Dispersión ultrasónica sílice (SiO2)
Ar sílice, 'nehe conocida komongu ar SiO2, nanosílice wa microsílice, ar gi japu̲'be̲fi pasta ts'i, su̲mento, caucho sintético, polímero mar hñets'i rendimiento wa jar productos alimenticios komongu ar espesante, adsorbente, agente antiaglomerante wa portador fragancias ne sabores . Tso̲kwa continuación, da meya mäs dige ya usos ar nanosílice ne ar microsílice ne honja ya efectos sonomecánicos ya ultrasonidos xi mejorar jar dätä nt'ot'e ar proceso ne ar rendimiento ar producto final ar fabricar mpädi mäs xi suspensiones sílice ne ár hño ja ar síntesis nanopartículas sílice.
Ventajas dispersión ultrasónica nano sílice (SiO2)
Ar sílice xi disponible jar nt'ot'e ho 'bui ndunthe 'nar gama formas hidrofílicas ne hidrofóbicas ne pe̲ts'i 'nar tamaño ar partícula extremadamente fino ar pocos 'ra micrómetros asta 'ra ya nanómetros. Ir 'me̲t'o general, ar sílice hingi ar dispersa xi hño 'mefa xta ar humectación. 'Nehe agrega xingu ya microburbujas bí formulación ar producto. Ar ultrasonicación ge 'nar tecnología proceso xi hño pa dispersar ar microsílice ne ar nanosílice ne da hñäki ya ar gas disuelto ne ya microburbujas ar formulación.
Ar dispersión ultrasónica ge 'nar técnica gi japu̲'be̲fi ondas ultrasónicas mextha intensidad ne baja frecuencia pa dispersar ne desaglomerar partículas ja 'nar made líquido. Nu'bu̲ t'o̲t'e ar dispersión sílice ne nanosílice, ar dispersión ar ultrasónica ofrece ndunthe ya ventajas:
Ar mahyoni da tamaño partícula ar sílice
Pa dí aplicaciones sílice tamaño nanométrico wa micrométrico, ar na mahyoni 'nar dispersión hño ne ya uniforme. Tso̲kwa menudo, bí requiere 'nar suspensión sílice monodispersa, ngu, pa ar t'e̲ni ya tamaño partícula. Da particular, pa ár njapu'befi tintas wa ya recubrimientos ne ya polímeros pa mejorar ar resistencia ya arañazos, ya partículas sílice tsa to bí suficientemente t'olo Komo pa hingi interferir ko ar tsibi visible nu'bu jar neblina ne da zeti ar transparencia. Mäs xingu ya recubrimientos, pa ya partículas sílice tsa da menores ar 40 nm pa da tsoni ko nuna ar requisito. Pa ma 'ra ya aplicaciones, ar aglomeración partículas sílice dificulta ke ya partícula sílice 'natho interactúe ko ya nt'ot'e circundantes.
Ya homogeneizadores ultrasónicos ya mäs pädi jar dispersión sílice da ma'ra nt'ot'e mezcla mar hñets'i cizallamiento, komongu ya mezcladores rotativos wa ya agitadores tanque. Xtí ar tsita gi 'ñudi 'nar nt'uni típico dispersión ultrasónica sílice pirógena jar dehe.
Dätä nt'ot'e procesamiento jar reducción tamaño sílice
Dispersión ultrasónica nano — sílice ge mäs xi ngu ya nt'ot'e mezcla mar hñets'i cizallamiento, komongu 'nar IKA Ultra — Turrax. Ya ultrasonidos producen suspensiones 'nar tamaño ar partícula sílice mäs pequeño ne ar ultrasonicación ge ar tecnología mäs nt'ot'e xi hño ndezu̲ ar punto ar thandi energético. Pohl ne Schubert compararon ar reducción ar tamaño partícula Aerosil 90 (2% jar be̲xu) jar dehe utilizando 'nar Ultra — Turrax (ko ya rotor-estator) ko ar ar 'nar Hielscher UIP1000hd (dispositivo ultrasónico ar 1kW). Xtí gráfico gi 'ñudi ya resultados t'uti hñe̲he̲ ar proceso ultrasónico. Komongu ar nt'uni ár estudio, Pohl concluyó nä'ä hmä "energía específica nzäm'bu̲, ultrasonido EV ar mäs efectivo da ko ya rotor-estator". Ar dätä nt'ot'e energética ne ar uniformidad ar tamaño ya partículas sílice ya suma ya mahyoni da ja ya procesos producción, ho costo fabricación, ar mfeni jar proceso ne ya ar producto mahyoni.
Nuya ya imágenes muestran ya resultados Pohl obtuvo ir nge ar sonicación gránulos ar sílice liofilizados ya pulverización.
