi - yéetel Jayp'éel capas grafeno yéetel u granel ti' capas grafeno. Procesadores ultrasónicos u confiables ka sofisticados reactores ku ts'abal le potencia k'a'abeto'ob, condiciones tuukula' bey jump'éel kaambalil yo'osal preciso, utia'al u ya'ala'al máaxo'ob máano'ob le tuukula' ultrasónico páajtal ajustar ku exactamente u ku tuukula' deseado.
Juntúul parámetros tuukula' ke leti' le amplitud ultrasónica (desplazamiento vibracional ti' le cuerno ultrasónico). U Hielscher kaambalilo'ob ti' ultrasonido industriales construidas u utia'al ofrecer jach altas amplitudes. Amplitudes tak 200μm ku páajtal ejecutar uchik continuamente ti' operación 24 leti' 7. Utia'al u asab amplitud, Hielscher ku sondas ultrasónicas juubulo'ob utia'al u requisitos particulares. Tuláakal k procesadores ultrasónicos páajtal ajustar exactamente ti' le condiciones tuukula' k'a'abet yéetel monitoreados uchik por medio de le software incorporado. Le ba'ala' asegura le wóolis fiabilidad, calidad yéetel ya'ala'al máaxo'ob máano'ob reproducibles. Robustez le nu'ukulo'ob ultrasonidos Hielscher ku cha'antik jump'éel funcionamiento 24 leti' 7 ichil meyaj aal yéetel le entornos asab exigentes. Le je'ela' ku beetik u sonicación le ma'alo'obtal producción preferido utia'al u preparación tu gran escala nanosheets mono yéetel Jayp'éel capas grafeno.
Ofreciendo amplia gama yik'áalil ultrasonicators yéetel accesorios (bey Sonotrodos yéetel reactores yéetel jejeláas geometrías yéetel tamaños), le más ti'alo'ob condiciones reacción yéetel ba'ax (je'el reactivos, entrada ti' le energía ultrasónica tumen volumen, presión, temperatura, caudal etcetera.). Je'el elegir tia'al le asab ka'anal calidad. Kuuchil k reactores ultrasonidos táan u béeytal u presurizados tak ya'ab cientos barg, sonicación pastas ma'alob viscosos yéetel u 250.000 centipoise ma' jach talamil utia'al sistemas ultrasónicos u Hielscher.
Debido a le ba'ax, exfoliación ultrasónica leti' exfoliación yéetel dispersión sobresale le pulido convencional yéetel yo'osal u fresado.

Hielscher Ultrasonics

  • Ultrasonido alta potencia
  • muuk' paralelas
  • altas presiones aplicables
  • Kaambalil yo'osal preciso
  • jump'éel escalabilidad (lineal).
  • lote ka flujo
  • ya'ala'al máaxo'ob máano'ob reproducibles
  • fiabilidad
  • robustez
  • ka'anal eficiencia energética

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Grafeno

Grafeno le jump'éel capa jump'éel átomo espesor carbono, u páajtal u descrito bey juntúul ba'ax 2D wa u tin juunal capa grafeno (tin juunal capa grafeno = SLG). Graphene yaan ti' jump'éel extraordinario nojoch superficie específica yéetel propiedades mecánicas superiores (xook Young 1 TPa yéetel u intrínseca muuk' 130 GPa), k'u'ubul nuxi' conductividad electrónica yéetel térmica, movilidad portador kuuch, transparencia yéetel impermeable ti' le gases. Debido a a yáantajo'ob le, le grafeno ku meyajtiko'ob bey refuerzo aditivo ka u ts'áaj compuestos ti' u resistencia, conductividad, etcetera. Utia'al u combinar le yáantajo'ob ti' le grafeno yéetel uláak' materiales, grafeno k'a'ana'an dispersar ti' le compuesto wa ku aplica bey juntúul capa cha'ano' bek'ech yóok'ol jump'éel sustrato.
Le solventes náats'al, ka u menudo u utilizan bey fase líquida utia'al u dispersar le nanosheets grafeno, le dimetilsulfóxido (DMSO), N, N-dimetilformamida (DMF), N-metil-2-pirrolidona (NMP), tetrametilurea (propileno TMU, tetrahidrofurano (THF), carbonateacetone (PC), etanol yéetel formamida.

Ba'axten ka Composites basados ti' grafeno.

Grafeno le yéetel juntúul espesor jump'éel átomo asab bek'ech, yéetel juntúul peso yan 0,77 mg tumen 1m2 le asab ligero yéetel juntúul rigidez tracción 150.000.000 psi (100 - 300 Óoxten asab k'a'an u le acero) yéetel jump'éel muuk' extensible 130,000,000,000 pascales le xooko'obo' asab k'a'an k'ajóolta'an. Ku ts'o'okole', le grafeno jach le utsil conductor térmico (u temperatura ambiente (4. 84±0. 44) × 10).3 u (5. 30±0. 48) × 103 Wám-11· K'UJ-1) yéetel le utsil conductor eléctrico (asab bey 15.000 cm movilidad electrónica2· V-1. Guatemala mina'an u yotocho'ob-1). Uláak' yáantajo'ob Páaybe'en ti' le grafeno jach u óptica yéetel juntúul absorción le sáasilo' ti' le πα≈2. 3 ti chúumuk le sáasilo' sak yéetel u bey transparente.
Ti' le incorporar grafeno ti' matrices, le yáantajo'ob ts'aak u páajtal transferir ti' le compuesto resultante, ku k'u'ubul funcionalidades únicas. Le composites reforzados yéetel grafeno ku ts'abal túumben posibilidades utia'al le ma'alo'ob u materiales yéetel aplicaciones industriales. Debido a u yáantajo'ob, grafeno yéetel compuestos grafeno le ts'o'ok ampliamente difundidos ti' le fabricación baterías ka'anal rendimiento, supercondensadores, tintas conductivas, recubrimientos, sistemas fotovoltaicos yéetel dispositivos electrónicos
Potentes procesadores ultrasónicos u Hielscher u entregan le muuk' alta cizalladura k'a'abet superar muuk' u van der Waals utia'al u distribuir uniformemente le grafeno nanosheets ti' matrices compuestas. Dispersores ultrasónicos bey le UIP2000hdT o UIP16000 utilizan utia'al u producir nano-composites reforzados yéetel óxido grafeno yéetel grafeno.