Desaglomeración ultrasónica u nanopartículas sílice

Le nanopartículas sílice, bey le sílice pirógena (je'ebix, Aerosil), le jump'éel aditivo ampliamente utilizado ti' kúuchilo'ob industrias. Con el Fin de kéen p'áatak jump'éel nanosílice completamente funcional yéetel le ba'alo'ob deseadas ti' le, le nanopartículas sílice k'a'abéet desaglomerar u yéetel distribuir bey partículas individuales u dispersas. Ku u demostrado le desaglomeración ultrasónica ba'axi' jump'éel láaka jach xoknáalo'obo' yéetel fiable utia'al u distribuir u nanosílice u kin tuukul xan bey partículas individuales dispersas ti' jump'éel suspensión.

u nanosílice – Yáantajo'ob ka aplicaciones

Sílice (SiO₂) yéetel especialmente le nanopartículas sílice (wa-NPs) ku aditivos náats'al ti' ya'ab industrias. Le partículas sílice Buka'aj nanométrico ts'abal jump'éel superficie jach nojoch yéetel expresan yáantajo'ob ti' partícula únicas, u utilizan ti' ya'ab industrias ti' jejeláas fines. Je'ebix, le propiedades únicas ti' le materiales SiO Buka'aj nanométrico₂ u aplican utia'al reforzar (nano) compuestos, hormigón yéetel uláak' materiales. Ts'ts'e'ek le le recubrimientos yéetel nanosílice ku ts'abal propiedades ignífugas wa u vidrio recubierto yéetel nanosílice obtiene bey propiedades antirreflectantes. Ti' le industria le construcción, u buuts' le sílice (microsílice) yéetel le nanosílice ku utilizan bey xooko'obo' ma'alob puzolánico ba'ax ku meyajtiko'ob yo'osal u ma'alo'obkíinsiko'ob u trabajabilidad, bey le propiedades mecánicas yéetel u durabilidad le hormigón. Le ken u comparan u buuts' le sílice yéetel le nanosílice, le SiO nanoestructurado₂ Le puzolana jach asab activa ti' jump'éel p'isibij temprana u buuts' le sílice, ts'o'ok u le nanosílice k'u'ubul jump'éel kúuchil superficie específica yéetel juntúul finura significativamente mayores. Le asab superficie k'u'ubul asab lu'umo'. lelo'oba' utia'al reaccionar yéetel le hormigón yéetel contribuye específicamente ti' jump'éel microestructura hormigón mejorada ti' le kan bey núcleo. Le permeabilidad ti' le gas, jump'éel indicador u durabilidad le hormigón, mejora ti' le hormigón reforzado yéetel nanosílice ti' comparación yéetel le hormigón ku ku taasik buuts' sílice xíiw.
Ti' biomedicina yéetel ciencias u kuxtal, SiO₂ Le nanopartículas ku investigan ampliamente utia'al jejeláas aplicaciones, ts'o'ok u le ka'anal superficie, le excelente biocompatibilidad yéetel le Buka'aj poro ajustable ti' le nanosílice ku ts'abal amplia gama aplicaciones jchakajanalo'ob, incluida le ma'alo'ob meyaj ku beetik fármacos yéetel le teranóstica.

Le gráfico ye'esik le distribución le Buka'aj partícula le nanosílice ka'ache' (curva ya'ax) yéetel ku ts'o'okole' (curva chak) ti' le dispersión ultrasónica.

Desaglomeración ultrasónica yéetel dispersión nanosílice

Le principio funcionamiento ti' le desaglomeración yéetel dispersión ultrasónica u basa le táanil le cavitación generada tumen ultrasonidos, k'ajo'olta'an científicamente bey cavitación acústica. U kaambalil yo'osal ultrasonidos u ka'anal potencia yéetel baja frecuencia te' ts'a'abal wa lodos je'el provocar cavitación acústica yéetel, Ba'axten seen condiciones extremas, ba'ax ku ku ts'áiko'ob localmente bey presiones ka temperaturas jach altas, ka microflujos yéetel chooj ta'an líquido tak 280 m leti' s. Le intensos táanil físicos yéetel mecánicos ti' le cavitación ultrasónica provocan erosión way le partículas, bey u rotura le partículas tumen colisión ichil partículas. Táan a intensas muuk' cavitación ultrasónica leti' acústica ku betiko'ob le sonicación jump'éel método jach xoknáalo'obo' yéetel fiable yo'osal le desaglomeración yéetel dispersión partículas Buka'aj nanométrico bey nanosílice, nanotubos yéetel uláak' nanomateriales.

