Nanohojas óxido rutenio yo'osal exfoliación ultrasónica
Le nanoláminas monocapa ti' óxido rutenio ku páajtal producir bix eficiente yo'osal ultrasonidos bin yano'ob sonda. Le k'ajle' ventajas le exfoliación ultrasónica u nanoláminas ku eficiencia le tuukula', le ka'anatako'ob rendimientos, u Ts'a'akal corto yéetel le funcionamiento ch'a'abil yéetel seguro. Debido a u ka'anal eficiencia yéetel le ma'alobil superior le nanohojas producidas, le ultrasonicación ku meyajtiko'ob utia'al u producción industrial u numerosas nanohojas, bey le grafeno yéetel le borofeno.
Exfoliación ultrasónica u nanohojas óxido rutenio
Le nanoláminas óxido rutenio (RuO2, bey xan k'ajóolta'an je'el bix rutenato) ku ts'abal propiedades únicas bey ka'anal conductividad, baja resistividad, ka'anal estabilidad, ka'anal función meyaj yéetel ma'alo'ob susceptibilidad ti' le grabado ti' tikin. Le je'ela' ku beetik u le óxido rutenio Je'en tu'uxe' jump'éel ma'alo'ob xooko'obo' utia'al le electrodos ti' le dispositivos memoria yéetel le transistores.
Xook óoltaj: Exfoliación u RuO2 ma'alob eficiente yo'osal jump'éel ultrasonido bin yano'ob sonda
Kim et ti' le. (2021) demostraron ti' u xook le mejora significativa ti' le exfoliación nanohojas monocapa u óxido rutenio. Le investigador creó ka'anatako'ob rendimientos láminas finas óxido metálico u RuO2 yo'osal ultrasonidos. Le tuukula' intercalación convencional yéetel reacciones intercambio iónico le lento yéetel u yaantal chéen yaan xan ya'abach limitadas nanohojas bidimensionales (2D) debido a le Buka'aj le moléculas yéetel le energía química requerida utia'al u reacción. Con el Fin de agilizar le tuukula' yéetel ya'abtal le cantidad nanoláminas ti' óxido rutenio producidas, intensificaron le tuukula' exfoliación meentiko'ob energía ultrasónica ti' le solución óxido RuO2. Descubrieron u, paach chen 15 minutos u ultrasonidos, u cantidad le' aumentaba ti' asab ti' le 50 ti chúumuk, ti' le k'iino' je'el xano' k'iin ku disminuía le Buka'aj lateral le meyajo'ob. Le cálculos u teoría u funcional le densidad demostraron ti' le energía activación ti' le exfoliación ku reduce significativamente ti' u ja'atsal le capas ku RuO2 ti' jump'éel chan Buka'aj lateral. Le reducción Buka'aj u yaantal tuméen le sonicación yáantaj jaatik le capas óxido metálico asab uchik. Le investigación subraya ti' u búukinta'al ultrasonidos le jump'éel bix ma'alo'ob yéetel ch'a'abil u fabricar nanoláminas monocapa u óxido rutenio. Le je'ela' ku ye'esik u jump'éel tuukula' intercambio iónico asistido tumen ultrasonidos k'u'ubul jump'éel enfoque ch'a'abil ka eficiente utia'al u fabricación nanoláminas óxido metálico te' 2D. Le yáantajo'ob ti' le exfoliación ultrasónica explican Ba'axten le exfoliación yéetel delaminación ultrasónica ku meyajtiko'ob ampliamente bey láaka producción nanomateriales 2D, bey xan k'ajóolta'ano'ob bix xenos, bey le grafeno yéetel le borofeno.
Protocolo utia'al u exfoliación yéetel óxido rutenio asistida tumen ultrasonidos
Le uláak' protocolo jach jump'éel instrucción paso tu paso utia'al u sintetizar nanohojas RuO2 utilizando le tuukula' reacción intercambio iónico yéetel bix u ultrasónico, techo' bix u describen Kim et ti' le. (2021).
- Prepare jump'éel solución RuO2 yéetel juntúul intercalante disolviendo le ti' solvente (2-propanol) yéetel agitando ichil jump'éel k'aas 3 k'iin.
- Aplique energía ultrasónica utilizando jump'éel ultrasonido bin yano'ob sonda (je'ebix, ultrasonido u bin yano'ob sonda UP1000hdT (1000W, 20kHz) yéetel sonotrodo BS4d22) ti' le solución ichil 15 minutos utia'al u ya'abtal u rendimiento le nanohojas u RuO2 ti' asab ti' le 50 ti chúumuk yéetel ja'atsal le capas ku RuO2 ti' jump'éel Buka'aj lateral uniformemente chan.
- Meyaj le cálculos le teoría funcional ti' le densidad utia'al u confirmar ti' le energía activación ti' le exfoliación ku reduce significativamente.
- Recoja le nanohojas RuO2 resultantes, ba'ax ku páajtal utilizar utia'al u kúuchilo'ob aplicaciones.
Simplicidad le protocolo utia'al u exfoliación ultrasónica u nanohojas RuO2 subraya ventajas producción nanohojas ultrasónicas. Le sonicación jach jump'éel láaka ma'alob eficiente utia'al u producir nanoláminas RuO2 monocapa u ka'anal calidad yéetel juntúul espesor yan 1 nm. Bey xan u chíikbes ti' le protocolo jach escalable yéetel reproducible, ba'ax ku betik adecuado utia'al u producción tu gran escala u nanohojas u RuO2 utia'al u kúuchilo'ob aplicaciones ti' electrónica, catálisis yéetel almacenamiento energía.
