Le nanopartículas sílice bey le sílice pirógena (je'ebix, Aerosil) ku jump'éel aditivo ampliamente utilizado te' ya'abkach industrias. Con el Fin de kéen p'áatak nanosílice completamente funcional yéetel le ba'alo'ob le xooko'obo' deseado, le nanopartículas sílice k'a'abéet u desaglomeradas ka distribuidas bey partículas jump'éel tin juunal dispersión. Le desaglomeración ultrasónica u demostrado u jump'éel láaka ma'alob eficiente ka confiable utia'al u distribuir nanosílica uniformemente bey partículas dispersas ti' jump'éel suspensión.

Nanosílica – Yáantajo'ob ka Aplicaciones

Sílice (SiO₂) yéetel especialmente le nanopartículas sílice (wa-NPs) ku aditivos náats'al ti' ya'ab industrias. Le partículas sílice Buka'aj nanodimensional ku ts'abal jump'éel superficie jach nojoch yéetel expresan yáantajo'ob ti' partículas únicas, u utilizan ti' ya'ab industrias ti' jejeláas fines. Je'ebix, le propiedades únicas ti' le xooko'obo' SiO Buka'aj nanodimensionado₂ u aplican con el fin de reforzar (nano) compuestos, hormigón yéetel uláak' materiales. Ts'ts'e'ek le le recubrimientos yéetel nanosílica ku ts'abal propiedades ignífugas wa u vidrio recubierto yéetel nanosílica ku obtiene propiedades antirreflejantes. Ti' le industria le construcción, le humos sílice (microsílica) yéetel nanosílica ku utilizan bey xooko'obo' ma'alob puzolánico ba'ax ku meyajtiko'ob yo'osal u ma'alo'obkíinsiko'ob u trabajabilidad, bey le propiedades mecánicas yéetel u durabilidad le hormigón. Le ken u comparan le humos sílice yéetel le nanosílica, le SiO nanoestructurado₂ Le puzolana jach asab activa ti' le temprana p'isibij ku humos u sílice, ts'o'ok u le nanosílica k'u'ubul jump'éel superficie específica significativamente asab ka finura. Le asab superficie k'u'ubul asab lu'umo'. lelo'oba' utia'al reaccionar yéetel le hormigón yéetel contribuye específicamente ti' jump'éel microestructura hormigón mejorada ti' le kan bey núcleo. Le permeabilidad ti' le gas, jump'éel indicador u durabilidad le hormigón, ku mejora le hormigón táan reforzado yéetel nano-sílice ti' comparación yéetel le hormigón ku taasik humos u sílice tu'ux.
Ti' biomedicina yéetel ciencias u kuxtal, SiO₂ le nanopartículas ku investigan ampliamente utia'al jejeláas aplicaciones, ts'o'ok u le ka'anal superficie, le excelente biocompatibilidad yéetel le Buka'aj le poros sintonizables ti' le nanosilica ku ts'abal amplia gama aplicaciones jchakajanalo'ob, incluida le ma'alo'ob meyaj ku beetik fármacos yéetel le teranasia.

Le gráfico ye'esik le distribución le Buka'aj partícula le nano-sílice ka'ache' (curva ya'ax) yéetel ku ts'o'okole' (curva chak) dispersión ultrasónica.

Desaglomeración ultrasónica yéetel dispersión nano-sílice

Le principio funcionamiento ti' le desaglomeración yéetel dispersión ultrasónica u basa le táanil le cavitación generada tumen ultrasonidos, k'ajo'olta'an científicamente bey cavitación acústica. U kaambalil yo'osal ultrasonidos u ka'anal potencia yéetel baja frecuencia te' ts'a'abal wa lodos je'el u páajtal u causar cavitación acústica yéetel, tune', condiciones extremas, u ocurren localmente bey presiones ka temperaturas jach altas, ka microstreaming yéetel chooj ta'an líquido tak 280 m leti' s. Le intensos táanil físicos yéetel mecánicos ti' le cavitación ultrasónica causan erosión way le partícula, bey le rotura partículas ti' le colisión ichil partículas. Táan a intensas muuk' cavitación ultrasónica leti' acústica ku betiko'ob le sonicación jump'éel método ma'alob eficiente ka confiable yo'osal le desaglomeración yéetel dispersión partículas Buka'aj nanométrico bey nano-sílice, nanotubos yéetel uláak' nanomateriales.