Distribución le Buka'aj partícula nanosílice desaglomerada tumen ultrasonidos (utilizando le ultrasonido Hielscher UP400St) ichil ja' (u) 1 ti Chúumuk ti' peso, (b) 2 ti Chúumuk ti' peso, (c) 5 ti Chúumuk ti' peso yéetel (Mulix) 10 ti Chúumuk ti' peso Aerosil 200 ti' jejeláas intervalos k'iin.
Xook yéetel gráficos: Vikash 2020.

Procesamiento ultrasónico u sílice yéetel altas concentraciones sólidos, ti' ts'a'abal viscosos

Le dispersión nanopartículas ti' bajas concentraciones ts'o'ok jach juntúul desafío, ts'o'ok u u k'a'abéet superar le muuk' enlace químico, bey le K'aanan iónicos, le K'aanan covalentes, le K'aanan hidrógeno yéetel le interacciones ku van der Waals. Yéetel u aumento le concentración nanopartículas, je'ebix, nanopartículas sílice, le interacción química ichil le nanopartículas xan aumenta significativamente. Lela' u k'áat u ya'al ti' jump'éel láaka dispersión potente le tuukulo'obo' tia'al ma'alo'ob ya'ala'al máaxo'ob máano'ob dispersión estables chowak plazo. Le dispersores ultrasónicos ku utilizan bey método dispersión fiable yéetel jach xoknáalo'obo',, uchik capaces u procesar lodos yéetel altas viscosidades yéetel incluso pastas yéetel concentraciones sólidos jach altas. Le Buka'aj u ba'al u procesar lodos yéetel altas kuuch sólidas nanopartículas p'áatal le ultrasonicación ti' le ma'alo'obtal dispersión preferida ti' le nanomateriales.
Le ultrasonidos industriales ti' Hielscher páajtal procesar tu luuk' wa pasta ti' jump'éel reactor continuo ti' internet ichil siempre u pajtal yéetel ken u tsentuba'obi' u ti' jump'éel bomba.

Producción ultrasónica u nanofluidos u sílice

Modragon et ti' le. (2012) tu beetajo'ob ya'abkach nanofluidos u sílice preparados yo'osal le dispersión nanopartículas sílice ti' destilada ja' utilizando le ultrasonido sonda UP400S. Utia'al u producir nanofluidos u sílice estables yéetel jump'éel jaaj contenido sólidos (es decir 20 ti chúumuk), yéetel baja viscosidad yéetel comportamiento similar ti' le líquido, consisten ti' jump'éel Ts'a'akal ka'anal energía yéetel juntúul sonda ultrasonidos ichil 5 minutos medios k'a'abeto'ob (uts' k'ajóolilo'obo' u pH superiores ti' 7) yéetel xma' adición ta'ab. Le dispersión ultrasónica tu ts'áaj bey resultado nanofluidos yéetel baja viscosidad. Le nanofluidos preparados tumen ultrasonidos u comportaron bey ts'a'abal yéetel u tu beetajo'ob ya'abkach yéetel jump'éel 20 ti chúumuk kuuch sólida ti' jach jump'íit k'iin óolal ti' Jaajal le ma'alo'ob dispersión conseguida yéetel le sonicación.
"U tuláakal le métodos u dispersión disponibles, u ts'o'ok confirmado ti' le dispersión yéetel sondas ultrasónicas le le asab xoknáalo'obo'". (Modragon et ti' le., 2012).
Petzold et ti' le. (2009) k'ucho'ob le ti' jump'éelili' kuchil-conclusión utia'al u desaglomeración le tuunicha' Aerosil, encontrando ti' le sonda ultrasónica le le yaan dispersión asab xoknáalo'obo' debido a le energía ma'alob enfocada aplicada.

