Producción grafeno ultrasónico
Síntesis ultrasónica grafeno ir nge ya exfoliación grafito ge ár nt'ot'e mäs fiable ne ventajoso pa producir láminas grafeno mextha hño ma escala industrial. Ya procesadores ultrasónicos mar hñets'i rendimiento Hielscher ar xi controlar ko ya precisión ne xi generar amplitudes xi altas jar funcionamiento 24 yá 7. 'Me̲hna permite hoki ar dätä volúmenes grafeno prístino 'nar bí hei ne controlable ya tamaño.
Nt'ot'e ultrasónica ar grafeno
Dado ke mi pädi ya 'mefa características ar grafito, ar xi desarrollado varios nt'ot'e pa ár mfädi. 'Nehe ar producción química grafenos a partir de óxido grafeno jar procesos varios pasos, pa nä'ä bí necesitan agentes oxidantes ne reductores xi fuertes. 'Nehe, ar grafeno preparado ja gi duras químicas tso̲kwa menudo contiene 'nar Nar dätä hño yá 'bede ya defectos 'nehe 'mefa xta reducción jar comparación ko ya grafenos obtenidos ir nge ya nt'ot'e. Wat'i, ya ultrasonidos ya 'nar 'na ar mpa̲ti probada pa producir grafeno mextha ar hño, 'nehe jar dätä ar cantidades. Ya investigadores xi desarrollado formas ligeramente 'na'ño ya utilizar ar ultrasonido, pe da general ar producción grafeno ge 'nar proceso simple 'nar Honto bi thogi.
'Nar secuencia mextha velocidad (ar ár a ja ar f) ar fotogramas da ilustran ar exfoliación sonomecánica 'nar escama grafito jar dehe utilizando ar UP200S, 'nar ultrasonido 200 W ko sonotrodo 3 mm. Ya flechas muestran lugar ar división (exfoliación) ko burbujas cavitación da penetran ar división.
(estudio ne imágenes: © Tyurnina et jar el. 2020)
UIP2000hdT – Potente ultrasonido 2kW pa exfoliación ko grafeno
Ventajas exfoliación ultrasónica grafeno
Ya ultrasonidos ne reactores ar klase sonda Hielscher convierten ar exfoliación ar grafeno ja 'nar proceso altamente nt'ot'e xi hño ne ar gi japu̲'be̲fi pa producir grafeno a partir de grafito ir nge ar nt'ot'e potentes ondas ultrasónicas. Nuna ar técnica ofrece ndunthe ventajas dige ma'ra ya nt'ot'e producción grafeno. Ya ndu'mi njapu'befi exfoliación ultrasónica grafeno ge nuya:
- Mextha dätä nt'ot'e: Ar exfoliación ar grafeno ir nge ya ultrasonidos ar klase sonda ge 'nar nt'ot'e xi na hño ár producción ar grafeno. Pe producir dätä cantidades grafeno mextha ar hño jar hingi maa 'nar período ya pa.
- Jár costo: Equipo mahyoni pa ar exfoliación ultrasónica jar producción industrial grafeno ar relativamente barato jar comparación ko ma'ra ya nt'ot'e producción grafeno, komongu ar deposición química vapor (CVD) ne ar exfoliación mecánica.
- Escalabilidad: Ar exfoliación ar grafeno ir nge ya ultrasonidos to ntu̲ngi ar hingi hembi da pa ar producción grafeno tso̲kwa gran escala. Ar exfoliación ar ultrasónica ne ar dispersión ar grafeno xi ga OT'UJE ar tanto jar lotes nu'u̲ ja 'nar proceso continuo jar 'ñu. 'Me̲hna nä'ä bi pa̲ti ja 'nar opción viable pa aplicaciones escala industrial.
- Ar control dige ya propiedades ar grafeno: Ar exfoliación ne ar delaminación grafeno ir nge ya ultrasonidos ar klase sonda permite 'nar control preciso ya propiedades ar grafeno producido. 'Me̲hna mfa̲ts'i 'bu̲i ár tamaño, ya grosor ne ya 'bede ya capas.
