U oxido u grafeno – Dispersión ka exfoliación ultrasónica

Le óxido grafeno le soluble ichil ja', anfifílico, ma' tóxico, biodegradable yéetel u páajtal dispersar uchik tu coloides estables. Le exfoliación yéetel dispersión ultrasónica u ti'al jump'éel método jach eficiente, séeba'an yéetel rentable sintetizar, dispersar yéetel ku funcionalizar le óxido grafeno ti' escala industrial. Ti' le procesamiento posterior, le dispersores ultrasónicos ku ts'áiko'ob compuestos óxido grafeno-polímero u ka'anal rendimiento.

Exfoliación ultrasónica u oxido u grafeno

Utia'al u controlar le Buka'aj nanosheets (bin). le óxido grafeno ti', u método le exfoliación ku báaxal jump'éel factor clave. Debido a u parámetros tuukula' precisamente controlable, exfoliación ultrasónica le le asab utilizada láaka delaminación le producción grafeno ka'anal calidad tu oxido u grafeno.
Utia'al u exfoliación ultrasónica u oxido u grafeno óxido grafito ya'ab tsoolil bix táan disponibles. Kaxtik jump'éel ejemplar asab kaambal:
Le tuunicha' óxido grafito ku xa'ak'ta'al tuláakal ti' KOH acuoso yéetel le je'o' pH 10. Utia'al le exfoliación yéetel posterior dispersión, ku meyajtiko'ob le ultrasonido bin yano'ob sonda UP200St (200W). Posteriormente, le iones k'uj + ku unen ti' le plano basal le grafeno utia'al u inducir jump'éel tuukula' envejecimiento. Le envejecimiento ku consigue yáanal evaporación rotativa (2 h). Utia'al u tselik le exceso iones k'uj +, le tuunicha' ku p'o'obol yéetel centrifuga ya'abkach Óoxten.
Le mezcla obtenida centrifugada yéetel tijilo'ob tumen congelación, ti' modo ti' le precipitados ti' jump'éel lu'umil óxido grafeno dispersable.
Wa u pasta conductora óxido grafeno yilik: le tuunicha' óxido grafeno ku páajtal dispersar ti' dimetilformamida (DMF) yáanal sonicación utia'al u producir jump'éel pasta conductora. (U et al.2014).

(Oochel: Potts et el. 2011).

U oxido u grafeno – Exfoliación (oochel: Potts et el. 2011).

Dispersión ultrasónica u oxido u grafeno

Funcionalización ultrasónico u oxido u grafeno

Sonicación le utilizado belal utia'al incorporar (bin) u oxido u grafeno ti' polímeros yéetel materiales compuestos.
Ejemplos:

  • compuesto microesferas óxido grafeno-TiO2
  • compuesto u oxido u grafeno-magnetita-poliestireno (core-shell estructurado).
  • poliestireno reduce compuestos óxido grafeno
  • compuesto u polianilina nanofibras recubierto u oxido u grafeno leti' poliestireno (PANI-PS leti' GO) core shell
  • u oxido u grafeno poliestireno intercalados
  • p'el-Fenilendiamina-4vinylbenzen-poliestireno juubulo'ob u oxido u grafeno
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T.u.m ultrasónico utia'al u exfoliación óxido grafeno

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Exfoliación grafeno yéetel dispersor ultrasónico UP400St

Sonicadores utia'al u procesamiento grafeno yéetel óxido grafeno

Hielscher Ultrasonics k'u'ubul ka'anal potencia sistemas ultrasónicos utia'al u exfoliación, le dispersión yéetel transformación ja'ilo'ob abajo de grafeno ti' oxido u grafeno. Procesadores ultrasónicos u confiables ka sofisticados reactores proporcionan potencia k'a'abeto'ob, condiciones tuukula' bey jump'éel kaambalil yo'osal preciso, utia'al u ya'ala'al máaxo'ob máano'ob le tuukula' ultrasónico páajtal ajustar ku exactamente u ku tuukula' deseado.
Juntúul u asab importantes parámetros leti' le amplitud ultrasónica, u expansión vibracional yéetel contracción ti' xnuk prueba ultrasónica. U Hielscher kaambalilo'ob ti' ultrasonido industriales u diseñados utia'al u ofrecer amplitudes jach altas. Le amplitudes tak 200 μm páajtal ejecutar uchik bix continua ti' funcionamiento 24 leti' 7. Utia'al amplitudes láayli' asab altas, Hielscher ku sondas ultrasónicas u personalizadas. K procesadores ultrasónicos ku páajtal ajustar exactamente ti' le condiciones u tuukula' requeridas ka monitorear u uchik ti' le software incorporado. Le ba'ala' garantiza le asab ka'anal fiabilidad, calidad constante yéetel ya'ala'al máaxo'ob máano'ob reproducibles. Robustez le sonicadores Hielscher ku cha'antik jump'éel funcionamiento 24 leti' 7 ichil meyaj aalo'ob yéetel tu entornos exigentes. Le je'ela' ku beetik u le sonicación je'el u ma'alo'obtal producción preferida utia'al u preparación tu gran escala grafeno, óxido grafeno yéetel materiales grafíticos.
Ofreciendo amplia gama yik'áalil ultrasonicators yéetel accesorios (bey Sonotrodos yéetel reactores yéetel jejeláas geometrías yéetel tamaños), le más ti'alo'ob condiciones reacción yéetel ba'ax (je'el reactivos, entrada ti' le energía ultrasónica tumen volumen, presión, temperatura, caudal etcetera.). Je'el elegir tia'al le asab ka'anal calidad. K reactores ultrasonidos páajtal u ma' presurizados tak ya'ab cientos barg, sonicación pastas ma'alob viscosos yéetel u 250.000 centipoise talamili' utia'al le kaambalilo'ob ultrasonidos Hielschers.
Debido a le ba'ax, exfoliación ultrasónica leti' exfoliación yéetel dispersión sobresale le mezcla convencional yéetel yo'osal u fresado.

