Deposición sonoelectroquímica

Le deposición sonoelectroquímica jach jump'éel láaka síntesis, u combina sonoquímica yéetel electroquímica, ti' jump'éel producción nanomateriales ma'alob eficiente yéetel respetuosa yéetel ka'a jeets'. K'ajo'olta'an bey rápida, simple yéetel efectiva, le deposición sonoelectroquímica ku cha'antik le síntesis controlada tumen bix u nanopartículas ka nanocompuestos.

Sono-electrodeposición nanopartículas

Utia'al u sonoelectrodeposición (xan deposición sonoeletroquímica, galvanoplastia sonoquímica wa electrodeposición sonoquímica) yéetel le propósito ku sintetizar nanopartículas, ku utilizan wa sondas ultrasónicas (sonotrodos wa bak) bey electrodos. Le método deposición sonoelectroquímica Jach ma'alob eficiente, bey simple yéetel yantio'ob u operar, ku Cha' sintetizar nanopartículas yéetel nanoestructuras ti' yaan xan ya'abach. Ku ts'o'okole', le deposición sonoelectroquímica jach jump'éel tuukula' intensificado, ba'ax u k'áat u ya'al ti' le sonicación acelera le tuukula' electrólisis utia'al u le reacción béeyak ejecutar u ti' condiciones asab eficaces.
U kaambalil yo'osal ultrasonido potencia ti' le suspensiones aumenta significativamente procesos transferencia juuch' debido a yaantal macroscópica yéetel le muuk' cavitacionales interfaciales microscópicas. Ti' le electrodos ultrasónicos (sono-electrodos), le vibración ultrasónica yéetel le cavitación eliminan continuamente yik'áalil reacción u superficie le electrodo. Ti' le tselik je'el deposición pasivante, u superficie u electrodo u continuamente disponible utia'al u síntesis túumben partículas.
Le cavitación generada tumen ultrasonido promueve formación nanopartículas lisas yéetel uniformes ku yaantalo'ob homogéneamente ti' le fase líquida.

Deposición sonoelectroquímica u nanopartículas

Le ken u aplica jump'éel jach yáax ultrasónico ti' jump'éel electrolito líquido, jejeláas fenómenos u cavitación ultrasónica bey yaantal acústica yéetel le microchorro, le ondas choque, u mejora le transferencia juuch' tak leti' ti' le electrodo yéetel u limpieza le superficie (eliminación capas pasivantes) promueven le procesos electrodeposición leti' galvanoplastia. Le táanil beneficiosos ti' le sonicación ti' le electrodeposición leti' galvanoplastia ts'o'ok u séen demostrado utia'al u numerosas nanopartículas, incluidas nanopartículas metálicas, nanopartículas semiconductoras, nanopartículas núcleo-cáscara yéetel nanopartículas dopadas.
Le nanopartículas mettálicas electrodepositadas senoménicamente bey Cr, Cu yéetel Fe muestran jump'éel aumento significativo ti' le dureza, ka' jo'op' u le Zn ye'esik jump'éel asab resistencia ti' le corrosión.
Mastai et ti' le. (1999) sintetizaron nanopartículas u tak tu Kaajil u yo'osal deposición sonoelectroquímica. Le ajustes ya'ab parámetros electrodeposición yéetel ultrasonidos permiten u modificar le Buka'aj u cristal le nanopartículas tak tu Kaajil u u amorfas rayos X tak 9 nm (fase esfalerita).