Distribución le Buka'aj partícula nano-sílice desaglomerada ultrasónicamente (usando le ultrasonicador Hielscher UP400St) ichil ja' (u) 1 ti Chúumuk ti' peso, (b) 2 ti Chúumuk ti' peso, (c) 5 ti Chúumuk ti' peso yéetel (Mulix) 10 ti Chúumuk ti' peso Aerosil 200 ti' jejeláas intervalos k'iin.
Xook yéetel gráficos: Vikash 2020.

Procesamiento ultrasónico u sílice yéetel altas concentraciones sólidas, ti' ts'a'abal viscosos

Le dispersión nanopartículas ti' bajas concentraciones ts'o'ok jach juntúul desafío, ts'o'ok u le muuk' enlace químico bey le K'aanan iónicos, le K'aanan covalentes, le K'aanan hidrógeno yéetel le interacciones van der Waals k'a'abéet superar u. Yéetel u aumento le concentración nanopartículas, je'ebix, partículas nano-sílice, le interacción química ichil le nanopartículas xan aumenta significativamente. Lela' u k'áat u ya'al ti' jump'éel láaka dispersión potente le tuukulo'obo' tia'al ma'alo'ob ya'ala'al máaxo'ob máano'ob dispersión estables chowak plazo. Le dispersores ultrasónicos ku utilizan bey método dispersión confiable yéetel ma'alob xoknáalo'obo',, uchik capaces u procesar lodos yéetel altas viscosidades yéetel incluso pastas yéetel concentraciones sólidas u jach altas. Le Buka'aj u ba'al u procesar lodos yéetel altas kuuch sólidas nanopartículas p'áatal le ultrasonidos ti' le ma'alo'obtal dispersión preferida ti' le nanomateriales.
Le ultrasonicadores industriales Hielscher páajtal procesar u suspensión wa pasta ti' jump'éel reactor continuo ti' internet ichil, siempre yéetel ken u pajtal tséentik ti' jump'éel bomba.

Producción ultrasónica u nanofluidos u sílice

(2012) tu beetajo'ob ya'abkach nanofluidos sílice preparados yo'osal le dispersión nanopartículas sílice ti' destilada ja' utilizando le ultrasonicador bin yano'ob sonda UP400S. Utia'al u producir nanofluidos u sílice estables yéetel jump'éel jaaj contenido sólido (es decir 20 ti chúumuk), yéetel baja viscosidad yéetel je'el bix comportamiento líquido, consisten ti' jump'éel Ts'a'akal ka'anal energía yéetel juntúul sonda ultrasonido ichil 5 minutos medios k'a'abeto'ob (uts' k'ajóolilo'obo' u pH superiores ti' 7) yéetel xma' adición ta'ab. Le dispersión ultrasónica tu kúuchil u nanofluidos yéetel baja viscosidad. Le nanofluidos preparados tumen ultrasonidos u comportaron bey ts'a'abal yéetel u tu beetajo'ob ya'abkach yéetel jump'éel 20 ti chúumuk kuuch sólida ti' jach jump'íit k'iin óolal ti' Jaajal le ma'alo'ob dispersión lograda yéetel le sonicación.
"U tuláakal métodos u dispersión disponibles, dispersión yéetel sondas ultrasónicas u ts'o'ok confirmado bey u asab efectiva". (Modragon et ti' le., 2012).
Petzold et ti' le. (2009) k'ucho'ob le ti' jump'éelili' kuchil-conclusión utia'al u desaglomeración le tuunicha' Aerosil encontrando ti' le sonda ultrasónica le le yaan dispersión asab xoknáalo'obo' debido a le energía ma'alob enfocada aplicada.