- Mínimo impacto ambiental: Exfoliación grafeno ir nge ya ultrasonidos probados ge 'nar nt'ot'e ecológico producción grafeno, ya da tsa̲ da utilizar ar ko disolventes hingi tóxicos ne respetuosos ko ar nt'uni mbo jar ximha̲i, komongu ar dehe wa ar etanol. 'Me̲hna ir bo̲ni ke ar delaminación ultrasónica ar grafeno permite nu'bu wa reducir njapu'befi productos químicos agresivos wa altas ar temperaturas. 'Me̲hna nä'ä bi pa̲ti ja 'nar 'na ar mpa̲ti ecológica ja ya nt'ot'e producción grafeno.
Da general, ar exfoliación grafeno ir nge ya ultrasonidos ne reactores ar klase sonda Hielscher ofrece 'nar nt'ot'e producción grafeno rentable, escalable ne respetuoso ko ar nt'uni mbo jar ximha̲i ko 'nar control preciso ya propiedades ar hñei resultante.
Ejemplo producción simple grafeno ir nge ya sonicación
Ar grafito ar añade ja 'nar mezcla ácido orgánico diluido, alkol ne ya dehe, ne Gem'bu̲ ar mezcla bí expone bí irradiación ar ultrasónica. Ar ácido funciona Honja 'nar “cuña molecular” da separa ya láminas grafeno ar grafito original. Ir nge nuna sencillo proceso, bí crea 'nar Nar dätä hño yá 'bede grafeno intacto ne mextha ar hño disperso jar dehe. (An et jar el. 2010)
Obtención imágenes microscopio electrónico transmisión mextha resolución nanoláminas grafeno
ir nge ar dispersión fase acuosa asistida ya ultrasonidos ne ya nt'ot'e Hummer.
(Estudio ne gráfico: Ghanem ne Rehim, 2018)
Da uni mäs ungumfädi dige ar síntesis, ar dispersión ne ar funcionalización ar grafeno ya ultrasonidos, 'yot'e clic nuwa:
- Producción grafeno
- Nanoplaquetas grafeno
- Exfoliación grafeno a base de ar dehe
- Grafeno dispersable jar dehe
- óxido grafeno
- xenes
Exfoliación directa grafeno
Ya ultrasonidos permiten ar nt'ot'e grafenos jar disolventes orgánicos, tensioactivos yá soluciones acuosas wa líquidos iónicos. 'Me̲hna ir bo̲ni ke ar tsa̲ da nu'bu njapu'befi ya agentes oxidantes wa reductores fuertes. Stankovich et jar ar. (2007) produjeron grafeno ya exfoliación jar ultrasonidos.
Ya imágenes AFM óxido grafeno exfoliado ir nge ar nt'ot'e ultrasónico ma concentraciones 1 mg yá mL jar dehe nzäm'bu̲ revelaron 'bu̲i Kwä láminas ko 'nar espesor uniforme (~1 nm; ar ejemplo ar gi 'ñudi ja ar tsita tso̲kwa continuación). Gi muestras xi hño exfoliadas óxido grafeno hingi contenían láminas mäs gruesas wa delgadas 1 nm, da lleva ár njäts'i nu'bu nä'ä exfoliación nxo̲ge ar óxido grafeno asta láminas ar Nthuts'i óxido grafeno ar logró ja nuya. (Stankovich et jar el. 2007)
Tsita AFM ar láminas GO exfoliadas ko hñu perfiles altura adquiridas ja ya 'na'ño ubicaciones
(fotografiya ne estudio: ©Stankovich et jar el., 2007)
Nt'ot'e láminas grafeno
Stengl et jar ar. Xi demostrado jar nt'ot'e exitosa láminas grafeno binu jar dätä cantidades Nxoge ar producción nanocompuesto grafeno TiO2 hingi estequiométrico ir nge ya hidrólisis térmica suspensión ko nanoláminas grafeno ne complejo titania ar peroxo. Ya nanohojas grafeno binu ar produjeron a partir de grafito xi utilizando 'nar hwähi ar cavitación mextha intensidad generado ir nge ar procesador ultrasónico UIP1000hd Hielscher ja 'nar reactor ultrasónico presurizado 5 ar bar. Ya láminas ar grafeno obtenidas, 'nar mextha superficie específica ne propiedades electrónicas únicas, xi utilizar ar komongu 'nar soporte xi hño pa ar TiO2 da mejorar ar nt'ot'e fotocatalítica. Ar Hmunts'i ya nthoni afirma ke ya grafeno preparado ya ultrasonidos ar na mäs xi ngu ar ja ar grafeno obtenido ir nge ar nt'ot'e Hummer, ja ar grafito bí exfolia ne oxida. Dado ke ya nkohi físicas ja ar reactor ultrasónico xi controlar ar ko precisión ne ir nge ar suposición nä'ä concentración grafeno komongu dopante variará jar rango 1 – 0. 001%, ar producción grafeno ja 'nar ko ya continuo da escala yá 'ma bí instala hingi hembi da. Ultrasonidos ya industriales ne ya reactores jar 'ñu pa exfoliación nt'ot'e xi hño grafeno mextha ar hño gi 'bu̲hu̲ hingi hembi da da 'mui.
