Deposición sonoelectroquímica

Le deposición sonoelectroquímica jach jump'éel láaka síntesis, u combina le sonoquímica yéetel le electroquímica ti' jump'éel producción nanomateriales ma'alob eficiente yéetel respetuosa yéetel ka'a jeets'. Reconocida yo'olal rápida, sencilla yéetel xoknáalo'obo', le deposición sonoelectroquímica ku cha'antik le síntesis controlada tumen bix u nanopartículas ka nanocompuestos.

Sonoelectrodeposición nanopartículas

Utia'al u sonoelectrodeposición (xan deposición sonoeletroquímica, galvanoplastia sonoquímica wa electrodeposición sonoquímica) con el fin de sintetizar nanopartículas, ku utilizan wa sondas ultrasónicas (sonotrodos wa bocinas) bey electrodos. Le método deposición sonoelectroquímica Jach ma'alob eficiente, bey simple yéetel yantio'ob u operar, ku Cha' sintetizar nanopartículas yéetel nanoestructuras ti' yaan xan ya'abach. Ku ts'o'okole', le deposición sonoelectroquímica jach jump'éel tuukula' intensificado, ba'ax u k'áat u ya'al ti' le sonicación acelera le tuukula' electrólisis utia'al u le reacción béeyak j u ti' condiciones asab eficaces.
U kaambalil yo'osal ultrasonidos potencia ti' le suspensiones aumenta significativamente procesos transferencia juuch' debido a le flujo macroscópico yéetel le muuk' cavitacionales interfaciales microscópicas. Ti' le electrodos ultrasónicos (sonoelectrodos), le vibración ultrasónica yéetel le cavitación eliminan continuamente yik'áalil reacción u superficie le electrodo. Ti' le tselik je'el deposición pasivante, u superficie u electrodo u continuamente disponible utia'al u síntesis túumben partículas.
Le cavitación generada tumen ultrasonidos promueve formación nanopartículas lisas yéetel uniformes ku yaantalo'ob homogéneamente ti' le fase líquida.

Deposición sonoelectroquímica u nanopartículas

Le ken u aplica jump'éel jach yáax ultrasónico ti' jump'éel electrolito líquido, jejeláas fenómenos cavitación ultrasónica, bey le flujo acústico yéetel le microchorro, le ondas choque, u mejora le transferencia juuch' tak leti' ti' le electrodo yéetel u limpieza le superficie (eliminación capas pasivantes) promueven le procesos electrodeposición leti' galvanoplastia. Le táanil beneficiosos ti' le sonicación yóok'ol le electrodeposición leti' galvanoplastia ts'o'ok u séen demostrado utia'al u numerosas nanopartículas, incluidas le nanopartículas metálicas, le nanopartículas semiconductoras, le nanopartículas núcleo yéetel le nanopartículas dopadas.
Le nanopartículas metálticas electrodepositadas tumen Sonochem, bey le Cr, le Cu yéetel le Fe, muestran jump'éel aumento significativo ti' le dureza, ka' jo'op' u le Zn ye'esik jump'éel asab resistencia ti' le corrosión.
Mastai et ti' le. (1999) sintetizaron nanopartículas u tak tu Kaajil u yo'osal deposición sonoelectroquímica. Le ajustes ya'ab parámetros electrodeposición yéetel ultrasonidos permiten u modificar le Buka'aj cristal le nanopartículas cdSe tak rayos X amorfos tak 9 nm (fase esfalerita).