Ashassi-Sorkhabi yéetel Bagheri (2014) demostraron le ventajas le síntesis sonoelectroquímica ti' polipirrol (PPy) tu acero St-12 ti' jump'éel ka'a ácido oxálico utilizando jump'éel láaka galvanostática yéetel juntúul densidad sáasilo' 4 mA leti' cm2. Le ka'anatako'ob directa u ultrasonidos baja frecuencia utilizando ultrasonido UP400S condujo ka'ansaj superficiales u polipirrol asab compactas ka homogéneas. Ya'ala'al máaxo'ob máano'ob mostraron ti' le resistencia ti' le recubrimiento (Rcoat), le resistencia ti' le corrosión (Rcorr) yéetel u resistencia u Warburg le muestras preparadas tumen ultrasonidos bino'ob mayores u le ti' le polipirrol sintetizado ma' ultrasónicamente. Le máak microscopía electrónica u barrido visualizaron le táanil positivos ti' le ultrasonicación ichil le electrodeposición ti' le morfología le partículas: ya'ala'al máaxo'ob máano'ob revelan ti' le síntesis sonoelectroquímica yaantal recubrimientos fuertemente adherentes yéetel lisos polipirrol. Comparando ya'ala'al máaxo'ob máano'ob le electrodeposición sono-electrodeposición yéetel le electrodeposición convencional, u jul ti' le recubrimientos preparados tumen le método sonoelectroquímico yaan jump'éel asab resistencia ti' le corrosión. Sonicación le celda electroquímica ku ts'aik bey resultado asab transferencia juuch' yéetel juntúul activación u superficie le electrodo meyaj. Le k'iino'oba' táanil contribuyen significativamente jump'éel síntesis ma'alob eficiente yéetel u ka'anal ma'alobil polipirrol.

Máak SEM u (u) PPy yéetel (b) recubrimientos polipirrol depositado sonoelectroquial (PPy-US) tu acero St-12 (aumento 7500×).
(xook yéetel fotos: © Ashassi-Sorkhabi yéetel Bagheri, 2014).

Deposición sonoelectroquímica u nanocompuestos

Le combinación ultrasonidos yéetel electrodeposición le xoknáalo'obo' yéetel ku cha'antik jump'éel síntesis ch'a'abil u nanocompuestos.
Kharitonov et ti' le. (2021) sintetizaron recubrimientos nanocompuestos ti' Cu-Sn-TiO2 yo'osal electrodeposición sonoquímica ti' jump'éel wichkíil ácido oxálico ku contenía adicionalmente 4 g leti' dm3 u TiO2 yáanal agitación kanáanil ka ultrasónica. Le Ts'a'akal ultrasonido u beetajo' yéetel le ultrasonido Hielscher UP200Ht jump'éel frecuencia 26 kHz yéetel juntúul potencia 32 W leti' dm3. Ya'ala'al máaxo'ob máano'ob demostraron ti' le agitación ultrasónica disminuye aglomeración partículas TiO2 yéetel ku cha'antik le deposición nanocompuestos densos Cu-Sn-TiO2. Ti' comparación yéetel le agitación kanáanil convencional, le recubrimientos Cu-Sn-TiO2 depositados yáanal sonicación ku caracterizan tumen juntúul asab homogeneidad yéetel juntúul superficie asab jajalkil. Ti' le nanocompuestos sonicados, óol tuláakal le máasewáalo'obo' ti' le partículas TiO2 táan incrustadas ti' le matriz Cu-Sn. Introducción le agitación tumen ultrasonido mejora le distribución superficial ti' le nanopartículas TiO2 yéetel impide le agregación.
U ts'o'ok demostrado ti' le recubrimientos nanocompuestos ti' Cu-Sn-TiO2 formados tumen electrodeposición asistida tumen ultrasonidos exhiben excelentes propiedades antimicrobianas xu'ullsa'al le bacteria E. coli.

Máak SEM u recubrimientos u Cu-Sn-TiO2 depositados electroquímicamente ti' jump'éel densidad sáasilo' catódica u 0,5 U leti' dm2 yéetel 1,0 ti' leti' dm2.
(xook yéetel fotos: © Kharitonov et ti' le., 2021).

Nu'ukulo'ob sonoelectroquímicos u ka'anal rendimiento

Hielscher Ultrasonics suministra nu'ukulo'ob ultrasónicos u ka'anal rendimiento ti' jump'éel sono-electrodeposición leti' sonoelectroplastia confiable yéetel eficiente u nanomateriales. Le gama yik'áalil le analte'obo' yaan sistemas ultrasonido u ka'anal potencia, sonoelectrodos, reactores yéetel celdas utia'al u ka'anatako'ob deposición sono-electroquímica.