Ultrasonidos u ka'anal rendimiento utia'al u exfoliación RuO2
Utia'al u producción nanoláminas óxido rutenio ka'anal calidad yéetel uláak' xenos, u requieren nu'ukulo'ob ultrasónicos u fiables u ka'anal rendimiento. Tu láakal parámetros amplitud, presión yéetel temperatura,, cruciales yo'osal u reproducibilidad yéetel u consistencia le producto. Le procesadores ultrasonidos Hielscher le sistemas potentes yéetel controlables yéetel precisión, u permiten le ajuste exacto ti' le parámetros le tuukula' yéetel tíip'ik continua ultrasonidos ka'anal potencia. Le ultrasonidos industriales ti' Hielscher táan u béeytal u suministrar amplitudes jach altas. Le amplitudes tak 200 μm páajtal ejecutar uchik bix continua ti' funcionamiento 24 leti' 7. Utia'al amplitudes láayli' mayores, yaan disponibles sonotrodos ultrasónicos u personalizados. Robustez le nu'ukulilo'ob ultrasónicos ti' Hielscher ku cha'antik jump'éel funcionamiento 24 leti' 7 ti' entornos aalo'ob ka exigentes.
K clientes u satisfechos yéetel u extraordinaria robustez yéetel fiabilidad le kaambalilo'ob Hielscher Ultrasonics. Le instalación tu sikte u yáanta'al aal (je'ebix, procesamiento nanomateriales tu gran escala), entornos exigentes yéetel operación 24 leti' 7 garantizan jump'éel procesamiento eficiente yéetel económico. Intensificación le tuukula' tumen ultrasonidos reduce le k'iin procesamiento yéetel logra ti' ya'ala'al máaxo'ob máano'ob, es decir asab ma'alobil, mayores rendimientos, yik'áalil innovadores.
Diseño, Fabricación yéetel Consultoría – Calidad Made in Germany
Le ultrasonidos Hielscher le u k'ajóolta'ano'ob tuméen u asab ka'anatako'ob estándares calidad yéetel diseño. Le robustez yéetel le facilidad ch'a'iko'ob permiten jump'éel integración fluida u k ultrasonidos ti' kúuchilo'ob industriales. Le condiciones adversas yéetel le entornos exigentes le uchik manejables tumen le ultrasonidos Hielscher.
Hielscher Ultrasonics le jump'éel empresa yéetel certificación ISO yéetel ts'áabal yaabilajech énfasis ti' le ultrasonidos ka'anal rendimiento kisbuts' ma'alo'obtal máax k'oja'an yéetel facilidad búukinta'al. Ba'axten supuesto le ultrasonidos Hielscher cumplen yéetel le normativa CE yéetel cumplen le requisitos UL, CSA yéetel RoHs.
Le uláak' tabla ku ts'aik ti' jump'éel indicación le Buka'aj u ba'al u procesamiento aproximada u k ultrasonidos:
Volumen lote | Gasto | Dispositivos recomendados |
---|---|---|
0. 5 u 1.5mL | n.d. | VialTweeter | U 1 u 500 ml | U 10 ti' 200 ml leti' min | UP100H |
U 10 ti' 2000 ml | Ti' 20 u 400 ml leti' min | UP200Ht, UP400St |
0. 1 u 20L | 0. 2 u 4L leti' min | UIP2000hdT |
U 10 u 100L | U 2 u 10 l leti' min | UIP4000hdT |
U 15 u 150L | U 3 ti' 15 l leti' min | UIP6000hdT |
n.d. | U 10 ti' 100 L leti' min | UIP16000 |
n.d. | Mayor | Racimo u UIP16000 |
Xook k! Leti' k'áatiko'ob k!
Bibliografía leti' Referencias
- Kim, Se Yun; Kim, Sang-il; Kim, Mun Kyoung; Kim, Jinhong; Mizusaki, Soichiro; Ko, Dong-Su; Jung, Changhoon; Yun, Dong-Jin; Roh, Jong Wook; Kim, Hyun-Sik; Sohn, Hiesang; Lim, Jong-Hyeong; Oh, Jong-Min; Jeong, Hyung Mo; Shin, Weon Ho, (2021): Ultrasonic Assisted Exfoliation for Efficient Production of RuO2 Monolayer Nanosheets. Inorganic Chemistry Frontiers 2021.
- Adam K. Budniak, Niall A. Killilea, Szymon J. Zelewski, Mykhailo Sytnyk, Yaron Kauffmann, Yaron Amouyal, Robert Kudrawiec, Wolfgang Heiss, Efrat Lifshitz (2020): Exfoliated CrPS4 with Promising Photoconductivity. Small Vol.16, Issue1. January 9, 2020.
- Anastasia V. Tyurnina, Iakovos Tzanakis, Justin Morton, Jiawei Mi, Kyriakos Porfyrakis, Barbara M. Maciejewska, Nicole Grobert, Dmitry G. Eskin 2020): Ultrasonic exfoliation of graphene in water: A key parameter study. Carbon, Vol. 168, 2020.