Ashassi-Sorkhabi yéetel Bagheri (2014) demostraron le ventajas le síntesis sonoelectroquímica ti' polipirrol (PPy) tu acero St-12 ti' jump'éel ka'a ácido oxálico utilizando jump'éel láaka galvanostática yéetel juntúul densidad sáasilo' 4 mA leti' cm2. Le ka'anatako'ob directa u ultrasonidos baja frecuencia yéetel le ultrasonido UP400S tu kúuchil u ka'ansaj superficiales asab compactas ka homogéneas u polipirrol. Ya'ala'al máaxo'ob máano'ob mostraron u resistencia le recubrimiento (Rcoat), le resistencia ti' le corrosión (Rcorr) yéetel u resistencia u Warburg le muestras preparadas tumen ultrasonidos ya'ala'ajobe' mayores u le ti' le polipirrol sintetizado ma' tumen ultrasonidos. Le máak microscopía electrónica u barrido visualizaron le táanil positivos ti' le ultrasonicación ichil le electrodeposición ti' le morfología le partículas: ya'ala'al máaxo'ob máano'ob revelan ti' le síntesis sonoelectroquímica yaantal recubrimientos polipirrol fuertemente adherentes yéetel suaves. Comparando ya'ala'al máaxo'ob máano'ob le sonoelectrodeposición yéetel le electrodeposición convencional, u jul ti' le recubrimientos preparados tumen le método sonoelectroquímico yaan jump'éel asab resistencia ti' le corrosión. Sonicación le celda electroquímica ku ts'aik bey resultado utsil transferencia juuch' yéetel u activación u superficie le electrodo meyaj. Le k'iino'oba' táanil contribuyen significativamente jump'éel síntesis ma'alob eficiente yéetel u ka'anal ma'alobil polipirrol.

Máak SEM u (u) PPy yéetel (b) recubrimientos polipirrol depositado sonoelectroquímico (PPy-US) tu acero St-12 (aumento 7500×).
(xook yéetel fotografías: © Ashassi-Sorkhabi yéetel Bagheri, 2014).

Deposición sonoelectroquímica u nanocompuestos

Combinación le ultrasonicación yéetel le electrodeposición jach xoknáalo'obo' yéetel ku cha'antik jump'éel síntesis sencilla u nanocompuestos.
Kharitonov et ti' le. (2021) sintetizaron recubrimientos nanocompuestos ti' Cu-Sn-TiO2 yo'osal electrodeposición sonoquímica ichil jump'éel wichkíil ácido oxálico ba'ax ku taasik ku ts'o'okole' 4 g leti' dm3 u TiO2 yáanal agitación kanáanil ka ultrasónica. Le Ts'a'akal ultrasónico u beetajo' yéetel le ultrasonido Hielscher UP200Ht jump'éel frecuencia 26 kHz yéetel juntúul potencia 32 W leti' dm3. Ya'ala'al máaxo'ob máano'ob demostraron ti' le agitación ultrasónica disminuye aglomeración partículas TiO2 yéetel ku cha'antik le deposición nanocompuestos densos Cu-Sn-TiO2. Ti' comparación yéetel le agitación kanáanil convencional, le recubrimientos ku Cu-Sn-TiO2 depositados yáanal sonicación ku caracterizan tumen juntúul asab homogeneidad yéetel juntúul superficie asab jajalkil. Ti' le nanocompuestos sonicados, óol tuláakal le máasewáalo'obo' ti' le partículas TiO2 táan incrustadas ti' le matriz Cu-Sn. Introducción le agitación ultrasónica mejora le distribución superficial ti' le nanopartículas TiO2 yéetel impide le agregación.
Ku ku ye'esik u le recubrimientos nanocompuestos ti' Cu-Sn-TiO2 formados tumen electrodeposición asistida tumen ultrasonidos exhiben excelentes propiedades antimicrobianas xu'ullsa'al le bacteria E. coli.

Máak SEM u recubrimientos Cu-Sn-TiO2 depositados sonoelectroquímicamente ti' jump'éel densidad sáasilo' catódica u 0,5 u leti' dm2 yéetel 1,0 ti' leti' dm2.
(xook yéetel máak: © Kharitonov et ti' le., 2021).

Nu'ukulo'ob sonoelectroquímicos u ka'anal rendimiento

Hielscher Ultrasonics suministra nu'ukulo'ob ultrasónicos u ka'anal rendimiento ti' jump'éel sonoelectrodeposición leti' sonogalvanoplastia fiable yéetel eficiente u nanomateriales. Le gama yik'áalil le analte'obo' yaan sistemas ultrasonidos u ka'anal potencia, electrodos acústicos, reactores yéetel células utia'al u ka'anatako'ob deposición sonoelectroquímica.