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  • ya'ala'al máaxo'ob máano'ob reproducibles
  • fiabilidad
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Hechos u tojol le su'utalil K'ajóolt

Ultrasonido ka cavitación: je'el bix grafito exfoliación ti' le óxido grafeno yáanal sonicación

Le exfoliación ultrasónica ti' le óxido grafito (GrO) ku basa u ka'anal muuk' cizallamiento inducida tumen le cavitación acústica. Le cavitación acústica surge debido a le ciclos alternos u ka'anal presión leti' baja presión, u generan tumen le acoplamiento potentes ondas ultrasonido ti' jump'éel líquido. Ichil le ciclos baja presión u ku ts'áiko'ob vacíos jach mejen wa burbujas u vacío, ku nuuktalo'ob ichil le ciclos alternos ti' baja presión. Ka le burbujas u vacío alcanzan jump'éel Buka'aj le ma' táan u béeytal múuch'ik asab energía, colapsan violentamente ichil jump'éel ciclo ka'anal presión. Implosión le burbuja ku ts'aik bey resultado muuk' cizallamiento cavitacional yéetel ondas estrés ti', temperatura u extrema tak 6000K, velocidades u enfriamiento extremas superiores u 1010K/s, presiones jach altas u tak 2000atm, diferenciales u presión extremos bey chooj ta'an ku líquido yéetel tak 1000 kilómetro leti' h (∼280m leti' Guatemala mina'an u yotocho'ob).
Le muuk' intensas afectan le pilas ti' le grafito, ba'ax ku presenten ti' oxido u grafeno jump'éel wa manik jump'íit capas yéetel grafeno vírgenes nanosheets.

U oxido u grafeno

Exfoliación ultrasónica u meyajtiko'ob utia'al delaminate nanosheets óxido grafeno mono yéetel Jayp'éel capas óxido grafito.U oxido u grafeno (bin). le sintetizada tumen exfoliante óxido grafito (GrO). Ka' jo'op' u le óxido grafito le jump'éel xooko'obo' 3D consiste ti' millones capas capas ti' grafeno yéetel oxígenos intercaladas, u oxido u grafeno jump'éel capa mono wa yaan grafeno jach oxigenada je'el matech.
U oxido u grafeno ka grafeno difieren ichil yan ti' le yáantajo'ob je'ela': Oxido u grafeno le polar, ka' jo'op' u le grafeno jach ma' polar. U oxido u grafeno le hidrofílica, ka' jo'op' u le grafeno jach hidrofóbico.
Lela' u k'áat u ya'al ba'ax, u oxido u grafeno le soluble ichil ja', anfifílicas, ma' tóxico, biodegradable yéetel forma suspensiones coloidales u estables. Le superficie u oxido u grafeno ku taasik epoxi, hidroxilo yéetel ku carboxilo, ku táan disponibles utia'al interactuar yéetel cationes yéetel aniones. Debido ti' u ba'ax chen híbridos orgánico - inorgánico ka propiedades excepcionales, compuestos poliméricos - GO ku ts'abal ka'anal potencial utia'al ya'ab k'oja'ano'ob aplicaciones industriales. (Tolasz et el., 2014).

Reducción u oxido u grafeno

U oxido u grafeno reducida (rGO). le u producido tumen ultrasonidos, química wa térmica reducción óxido grafeno. Ichil le p'isibij reducción, asab funcionalidades oxígeno le óxido grafeno u cha'ako'obo' utia'al u óxido grafeno reducido resultante (rGO) u yáantajo'ob jach similares ti' le grafeno prístina. Ba'ale' u oxido u grafeno reducida (rGO) ma' jach prístina bey grafeno Chen séen yéetel ma' defecto.

Literatura leti' referencias



K encantados u discutir u tuukula'.

Búukint k ti' máax ku.