Ultrasonidos yo'osal le desaglomeración yéetel dispersión nanopartículas sílice

Le ken u nanosílice ku meyajtiko'ob ti' aplicaciones industriales, investigación wa ciencia materiales, le tuunicha' sílice tikin k'a'ana'an incorporar u ti' jump'éel fase líquida. Le dispersión nanosílice k'a'abet jump'éel láaka dispersión fiable yéetel xoknáalo'obo', ku aplique suficiente energía utia'al u desaglomerar le partículas individuales ti' sílice. Le ultrasonidos ku ma'alob k'ajóolta'ano'ob bix dispersores potentes yéetel fiables, yo'olal u utilizan yo'osal desaglomerar yéetel distribuir homogénea bix u jejeláas materiales bey sílice, nanotubos, grafeno, minerales yéetel ya'ab uláak' materiales ti' jump'éel fase líquida.

Hielscher Ultrasonics diseña, fabrica yéetel distribuye dispersores ultrasónicos u ka'anal rendimiento utia'al je'el bin yano'ob aplicaciones homogeneización yéetel desaglomeración. Ka lela' le producción nanodispersiones, le kaambalil yo'osal preciso ti' le sonicación yéetel jump'éel Ts'a'akal ultrasónico fiable ti' le suspensión nanopartículas le láakal tia'al yik'áalil ka'anal rendimiento.
Le procesadores Hielscher Ultrasonics ku ts'abal jump'éel kaambalil yo'osal total yóok'ol tuláakal le parámetros u procesamiento importantes, bey yaan tu energía jool, le intensidad ultrasónica, le amplitud, le presión, le temperatura yéetel le k'iin ken. Ti' le modo, ku páajtal ajustar le parámetros u condiciones optimizadas, u conduce posteriormente ti' jump'éel nanodispersión ka'anal calidad, bey le lodos nanosílice.
Utia'al u je'el volumen leti' Buka'aj u ba'al: Hielscher ku ultrasonidos yéetel amplia gama accesorios. Le je'ela' ku cha'antik le configuración le yaan ultrasónico beetike' uts yo'osal u ka'anatako'ob Buka'aj u ba'al u producción. Tak mejen viales ku ya'alik jump'éel pocos mililitros tak flujos nojoch volumen u miles galones tumen p'isib, Hielscher k'u'ubul le solución ultrasónica jach u nupmo'ob utia'al u tuukula'.
Robustez: K sistemas ultrasónicos le robustos yéetel fiables. Tuláakal le ultrasonidos Hielscher beta'aniko'ob utia'al meyaj le 24 horas k'iin, 7 k'iin ti' le k'iino'ob, 365 k'iin ti' le ja'aba' yéetel requieren jach jump'íit mantenimiento.
Facilidad u búukinta'al: Le elaborado software k dispositivos ultrasónicos ku cha'antik le preselección yéetel le almacenamiento le ajustes sonicación ti' jump'éel sonicación sencilla yéetel fiable. Le menú intuitivo jach uchik bejo' ti' jump'éel pantalla táctil digital u boonil. U kaambalil yo'osal remoto ti' le navegador ti' Cha' operar yéetel monitorear yéetel je'el navegador Internet. Le registro automático ti' datos ta'akikubáa le parámetros tuukula' je'el meyajta'ale' sonicación ti' jump'éel tarjeta SD incorporada.
Excelente eficiencia energética: Ti' comparación yéetel le tecnologías dispersión alternativas, le ultrasonidos Hielscher destacan tumen u excelente eficiencia energética yéetel u ya'ala'al máaxo'ob máano'ob superiores ti' le distribución le Buka'aj le partículas.

Le gráfico ye'esik le ventaja significativa ti' le dispersión ultrasónica ti' sílice yéetel le UIP1000 Hielscher ti' comparación yéetel juntúul ultra-turrax. Le ultrasonicación k'a'abet menos energía yéetel consigue jump'éel Buka'aj partícula sílice drásticamente menor.

Le uláak' tabla ku ts'aik ti' jump'éel indicación le Buka'aj u ba'al u procesamiento aproximada u k ultrasonidos: