Ma'alo'obtal u ultrasonido Hielscher

U oxido u grafeno – Dispersión ka exfoliación ultrasónica

Le óxido grafeno le soluble ichil ja', anfifílico, ma' tóxico, biodegradable yéetel u páajtal dispersar uchik tu coloides estables. Le exfoliación yéetel dispersión ultrasónica u ti'al jump'éel método jach eficiente, séeba'an yéetel rentable sintetizar, dispersar yéetel ku funcionalizar le óxido grafeno ti' escala industrial. Ti' le procesamiento posterior, le dispersores ultrasónicos ku ts'áiko'ob compuestos óxido grafeno-polímero u ka'anal rendimiento.

Exfoliación ultrasónica u oxido u grafeno

Utia'al u controlar le Buka'aj nanosheets (bin). le óxido grafeno ti', u método le exfoliación ku báaxal jump'éel factor clave. Debido a u parámetros tuukula' precisamente controlable, exfoliación ultrasónica le le asab utilizada láaka delaminación le producción grafeno ka'anal calidad tu oxido u grafeno.
Utia'al u exfoliación ultrasónica u oxido u grafeno óxido grafito ya'ab tsoolil bix táan disponibles. Kaxtik jump'éel ejemplar asab kaambal:
Lu'umil óxido grafito ku xa'ak'ta'al tuláakal yéetel KOH acuoso yéetel le je'o' pH 10. Yo'osal le exfoliación yéetel le posterior dispersión, le bin yano'ob sonda ultrasonicador UP200St (200W). ku meyajtiko'ob. Iones k'uj + ku unen tu láak', yóok'ol le plano basal ti' grafeno utia'al u inducir jump'éel tuukula' envejecimiento. Le envejecimiento ku beeta'al evaporación rotatoria (2 h). Utia'al u tselik le iones k'uj + excesiva, le tuunicha' lavado yéetel centrifugado ya'abkach Óoxten.
Le mezcla obtenida centrifugada yéetel tijilo'ob tumen congelación, ti' modo ti' le precipitados ti' jump'éel lu'umil óxido grafeno dispersable.
Wa u jump'éel pasta conductora ti' GO yilik: le tuunicha' óxido grafeno ku páajtal dispersar ti' dimetilformamida (DMF) yáanal sonicación utia'al u producir jump'éel pasta conductora. (U et al.2014).

Yaan u ultrasónico dispersión 7KW, utia'al u producción grafeno ti' internet ichil (Click utia'al agrandar!).

T.u.m ultrasónico utia'al u exfoliación óxido grafeno

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(Oochel: Potts et el. 2011).

U oxido u grafeno – Exfoliación (oochel: Potts et el. 2011).

Dispersión ultrasónica u oxido u grafeno

Funcionalización ultrasónico u oxido u grafeno

Sonicación le utilizado belal utia'al incorporar (bin) u oxido u grafeno ti' polímeros yéetel materiales compuestos.
Ejemplos:

  • óxido grafeno-TiO2 compuesto microesferas
  • compuesto u oxido u grafeno-magnetita-poliestireno (core-shell estructurado).
  • poliestireno reduce compuestos óxido grafeno
  • compuesto u polianilina nanofibras recubierto u oxido u grafeno leti' poliestireno (PANI-PS leti' GO) core shell
  • u oxido u grafeno poliestireno intercalados
  • p'el-Fenilendiamina-4vinylbenzen-poliestireno juubulo'ob u oxido u grafeno
Exfoliación grafeno yéetel dispersor ultrasónico UP400St

Sistemas ultrasónicos utia'al u grafeno tu oxido u grafeno

Hielscher Ultrasonics k'u'ubul ka'anal potencia sistemas ultrasónicos utia'al u exfoliación, le dispersión yéetel transformación ja'ilo'ob abajo de grafeno ti' oxido u grafeno. Procesadores ultrasónicos u confiables ka sofisticados reactores proporcionan potencia k'a'abeto'ob, condiciones tuukula' bey jump'éel kaambalil yo'osal preciso, utia'al u ya'ala'al máaxo'ob máano'ob le tuukula' ultrasónico páajtal ajustar ku exactamente u ku tuukula' deseado.
Juntúul u asab importantes parámetros leti' le amplitud ultrasónica, u expansión vibracional yéetel contracción ti' xnuk prueba ultrasónica. U Hielscher kaambalilo'ob ti' ultrasonido industriales construidas u utia'al ofrecer jach altas amplitudes. Amplitudes tak 200μm ku páajtal ejecutar uchik continuamente ti' operación 24 leti' 7. Utia'al u asab amplitud, Hielscher ku sondas ultrasónicas juubulo'ob utia'al u requisitos particulares. Tuláakal k procesadores ultrasónicos páajtal ajustar exactamente ti' le condiciones tuukula' k'a'abet yéetel monitoreados uchik por medio de le software incorporado. Le ba'ala' asegura le wóolis fiabilidad, calidad yéetel ya'ala'al máaxo'ob máano'ob reproducibles. Robustez le nu'ukulo'ob ultrasonidos Hielscher ku cha'antik jump'éel funcionamiento 24 leti' 7 ichil meyaj aal yéetel le entornos asab exigentes. K'ajlayo' sonicación le ma'alo'obtal preferida ti' le tu gran escala wa u yilik materiales ti' grafito, óxido grafeno yéetel grafeno.
Ofreciendo amplia gama yik'áalil ultrasonicators yéetel accesorios (bey Sonotrodos yéetel reactores yéetel jejeláas geometrías yéetel tamaños), le más ti'alo'ob condiciones reacción yéetel ba'ax (je'el reactivos, entrada ti' le energía ultrasónica tumen volumen, presión, temperatura, caudal etcetera.). Je'el elegir tia'al le asab ka'anal calidad. K reactores ultrasonidos páajtal u ma' presurizados tak ya'ab cientos barg, sonicación pastas ma'alob viscosos yéetel u 250.000 centipoise talamili' utia'al le kaambalilo'ob ultrasonidos Hielschers.
Debido a le ba'ax, exfoliación ultrasónica leti' exfoliación yéetel dispersión sobresale le mezcla convencional yéetel yo'osal u fresado.