Reactor ultrasónico pa ar exfoliación ne ar dispersión grafeno.
Mfädi ya nt'ot'e ultrasónico ya óxido grafeno
O et jar ar. (2010) xi mostrado 'nar ruta mfädi nä'ä gi japu̲'be̲fi ar irradiación ultrasónica pa producir capas óxido grafeno (GO). Ir suspendieron veinticinco miligramos polvo óxido grafeno jar 200 ml ar dehe desionizada. Ya ar agitar obtenían 'nar suspensión marrón hingi homogénea. Ya suspensiones da t'ot'e 'na bí sonicaron (30 ar min, 1,3 × 105J) ne, ir ar secado (ma 373 ë), bí produjo ar óxido grafeno tratado ya ultrasonidos. 'Nar espectroscopia FTIR mostró ke ár nt'ot'e ultrasónico hingi cambió ya Hmunts'i funcionales óxido grafeno.
Tsita SEM ar nanoláminas ar grafeno prístinas obtenidas ya ultrasonidos (o et jar el., 2010)
Funcionalización láminas grafeno
Xu ne Suslick (2011) describen 'nar nt'ot'e mahyoni 'nar Honto bi thogi pa jar nt'ot'e grafito funcionalizado ar poliestireno. Ja ár estudio, utilizaron escamas grafito ne estireno komongu materia prima básica. Ma jar sonicar ya escamas grafito jar estireno ('nar monómero reactivo), ar irradiación ultrasónica umbi lugar da exfoliación mecanoquímica ya escamas grafito jar láminas grafeno 'nar wa tx'u̲tho capas. Simultáneamente, ar xi conseguido jar funcionalización ya láminas grafeno ko ya cadenas poliestireno.
Xkagentho ar proceso ar funcionalización ar to da t'ot'e ko ya monómeros vinílicos pa composites basados jar grafeno.
Ko ultrasonidos nts'edi industrial pa exfoliación industrial grafeno jar 'ñu.
Dispersiones grafeno
Ár 'mui dispersión ar grafeno ne ar óxido grafeno ar extremadamente mahyoni pa aprovechar nga̲tho ar ár hne ar grafeno ko yá características específicas. Nu'bu̲ ar grafeno hingi ar dispersa jar nkohi controladas, ar polidispersidad ar dispersión ar grafeno to da t'ot'e 'nar comportamiento impredecible wa hingi ideal mbi bí incorpora ja ya dispositivos, ya ne ya propiedades ar grafeno varían jar función ja yá parámetros estructurales. Ar sonicación ge 'nar nt'ot'e probado da debilitar ya ndu nzafi ar capa intermedia ne permite 'nar control preciso ya parámetros ar procesamiento Nsu.
"Ts'ut'ubi nu'bu ar óxido grafeno (GO), da normalmente ar exfolia ja ya láminas 'nar sola capa, 'na ya ndu'mi desafíos polidispersidad surge ja ya variaciones ar área lateral ya escamas. Se ha demostrado que el tamaño lateral medio del GO puede desplazar se de 400 nm a 20 μm cambiando el material de partida del grafito y las condiciones de sonicación". (Green et jar el. 2010)
Dispersión ultrasónica ar grafeno da xta lugar lodos finos ne 'nehe coloidales ar xi demostrado jar varios ya nsadi. (Liu et jar el. 2011 yá Baby et jar el. 2011 yá Choi et jar el. 2010)
Zhang et jar ar. (2010) xi demostrado ke ir nge njapu'befi ya ultrasonidos bí consigue 'nar dispersión grafeno hingi mpa̲ti ko 'nar mextha concentración 1 mg·mL — 1 ne láminas ar grafeno relativamente puras, ne ya láminas ar grafeno preparadas presentan 'nar mextha conductividad eléctrica ar 712 S·m−1. Ya resultados ya espectros infrarrojos transformados Fourier ne ar nt'ot'e nthogi ja ya espectros Raman indicaron ke ár nt'ot'e ár nt'ot'e ultrasónica daña menu ya estructuras químicas ne cristalinas ar grafeno.