Dispersores ultrasónicos mar hñets'i rendimiento pa formulaciones sílice mextha ar hño
Hielscher Ultrasonics ge 'nar empresa ya meni alemana especializada ár nte, fabricación ne suministro homogeneizadores ultrasonidos mar hñets'i rendimiento pa ar nt'ot'e ya líquidos, ar suspensiones ne ar pastas ko carga sólida. Ya homogeneizadores ultrasónicos Hielscher procesan ya nt'ot'e fiable lodos sílice ne ma 'ra ya nanosupensiones da uni 'na especificación deseada. 'Nehe ya formulaciones ar productos xi sensibles, abrasivas wa na viscosas xi dispersar da ne desaglomerarse ar 'mui nt'ot'e xi hño ir nge ya ultrasonidos. HMUNTS'UJE ultrasonidos avanzados ya extremadamente versátiles ne ofrecen sofisticadas posibilidades ár nt'ot'e lotes ne jar 'ñu. Fiabilidad ya altos estándares ar hño ne ar reproducción resultados ya características clave dispersión ultrasónica sílice.
Ya ultrasonidos thuhú generación 'mui industrial Hielscher pede yá 'bede ko 'nar menú inteligente ne hei ar zu̲di, ajustes programables, protocolización automática datos 'na jar tarheta SD 'mui, control remoto ar navegador ne ar mextha ar robustez.
Ar amplitud ge ar parámetro xí influyente nu'bu̲ t'o̲t'e procesamiento ultrasónico. Ar amplitud bí refiere ar desplazamiento máximo wa yá 'ñäni ya pico da pico 'nar onda ultrasónica. Pa ar dispersión ultrasónica, ar desaglomeración ne ar molienda húmeda, tso̲kwa menudo ar requieren dätä amplitudes jar 'mui da t'uni xingu energía pa ar reducción ar tamaño ya partículas. Ya procesadores ultrasónicos industriales ar Hielscher ar xi ofrecer amplitudes excepcionalmente altas. Las amplitudes de hasta 200 μm se pueden ejecutar fácilmente de forma continua en funcionamiento 24/7. Pa amplitudes aún mi pe̲ts'i, mahyoni da 'mui sonotrodos ultrasónicos personalizados.
Tamaño pequeño ne mediano R&Ndezu̲ ar ultrasonidos D ne piloto asta sistemas industriales da fabricación yá 'ma sílice jar modo continuo, Hielscher Ultrasonics pe̲ts'i ar procesador ultrasónico adecuado da cubrir yá ndu procesamiento mäs xi ngu ya sílice.
- Mextha ya dätä nt'ot
- Tecnología ar ngäts'i ar generación
- fiabilidad & robustez
- Control proceso ajustable ne preciso
- lote & Inline
- pa 'na volumen
- Software inteligente
- Ya 'befi inteligentes (hne. ej., programables, protocolización datos, control remoto)
- Hei ne pädi xi hño ar operar
- Jár nja
- CIP (limpieza in situ)
Diseño, Fabricación ne Consultoría – Hño Made in Germany
Ya ultrasonidos Hielscher ya conocidos ya mäs altos yá estándares ya hño ne ya diseño. Ar robustez ne ar facilidad manejo permiten 'nar integración fluida ar HMUNTS'UJE ultrasonidos jar instalaciones industriales. Ya nkohi adversas ne ya entornos exigentes ya hingi hembi da manejables ir nge ya ultrasonidos Hielscher.
Hielscher Ultrasonics ge 'nar empresa certificación ISO ne pone hontho énfasis ja ya ultrasonidos mar hñets'i rendimiento da pede yá 'bede tecnología vanguardia ne facilidad njapu'befi. Hä, ya ultrasonidos Hielscher cumplen ko ar normativa CE ne cumplen ya requisitos ar UL, ar CSA ne ar RoHs.
Xtí tabla bí xta ar 'nar indicación ya mfeni ya procesamiento aproximada ar HMUNTS'UJE ultrasonidos:
Volumen lote | Gasto | Dispositivos recomendados |
---|---|---|
0.5 1.5mL | n.d. | VialTweeter | Ar 1 jar 500 ml | Ar 10 200 ml yá min | UP100H |
Ar 10 da 2000 ml | Ar 20 400 ml yá min | UP200Ht, UP400St |
0.1 da 20L | 0.2 4 L yá min | UIP2000hdT |
Ar 10 da 100L | Ar 2 10 l yá min | UIP4000hdT |
Ar 15 ma 150L | Ar 3 15 l yá min | UIP6000hdT |
n.d. | Ar 10 100 L yá min | UIP16000 |
n.d. | Mar dätä | Racimo ar UIP16000 |
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¿Temu̲ ar sílice (SiO2, dióxido silicio)?