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Hielscher Ultrasonics

  • ka'anal potencia
  • muuk' paralelas
  • altas presiones aplicables
  • Kaambalil yo'osal preciso
  • jump'éel escalabilidad (lineal).
  • batch ka continuo
  • ya'ala'al máaxo'ob máano'ob reproducibles
  • fiabilidad
  • robustez
  • ka'anal eficiencia energética

Literatura leti' referencias



Hechos u tojol le su'utalil K'ajóolt

Ultrasonido ka cavitación: je'el bix grafito exfoliación ti' le óxido grafeno yáanal sonicación

Exfoliación ultrasónica u óxido grafito (GrO) ku basa ti' u muuk' cizalla ka'anal u inducida tuméen cavitación acústica. Cavitación acústica ku ye'esa'al debido a u alterna u ka'anal presión leti' baja presión ciclos, ba'ax ku generados tumen le acoplamiento le ondas ultrasonido nojoch alcance ti' jump'éel líquido. Ichil le baja presión ciclos occure jach mejen huecos wa burbujas u vacío, ku nuuktalo'ob yóok'ol le ciclos baja presión alterna. Ka le burbujas u vacío u chukik jump'éel Buka'aj tu'ux asab energía ma' u absorben, colapsan violentamente ichil jump'éel ciclo ka'anal presión. Ya'ala'al máaxo'ob máano'ob implosión burbujas ti' esquileo cavitacional muuk' yéetel estrés olas ti', temperaturas u extremas tak 6000 K'uj, extremo enfriamiento tasas superiores u 1010K/s, presiones jach altas u tak 2000atm, diferenciales u presión extremos bey chooj ta'an ku líquido yéetel tak 1000 kilómetro leti' h (∼280m leti' Guatemala mina'an u yotocho'ob).
Le muuk' intensas afectan le pilas ti' le grafito, ba'ax ku presenten ti' oxido u grafeno jump'éel wa manik jump'íit capas yéetel grafeno vírgenes nanosheets.

U oxido u grafeno

Exfoliación ultrasónica u meyajtiko'ob utia'al delaminate nanosheets óxido grafeno mono yéetel Jayp'éel capas óxido grafito.U oxido u grafeno (bin). le sintetizada tumen exfoliante óxido grafito (GrO). Ka' jo'op' u le óxido grafito le jump'éel xooko'obo' 3D consiste ti' millones capas capas ti' grafeno yéetel oxígenos intercaladas, u oxido u grafeno jump'éel capa mono wa yaan grafeno jach oxigenada je'el matech.
U oxido u grafeno ka grafeno difieren ichil yan ti' le yáantajo'ob je'ela': Oxido u grafeno le polar, ka' jo'op' u le grafeno jach ma' polar. U oxido u grafeno le hidrofílica, ka' jo'op' u le grafeno jach hidrofóbico.
Lela' u k'áat u ya'al ba'ax, u oxido u grafeno le soluble ichil ja', anfifílicas, ma' tóxico, biodegradable yéetel forma suspensiones coloidales u estables. Le superficie u oxido u grafeno ku taasik epoxi, hidroxilo yéetel ku carboxilo, ku táan disponibles utia'al interactuar yéetel cationes yéetel aniones. Debido ti' u ba'ax chen híbridos orgánico - inorgánico ka propiedades excepcionales, compuestos poliméricos - GO ku ts'abal ka'anal potencial utia'al ya'ab k'oja'ano'ob aplicaciones industriales. (Tolasz et el., 2014).

Reducción u oxido u grafeno

U oxido u grafeno reducida (rGO). le u producido tumen ultrasonidos, química wa térmica reducción óxido grafeno. Ichil le p'isibij reducción, asab funcionalidades oxígeno le óxido grafeno u cha'ako'obo' utia'al u óxido grafeno reducido resultante (rGO) u yáantajo'ob jach similares ti' le grafeno prístina. Ba'ale' u oxido u grafeno reducida (rGO) ma' jach prístina bey grafeno Chen séen yéetel ma' defecto.