Ultrasonidos mar hñets'i rendimiento pa exfoliación ko grafeno
Pa ar producción nanoláminas grafeno mextha ar hño, bí requieren equipos ultrasónicos fiables ne mar hñets'i ar rendimiento. Ar amplitud, ar presión ne ar mpat'i ya parámetros esenciales, ne ya cruciales pa ar reproducibilidad ne ar hño nzäm'bu̲ ar producto. Ultrasonidos de Hielscher’ Ya procesadores ultrasónicos ya sistemas potentes ne controlables ko ar precisión, da permiten ar za exacto ya parámetros ar proceso ne ar salida continua ultrasonidos mextha nts'edi. Ya procesadores ultrasónicos industriales ar Hielscher Ultrasonics ar xi suministrar amplitudes xi altas. Las amplitudes de hasta 200 μm se pueden ejecutar fácilmente de forma continua en funcionamiento 24/7. Pa amplitudes aún mi pe̲ts'i, mahyoni da 'mui sonotrodos ultrasónicos personalizados. Robustez ya equipos ultrasónicos Hielscher permite 'nar funcionamiento 24 yá 7 jar entornos pesados ne exigentes.
HMUNTS'UJE clientes gi satisfechos ar extraordinaria robustez ne fiabilidad ya sistemas Hielscher Ultrasonics. Instalación jar campos ya nt'ot'e pesada, entornos exigentes ne operación 24 yá 7 garantiza 'nar procesamiento nt'ot'e xi hño ne ya bojä. Ar intensificación ar proceso ya ultrasonidos reduce ar pa procesamiento ne logra mpädi mäs xi resultados, es decir, dätä hño, pe̲ts'i ar rendimientos, productos innovadores.
Xtí tabla bí xta ar 'nar indicación ya mfeni ya procesamiento aproximada ar HMUNTS'UJE ultrasonidos:
| Volumen lote | Gasto | Dispositivos recomendados |
|---|---|---|
| 0.5 1.5mL | n.d. | VialTweeter |
| Ar 1 jar 500 ml | Ar 10 200 ml yá min | UP100H |
| Ar 10 da 2000 ml | Ar 20 400 ml yá min | UP200Ht, UP400St |
| 0.1 da 20L | 0.2 4 L yá min | UIP2000hdT |
| Ar 10 da 100L | Ar 2 10 l yá min | UIP4000hdT |
| n.d. | Ar 10 100 L yá min | UIP16000 |
| n.d. | Mar dätä | Racimo ar UIP16000 |
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Nt'ot'e Nanoscrolls ar Carbono
Ya Carbon Nanoscrolls xkagentho ja ya nanotubos carbono paredes múltiples. Diferencia ko ya MWCNT ya yá ñä ar abiertas ne ar Nxoge accesibilidad ya superficies internas ja ma 'ra ya moléculas. Xi sintetizar ar químicamente jar nxa intercalando grafito ko ar potasio, exfoliando jar dehe ne sonicando ar suspensión coloidal. (cf. Viculis et jar el. 2003) Ar ultrasonicación ayuda da desplazar ya monocapas grafeno nu'bu mañä jar nanovolutas carbono (ga ar ar gráfico da ku̲hu̲). Ar xi logrado 'nar mextha dätä nt'ot'e ar conversión ar 80%, nä'ä mi thogi ne ar producción nanoscrolls da interesante pa aplicaciones comerciales.
Síntesis ultrasónica Nanoscrolls carbono (Viculis et jar el. 2003)
Nt'ot'e Nanoribbons
Ar Hmunts'i ya nthoni Hongjie Dai ne yá colegas ar dätä nguu ar Stanford bí dini 'nar técnica pa ndi hoki ar nanocintas. Ya cintas grafeno ya tiras delgadas ar grafeno nä'ä xi ga características aún mi mäs útiles da ya láminas grafeno. Ya ar anchos 10 'ra nm wa menos, comportamiento ya cintas grafeno ar similar da ar ar 'nar semiconductor, ya ne ya electrones mi handi obligados mover bí ma nä'ä ya'bu̲. Ar nuna modo, dar tsa̲ to interesante utilizar nanocintas ko ya 'befi similares ja ya ja ya semiconductores jar electrónica (nt'udi, pa chips ar ordenador mäs t'olo ne rápidos).
Ar nt'ot'e ya nanocintas grafeno Dai et jar ar. basa jar yoho ya pasos: jar ndu̲i lugar, aflojaron ya capas grafeno grafito ir nge 'nar nt'ot'e térmico ya 1000ºC Nxoge 'nar t'olo ora jar hidrógeno ya ar 3% jar gas argón. Tso̲kwa continuación, ar grafeno bí rompió jar tiras ir nge ya ultrasonidos. Ya nanocintas obtenidas ir nge nuna ar técnica bí caracterizan ir nge to xingu mäs’ bordes da ya realizados ya nt'ot'e litográficos convencionales. (Jiao et jar el. 2009)
Producción grafeno asistida ya ultrasonidos
Datos da Bale ar penä ga pädi
¿Ter 'me'ä ar grafeno?
Ar grafito xí compuesto ya láminas bidimensionales átomos ar carbono hibridados ko ya sp2 ne ya dispuestos hexagonalmente, ar grafeno, ne bí apilan ar regularmente. Ya láminas ar grafeno grosor komongu 'nar átomo, o̲t'e grafito ya interacciones hingi enlazantes, bí caracterizan ja 'nar superficie extremadamente dätä. Ar grafeno gi 'ñudi 'nar resistencia ne firmeza 'mefa a lo largo de yá niveles basales da alcanza ko aprox. 1020 GPa kasu̲ ár hmädi resistencia ar diamante.
Ar grafeno ge 'nar 'mu̲i estructural básico ar 'ra ya alótropos, ja, 'nehe ar grafito, 'nehe ya nanotubos carbono ne ya fullerenos. Utilizado komongu ar aditivo, ar grafeno to mejorar drásticamente ya propiedades eléctricas, físicas, mecánicas ne ar barrera ya compuestos poliméricos ko cargas extremadamente bajas. (Xu, Suslick 2011)
Ja yá propiedades, ar grafeno ge 'nar he̲'mi superlativos ne, ir prometedor pa ya industrias da producen materiales compuestos, recubrimientos wa microelectrónica. Geim (2009) pede grafeno komongu supermaterial ya nt'ot'e concisa jar Xtí xeni:
"Ge ar he̲'mi mäs delgado jar ximha̲i ne ar mäs xí nze̲di ne bí xifi hingi medido. Yá portadores carga exhiben 'nar movilidad intrínseca gigante, pe̲ts'i ar masa efectiva mäs t'olo (ar cero) ne xi viajar distancias micrométricas hinda dispersar bí ma mpat'i ambiente. Ar grafeno to soportar densidades corriente 6 órdenes t'uti hñe̲he̲ ja ya ja ar cobre, gi 'ñudi 'nar conductividad térmica ne rigidez récord, ar impermeable ja ya gases ne concilia cualidades ngut'ä conflictivas komongu ar fragilidad ne ar ductilidad. Ar transporte electrones ja ar grafeno ar pede ir nge 'nar ecuación similar jar ar ar Dirac, da permite ár nthoni ya fenómenos cuánticos ar relativistas ja 'nar experimento laboratorio.
Nu'bya gi excelentes características ar hñei, ar grafeno ge 'na ya materiales mäs prometedores ne o 'mu̲i jar foco ár nthoni nanomateriales.
Posibles aplicaciones ar grafeno
Aplicaciones biológicas: 'nar ejemplo ya nt'ot'e ultrasónica grafeno ne ár njapu'befi biológico xta ar estudio jar hmä "Synthesis of Graphene — Gold Nanocomposites via Sonochemical Reduction" ar Park et jar ar. (2011), ho bí sintetizó 'nar nanocompuesto a partir de nanopartículas reducidas óxido grafeno — k'axt'i (Au) reduciendo simultáneamente ya iones k'axt'i ne depositando nanopartículas k'axt'i jar superficie óxido grafeno reducido. Pa ár hño ja ar reducción iones k'axt'i ne ar generación funcionalidades oxígeno da anclar ya nanopartículas k'axt'i jar óxido grafeno reducido, ar aplicó irradiación ultrasónica bí mezcla ar reactivos. Producción biomoléculas modificadas ko péptidos fijadores k'axt'i gi 'ñudi ár hne ar irradiación ultrasónica grafeno ne compuestos grafeno. Ir ar ultrasonido gi 'bu̲i 'nar herramienta adecuada pa ndi hoki ma 'ra ya biomoléculas.
Electrónica: Ar grafeno ge 'nar hñei altamente funcional pa ar sector electrónico. Nu'bya ar mextha movilidad ja ya portadores carga mbo ja ar red ar grafeno, ar grafeno ge ya dätä 'befi pa ár nte ya componentes electrónicos ar rápidos jar tecnología mextha ar frecuencia.
Sensores: Ar grafeno exfoliado ya ultrasonidos ar tsa̲ da utilizar pa ar producción sensores conductométricos altamente sensibles ne selectivos ('mu̲i resistencia cambia rápidamente >10 000% jar vapor etanol saturado) ne ultracondensadores ko capacitancia específica (120 F/g), densidad nts'edi (105 kW yá kg) ne densidad energía (9,2 Wh yá kg) extremadamente altas. (An et jar el. 2010)
Alkol: Pa ar producción alkol: 'nar nt'ot'e secundaria to da njapu'befi ya grafeno jar producción alkol, nu'bu̲ ya membranas grafeno ar xi zu̲di pa destilar alkol ne, ir da da bebidas ya alcohólicas 'bu̲hu̲ mäs fuertes.
Ngu ya he̲'mi mäs xí nze̲di, ar mäs conductor ñot'i ne 'na ya mäs ligeros ne flexibles, ar grafeno ge 'nar hñei prometedor pa células solares, catálisis, pantallas transparentes ne emisivas, resonadores micromecánicos, transistores, komongu cátodo jar baterías litio-aire, pa detectores químicos ultrasensibles, recubrimientos conductores, nja'bu komongu da njapu'befi komongu aditivo jar compuestos.
Ar ndui funcionamiento ya ultrasonidos alta ir nge
Nu'bu̲ ar sonican líquidos da altas ya intensidades, ya ondas sonoras da propagan jar made líquido gi lugar da ciclos alternos mextha presión (compresión) ne xí hñets'i'i presión (rarefacción), ko tasas da dependen ar frecuencia. Nxoge ar ciclo xí hñets'i'i ya presión, ya ondas ultrasónicas mextha intensidad crean t'olo burbujas vacío wa vacíos ja ar líquido. Nu'bu̲ ya burbujas alcanzan volumen ja ya hingi xi absorber energía, colapsan violentamente Nxoge 'nar ciclo mextha ar presión. Nuna ar fenómeno bí denomina ar cavitación. Nxoge ar implosión ar alcanzan localmente temperaturas xi altas (aprox. 5.000 ë) ne presiones (aprox. 2.000 atm). Ar implosión ar burbuja cavitación 'nehe xta lugar da chorros líquido asta 280 m/s ar velocidad. (Suslick 1998) Cavitación generada ya ultrasonidos provoca efectos químicos ne físicos, nä'ä xi da t'uni ar ja ya procesos.
Ar sonoquímica inducida ya cavitación proporciona 'nar interacción única entre ar energía ne ar materia, ko puntos mañä mbo ja ya burbujas ~5000 K, presiones de ~1000 bar, velocidades de calentamiento y enfriamiento de >1010 ë s — 1; Gi nkohi 'mefa permiten ár nthogi ja 'nar gama espacios reacción química normalmente hingi accesibles, nä'ä permite síntesis 'nar nt'ot'e ho 'bui ndunthe variedad materiales nanoestructurados inusuales. (Explosión 2010)
Bibliografía yá Referencias
- FactSheet: Ultrasonic Graphene Exfoliation and Dispersion – Hielscher Ultrasonics – english version
- FactSheet: Exfoliación y Dispersión de Grafeno por Ultrasonidos – Hielscher Ultrasonics – spanish version
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Hielscher Ultrasonics fabrica homogeneizadores ultrasónicos mar hñets'i rendimiento ma partir ar laboratorio Pa tamaño industrial.