Ar sílice ge 'nar compuesto químico xi t'o̲t'e silicio ne oxígeno ko ar fórmula química SiO2, wa dióxido silicio. 'Bu̲i xingu ya formas 'na'ño sílice, komongu ar cuarzo fundido, ar sílice pirógena, gel sílice ne ya aerogeles. Ar sílice nuna ar dängo komongu 'nar compuesto varios minerales ne komongu producto sintético. Ar sílice o mäs comúnmente jar 'mui komongu cuarzo ne varios ya vivos. Dióxido silicio ar obtiene ir nge ar extracción ne ar purificación ar cuarzo. Ya hñu formas ja ya sílice amorfa ya sílice ar pirogénica, ar sílice ar precipitada ne ar gel sílice.
Sílice pirógena yá Sílice pirogénica
Combustión tetracloruro silicio (SiCl4) jar 'nar llama ar hidrógeno tu jar oxígeno produce 'nar 'bifi ya SiO2 – Sílice pirógena. Alternativamente, ar vaporización arena cuarzo ja 'nar nsä'mi eléctrico 3000 °C 'nehe produce sílice pirógena. Ja ga̲ yoho ya procesos, ya gotas microscópicas da t'ot'e 'na ar sílice amorfa ar fusionan jar partículas secundarias tridimensionales ramificadas, ja ya cadena. Tso̲kwa continuación, gi partículas ar secundarias bí aglomeran ja 'nar polvo nt'axi 'nar densidad aparente extremadamente xí hñets'i'i ne 'nar superficie xi mextha. Tamaño partícula primaria ar sílice pirógena hingi porosa xi entre 5 ne 50 nm. Ar sílice pirógena pe̲ts'i 'nar ntsoni espesante na mpa. Ir sílice ar pirógena ar gi japu̲'be̲fi komongu relleno jar elastómeros silicona ne za viscosidad jar pinturas, revestimientos, adhesivos, tintas impresión wa resinas ar poliéster insaturadas. Ar sílice ar pirógena ar tsa̲ da japi pa gi dá hidrófoba wa hidrófila pa aplicaciones líquidas orgánicas wa ya acuosas. Ar sílice hidrofóbica ge 'nar componente antiespumante xi hño (agente antiespumante).
'Yot'e clic nuwa pa da lei dige ar desgasificación ne ar desespumación ultrasónicas.
Sílice pirógena ko ya 'bede CAS 112945 — 52 — 5
'Bifi ya sílice yá Microsílice
Ar 'bifi sílice ge 'nar polvo ultrafino tamaño nanométrico, 'nehe conocido komongu ar microsílice. Ar 'bifi sílice hingi da confundir ar ko ar sílice pirógena. Proceso producción, morfología ya partículas ne ya campos nt'ot'e 'bifi ya sílice ya 'na'ño ya ja ar sílice pirógena. Ar 'bifi sílice ge 'nar nt'ot'e amorfa, hingi cristalina ne polimorfa SiO2. Ar 'bifi sílice xí partículas esféricas ko 'nar diámetro made partícula 150 ar nm. Ár nt'ot'e mäs destacada jár 'bifi ya sílice ge ngu ya he̲'mi puzolánico pa hormigón mar hñets'i ar rendimiento. Ar agrega ja ar concreto su̲mento Portland da mejorar ya propiedades ar concreto, komongu ar resistencia ar compresión, ya ndu nzafi mfats'i ne ar resistencia ar abrasión. Ma'bu̲ ar eso 'bifi ya sílice reduce ar permeabilidad ar hormigón bí iones ar cloruro. 'Me̲hna Hinte da ar asero refuerzo ar hormigón ar corrosión.
Da uni mäs ungumfädi dige ar mezcla ultrasónica su̲mento ne jár 'bifi ya sílice, 'yot'e clic nuwa.
'Bifi ya sílice 'bede CAS: 69012 — 64 — 2, jár 'bifi ya sílice 'bede EINECS: 273 — 761 — 1
Sílice precipitada
Ar sílice precipitada ge 'nar dets'e amorfa sintética pulverulenta nt'axu̲nwani SiO2. Ar sílice ar precipitada ar gi japu̲'be̲fi komongu ar relleno, suavizante wa mejora ar rendimiento jar plásticos wa caucho, ngu, neumáticos. Ma 'ra ya usos incluyen agentes limpieza, espesantes wa pulidores jar pastas dentales.
Da uni mäs ungumfädi dige ar mezcla ultrasónica jar fabricación pasta ts'i, 'yot'e clic nuwa.
Ya partículas ngú sílice pirógena pe̲ts'i 'nar diámetro de entre 5 ne 100 nm, mente da tamaño ar aglomerado ar asta 40 μm ne ar tamaño made ya poros ar mäs xi ngu 30 ar nm. Getho bí thogi goho ar sílice pirogénica, ar sílice precipitada hingi ar esencialmente microporosa.
Ar sílice ar pirógena bí produce ya precipitación a partir de 'nar njäts'i nä'ä contiene sales silicato. 'Me̲fa 'nar reacción 'nar njäts'i ya silicato neutro ko 'nar ácido mineral, ya soluciones ácido sulfúrico ne silicato sodio ar agregan simultáneamente ko ar agitación, komongu agitación ultrasónica, da ar dehe. Ar sílice precipita jar nkohi ácidas. 'Nehe ar factores, komongu ar duración ar precipitación, ar tasa adición ar reactivos, ar mpat'i ne ar concentración ne ar pH, ar nt'ot'e ne ar intensidad ar agitación xi variar ya propiedades ar sílice. Ar agitación sonomecánica ja 'nar cámara reactor ultrasónico ge 'nar nt'ot'e xi hño pa da producir 'nar tamaño partícula consistente ne uniforme. Agitación ultrasónica ma temperaturas elevadas evita formación 'nar etapa gel.
Da uni mäs ungumfädi dige ar precipitación asistida ya ultrasonidos nanomateriales, komongu ar sílice precipitada, 'yot'e clic nuwa.
Sílice precipitada 'bede CAS: 7631 — 86 — 9
Sílice coloidal yá Coloide ya sílice
Ar sílice coloidal ge 'nar suspensión partículas finas ar sílice hingi porosas, amorfas, da su mayoría esféricas, nu'bu̲ 'nar fase líquida.
Ya usos mäs pa ngatho ja ya coloides sílice ya Honja coadyuvante ar drenaje jar fabricación ar he̲'mi, abrasivo pa ar pulido obleas silicio, catalizador jar procesos químicos, absorbente humedad, aditivo pa recubrimientos resistentes ja ar abrasión wa ar tensioactivo pa floculación, coagulación, dispersión wa estabilización.
Da uni mäs ungumfädi dige ar sílice coloidal jar recubrimientos poliméricos resistentes 'na jar abrasión, 'yot'e clic nuwa.
Producción sílice coloidal ge 'nar proceso varios ar pasos. Neutralización parcial 'nar njäts'i ya silicato alcalino conduce ma formación núcleos sílice. Ya subunidades ya partículas sílice coloidal nzäm'bu̲ 'bu̲i ar rango entre 1 ne 5 nm. Dependiendo de ya nkohi polimerización, gi subunidades ar xi unir entre hä. Ya ar reducir ar pH por debajo de 7 wa ir nge ar adición sal, ya unidades tienden ma fusionar ar jar cadenas, nä'ä da menudo ar denominan geles sílice. Nä'ä contrario, ya subunidades permanecen separadas ne crecen gradualmente. Ya productos da t'ot'e 'na tso̲kwa menudo ar denominan soles sílice wa sílice precipitada. 'Nar suspensión sílice coloidal estabiliza ir nge ar za ar pH ne gem'bu̲ bí concentra, ngu, ya evaporación.
Da uni mäs ungumfädi dige ya efectos sonomecánicos ja ya procesos sol-gel, 'yot'e clic nuwa.
Riesgo pa ar nzaki ar sílice
Ar dióxido ar silicona cristalino seco wa transportado ir nge ar ndähi ge 'nar carcinógeno pulmonar ngi nä'ä to causar enfermedades pulmonares graves, cáncer pulmón wa enfermedades autoinmunes sistémicas. Nu'bu̲ polvo sílice ar inhala ne ku̲t'i ja ya pulmones, provoca ar formación tejido cicatricial ne reduce ar mfeni ya pulmones pa absorber oxígeno (silicosis). Ar humectación ne ar dispersión ar SiO2 'nar fase líquida, ngu, ir nge homogeneización ultrasónica, elimina riesgo inhalación. Ir ar riesgo da 'nar producto líquido da contiene SiO2 cause silicosis bi na hñets'i'i. Utilice 'nar equipo ar 'ba̲ts'i jä'i adecuado nu'bu̲ manipule sílice ja ya polvo seco.
Ot'a
- Vikash, Vimal Kumar (2020): Ultrasonic-assisted de-agglomeration and power draw characterization of silica nanoparticles. Ultrasonics Sonochemistry, Volume 65, 2020.
- Rosa Mondragon, J. Enrique Julia, Antonio Barba, Juan Carlos Jarque (2012): Characterization of silica–water nanofluids dispersed with an ultrasound probe: A study of their physical properties and stability. Powder Technology, Volume 224, 2012. 138-146.
- Pohl, Markus; Schubert, Helmar (2004): Dispersion and deagglomeration of nanoparticles in aqueous solutions. PARTEC 2004.