Ultrasonicadores yo'osal desaglomeración yéetel dispersión nanopartículas sílice

Le ken u meyajtiko'ob nano-sílice ti' aplicaciones industriales, investigación wa ciencia materiales, le tuunicha' sílice tikin ka ts'aik ti' jump'éel fase líquida. Le dispersión nano-sílice k'a'abet jump'éel láaka dispersión confiable yéetel efectiva, u aplica suficiente energía utia'al u desaglomerar le partículas u sílice individuales. Le ultrasonicadores ku ma'alob k'ajóolta'ano'ob bix dispersores potentes yéetel confiables, tune', u utilizan yo'osal desaglomerar yéetel distribuir jejeláas materiales bey sílice, nanotubos, grafeno, minerales yéetel ya'ab uláak' materiales bix homogénea ti' jump'éel fase líquida.

Hielscher Ultrasonics diseña, fabrica yéetel distribuye dispersores ultrasónicos u ka'anal rendimiento utia'al je'el bin yano'ob aplicaciones homogeneización yéetel desaglomeración. Ka lela' u producción nano-dispersiones, le kaambalil yo'osal preciso sonicación yéetel jump'éel Ts'a'akal ultrasónico confiable ti' le suspensión nanopartículas le láakal tia'al yik'áalil ka'anal rendimiento.
Le procesadores Hielscher Ultrasonics ti' ts'áabal jump'éel kaambalil yo'osal total yóok'ol tuláakal le parámetros u procesamiento importantes, bey yaan tu energía jool, le intensidad ultrasónica, le amplitud, le presión, le temperatura yéetel le k'iin ken. Tune', u ajustar le parámetros condiciones optimizadas, u conduce posteriormente ti' le nano-dispersión ka'anal calidad, bey le lodos síijil.
Utia'al u je'el volumen leti' Buka'aj u ba'al: Hielscher ku ultrasonidos yéetel amplia cartera accesorios. Le je'ela' ku cha'antik le configuración le yaan ultrasónico beetike' uts yo'osal u ka'anatako'ob Buka'aj u ba'al u producción. Tak mejen viales ku ya'alik jump'éel pocos mililitros tak corrientes ka'anal volumen u miles galones tumen p'isib, Hielscher k'u'ubul le solución ultrasónica jach u nupmo'ob utia'al u tuukula'.
Robustez: K sistemas ultrasónicos le robustos yéetel fiables. Tuláakal le ultrasonicadores Hielscher beta'aniko'ob utia'al funcionamiento 24 leti' 7 leti' 365 yéetel requieren jach jump'íit mantenimiento.
Facilidad u búukinta'al: Le elaborado software k dispositivos ultrasónicos ku cha'antik le preselección yéetel le t'áal k'u' ajustes sonicación ti' jump'éel sonicación simple yéetel fiable. Le menú intuitivo jach uchik bejo' ti' jump'éel pantalla táctil u boonil digital. U kaambalil yo'osal remoto ti' le navegador ti' Cha' operar yéetel supervisar yéetel je'el navegador Internet. Le grabación yo'osal u datos ta'akikubáa le parámetros tuukula' je'el meyajta'ale' sonicación ti' jump'éel tarjeta SD integrada.
Excelente eficiencia energética: Ti' comparación yéetel le tecnologías dispersión alternativas, le ultrasonicadores Hielscher jach yéetel juntúul eficiencia energética excepcional yéetel ya'ala'al máaxo'ob máano'ob superiores ti' le distribución le Buka'aj partícula.

Le gráfico ye'esik le ventaja significativa ti' le dispersión ultrasónica ti' sílice yéetel le Hielscher UIP1000 ti' comparación yéetel juntúul ultra-turrax. Ultrasonidos k'a'abet menos energía yéetel logra drásticamente menor Buka'aj partículas le sílice.

Le uláak' tabla ku ts'aik ti' jump'éel indicación le Buka'aj u ba'al u procesamiento u aproximado k ultrasonicators: